【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも１種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を５０℃以上１５０℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを５０℃以上１５０℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して５０質量％より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】得られるパターンの解像度及びラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物、これを実現する化合物及び樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂ならびにこの樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有していてもよいＣ₁〜Ｃ_６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す；Ａ^１は、単結合又は２価のＣ₁〜Ｃ₁₇飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂と、式（Ｄ’）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ₁〜Ｃ₆ペルフルオロアルキル基を表す。ＵはＣ_１〜Ｃ_２０２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−等で置き換わっていてもよい。Ｘ^１は−Ｏ−ＣＯ−等を表す。Ａ^＋は有機対イオンを表す。Ｒ’^１〜Ｒ’^４は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル基、置換基を有していてもよいＣ₃〜Ｃ₃₀飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよいＣ₂〜Ｃ₂₀アルケニル基を表す。Ａ’^１は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₃₆炭化水素基を表し、該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。］
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【課題】金属部材を表面処理で耐食性、耐摩耗性を向上させる。
【解決手段】表面処理より表面処理膜２が形成された金属部材１に、該金属部材１の使用温度よりも５℃以上高い温度で熱処理を施し、表面処理膜２に熱歪みを生じさせ、熱処理後の金属部材１をフッ素化合物及び／又はシリコン化合物を含有する溶液に浸漬し、含侵させ、次に表面処理膜２とフッ素化合物及び／又はシリコン化合物と重合させ、表面処理膜２にフッ素化合物及び／又はシリコン化合物による更なる表面処理を施し、金属部材の耐食性、耐摩耗性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基等で置換されていてもよく、該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は２価飽和炭化水素基を表し；Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基等で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基等で置換されていてもよい；Ｔは骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】１回のジェッティングで比較的厚い膜（２μｍ以上）を形成することができる、ポリイミド形成成分を高濃度で含有するインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（ａ１）と、該化合物（ａ１）以外の、下記一般式（１）で表されるモノアミン化合物（ａ２）とを用いて得られるアミド酸（Ａ）、およびアミノ基を有する化合物（ｂ１）と、該化合物（ｂ１）以外の、下記一般式（２）で表される、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ２）とを用いて得られるアミド酸（Ｂ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のアミド酸を含む熱硬化性組成物：
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【課題】高発光効率で低電圧駆動が可能な、大面積化、量産化に適した、高分子材料およびこれを用いた有機発光素子を提供する。
【解決手段】式（１）


〔式中、Ａはフェニル基が置換されていてもよいトリフェニルホウ素基、Ｒ¹⁶は、水素原子、または炭素数１〜１２のアルキル基を表わす。Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、またはヘテロ原子を有してもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表わす。〕で示されるホウ素を含有するモノマー単位と、発光性モノマー単位を含む高分子化合物、前記ホウ素を含有するモノマー単位を含む高分子化合物と発光性化合物を含有する発光性組成物、及び前記発光性組成物を用いた有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】
難着霜性および除霜性に優れ、その優れた性能を長期間持続することが可能な被膜を形成できる親水化処理組成物、及び該親水化処理組成物を塗装してなる親水性被膜を有する熱交換器用部品を提供すること。
【解決手段】
特定の構造を有するポリエーテル化合物と反応して結合を形成することの可能な官能基を有する重合性不飽和モノマーと該ポリエーテル化合物の反応により得られるポリエーテル基含有重合性不飽和モノマーを含むモノマー混合物を重合して得られるポリエーテル基含有アクリル樹脂（Ａ）と架橋剤（Ｂ）を含んでなることを特徴とする親水化処理組成物。 （もっと読む）

【課題】高速調光材料を実用的な消色反応速度もしくは発色濃度とするための制御方法並びに実用的な消色反応速度もしくは発色濃度の高速調光材料を提供する。
【解決手段】ラジカル重合基をもつパラシクロファンで架橋されたヘキサアリールビスイミダゾール化合物を重合させて得られる重合体、もしくは（メタ）アクリル酸系の化合物あるいはラジカル重合基をもつ増感剤と共重合させた共重合体により、消色反応速度や光感度や色調を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（１）樹脂及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、（２）基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、（３）組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写する工程、（４）モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程及び（５）得られた組成物層をモールドから離脱させる工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐候性、防汚性、防曇性に優れた、高透明性の有機無機複合体を形成することができる水系有機無機複合組成物を得る。
【解決手段】粒子径が１〜４００ｎｍの金属酸化物（Ａ）と、
水及び乳化剤の存在下で、加水分解性珪素化合物（ｂ１）と、２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）とを重合して得られる、粒子径が１０〜８００ｎｍである重合体エマルジョン粒子（Ｂ）と、
を、含有し、
前記２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）と、前記重合体エマルジョン粒子（Ｂ）との質量比（ｂ２）／（Ｂ）が、０．０１以上０．０５以下である水系有機無機複合組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス（特に有機エレクトロルミネッセンス素子）、及びそれを実現する重合性単量体とそれを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料（特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料）を提供すること。
【解決手段】下記式で表される化合物に重合性官能基が置換した重合性単量体。
Ａｒ^a−Ａｒ¹−（Ａｒ²）_m−（Ａｒ³）_n−（Ａｒ⁴）_o−Ａｒ^b
（Ａｒ^a及びＡｒ^bは、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる一価の基であり、置換基を有していてもよい。Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる連結基であり、アリール基及びヘテロアリール基以外の置換基を有していてもよい。ｍ、ｎ及びｏは、それぞれ独立に、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】従来提供されているポリマレイミド化合物よりも、より一層耐熱性に優れ、長期間高温条件下においた場合の熱重量減少の少ない硬化物を実現し得るポリマレイミド化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）；ポリマレイミド化合物と、（Ｂ）；芳香族液状反応性希釈剤と、（Ｃ）；アニオン重合促進剤と、（Ｄ）；ラジカル重合促進剤とを含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対する（Ｃ）成分と（Ｄ）成分の合計の含有量が０．００１重量部以上１重量部以下であるポリマレイミド系組成物。 （もっと読む）

【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】乾燥路面での良好な操縦安定性や、転がり抵抗及び耐摩耗性に優れたタイヤを提供すること。
【解決手段】（Ａ）シス−１，４−結合量が７５％以上である共役ジエン系重合体を１０質量％以上含むゴム成分１００質量部に対して、（Ｂ）一般式（Ｉ）で表される化合物及びシリカの少なくともいずれかを含む無機充填剤と、（Ｃ）一般式（II）、一般式（III）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種と、を含むゴム組成物をトレッドに用いたタイヤである。 （もっと読む）

【課題】経時保存安定性や吐出安定性に優れ、インクジェットを用いた高速記録にも適応する、高速高硬化性の液体組成物を提供すること。
【解決手段】アミド化合物、Ｎ−ビニルアミド化合物、及び光重合開始剤を含有してなり、かつ、活性エネルギー線の照射により硬化される水性の液体組成物であって、前記アミド化合物が、特定構造を有するアミド化合物であり、前記Ｎ−ビニルアミド化合物が、特定構造を有するＮ−ビニルアミド化合物であることを特徴とする液体組成物。 （もっと読む）

【課題】欠陥なく均一な液晶層を形成できる液晶層形成用組成物を提供する。
【解決手段】液晶層形成用組成物に、１分子中に２つ以上の重合性官能基を有し且つ屈折率異方性が０．２０以上である液晶性化合物と、環状ケトン構造を有する溶媒と、環状エーテル構造を有する溶媒とを含ませる。 （もっと読む）