【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】優れたラインエッジラフネス及び露光マージンを有するパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用のモノマーを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ａ^１は、２価の連結基を表す。Ｘ^１は、炭素数２〜３６の複素環基を表し、該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^２は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基を表す。ｍは、０〜１０の整数を表す。］
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【課題】電気特性を損なうことなく、耐久性が高く、かつ塗布成膜可能な新規な有機半導体材料となり得る重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置。


〔式中、Ｘ_１及びＸ_２はＯ等を、Ａ_１及びＡ_２は特定のの芳香族基を、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】画像表示装置等の光学機器を製造する際の加熱に対しても種々の光学的特性が安定している重合性液晶材料が硬化されてなる光学素子を製造する方法の提供。
【解決手段】支持体上に重合性液晶材料を塗布し、重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有するように重合性液晶材料を硬化させて光学機能層を形成し、前記光学機能層の形成後に、熱処理後の前記光学機能層の膜厚をＡ、前記光学素子の熱処理の後に再度同じ温度で６０分間加熱した後の前記光学機能層の膜厚をＢ、とした場合に、（Ａ−Ｂ）／Ａで定義される前記光学機能層の膜厚減少率が、５％以下となるように、前記光学機能層を熱処理する、ことを含んでなり、前記重合性液晶材料が、特定の重合性液晶モノマーと、特定の重合性カイラル剤と、重合開始剤として２−メチル−１[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オンとを、質量比で１００：５：５の割合で含む。 （もっと読む）

【課題】微生物の付着抑制能に優れ、かつ、環境に与える影響が小さく、低コストで製造可能な微生物付着抑制材料、並びに該微生物付着抑制材料を用いた微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材の提供。
【解決手段】少なくとも炭素、水素、酸素原子を含み、かつ、合計原子量が１００以上であるペンダント基を側鎖に有するポリマーを含有する微生物付着抑制材料、並びに微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材である。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（ａ）活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び
（ｂ）側鎖にアリール基を有する（メタ）アクリル酸エステル構造単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】有機ＦＥＴなどの有機デバイスとしての用途に有用な有機ナノポーラス材料を作製し得るブロック共重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるカルボン酸基含有重合体における任意の−ＣＯＯＨ基に、特定の水酸基含有オリゴチオフェン誘導体をエステル化反応させてなるブロック共重合体単独、又は該ブロック共重合体と、下記一般式（１）で表されるカルボン酸基含有重合体とを含み、ブロック共重合体におけるオリゴチオフェン含有エステル基と、ブロック共重合体及びカルボン酸基含有重合体の合計中における全カルボン酸との割合が１００：０〜３５超：６５未満（モル比）であることを特徴とする液晶性有機半導体ポリマー。
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【課題】ホスホン酸ポリマー、その製造方法及びその用途に関し、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物及びその製造方法であり、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物を用いた二次電池用バインダー及び燃料電池用電解質膜を提供する。
【解決手段】ポリスチレンの芳香環に下式で表される基が少なくとも１つ導入されたポリスチレン系化合物であることを特徴とするホスホン酸ポリマー。
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【課題】 従来技術の難点を解消し、高い選択性をもって二酸化炭素を他のガスから分離することのできる気体分離膜、その製造方法、及び、該気体分離膜を用いる二酸化炭素の分離方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の気体分離膜は、側鎖に（ポリ）オキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ａ）と、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含むビニルエーテル系共重合体を架橋重合させて得られる高分子膜からなることを特徴とし、又、本発明の二酸化炭素の分離方法は、二酸化炭素を含む混合ガスを、上記気体分離膜に接触させて、該混合ガス中の二酸化炭素を選択的に透過させる工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】有機溶剤（Ｘ）で現像を行うレジストパターン形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物であって、重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）とを含有し、上記重合体（Ａ）は、側鎖にラクトン構造もしくはカーボネート構造を有する特定のアクリル系繰り返し単位を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式（３０）又は（３１）の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式（１）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【課題】基板との密着性及び貯蔵安定性に優れ、感度を維持しつつポストベークの際の熱流れ性を低減することで、微細パターン形成時、位置による光学密度差を生じにくい黒色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたブラックマトリクス及び上記ブラックマトリクスを備えるカラーフィルターの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及びイソボルニルメタアクリレート類を含む単量体の重合反応により得られるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）を含有する、黒色感光性樹脂組成物。


（式中、ｎは２〜４の整数である。） （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目以降のパターニングの影響を受けにくいレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いる樹脂の精製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、樹脂（Ａ１）と有機溶剤（Ｓ１）とを含有する第一のレジスト材料を用いて第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、樹脂（Ａ２）と、該樹脂（Ａ２）を溶解し且つ前記樹脂（Ａ１）を溶解しない有機溶剤（Ｓ２）とを含有する第二のレジスト材料を用いてレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法であって、前記樹脂（Ａ１）を、該樹脂（Ａ１）を溶解せず且つ前記樹脂（Ａ２）を溶解する有機溶剤（Ｗ）を含有する洗浄液で洗浄することにより精製して前記第一のレジスト材料に配合することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位及び式（ＩＩ）で表される構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ａ^１は単結合、−Ｏ−又は−ＣＯ−を表す。Ａ^２は炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ^６はハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。ｍａは０〜４の整数を表す。］
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【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】無機層の上に有機層を設けた態様のバリア性積層体であって、有機層と無機層の密着性と曲げ耐性が良好であり、最外層の有機層の表面の平滑性が良好であるバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）芳香族基を有する（メタ）アクリレートを含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする有機無機積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】柔軟性に優れるとともに、エポキシ樹脂との相溶性が良く、高い耐熱性を有する電子部品用熱硬化性樹脂組成物、該電子部品用熱硬化性樹脂組成物を用いた接着シート及び樹脂付銅箔を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、及び、少なくともビニルアルコール単位、アセタール単位、アセチル単位及び架橋性を有する基を含有する構造単位を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を含有する電子部品用熱硬化性樹脂組成物、該電子部品用熱硬化性樹脂組成物を用いた接着シート及び樹脂付銅箔。 （もっと読む）

【課題】
糖鎖を捕捉するための基材の一つであって、酸性糖を基材表面に固定化可能で、かつ捕捉酸性糖以外の物質の非特異吸着を抑制することで酸性糖のみを安定的に基材表面に捕捉可能な基材を構築する。
【解決手段】
基材の一方の面側に、親水性基を有するモノマーと、前記酸性糖を捕捉可能な官能基を有するモノマーと、環状アルキル基により疎水性基を有するモノマーの共重合体で構成される樹脂層を、基材表面に形成したことにより酸性糖固定基材を作製できた。 （もっと読む）