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Fターム[4J100BA12]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −CO−基 (407)

Fターム[4J100BA12]に分類される特許

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【課題】糖鎖および/または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の(式13)で表される構造を有するモノマー。


(R2はH,CH3,または炭素数2〜5の炭化水素鎖,R6は−O−,−S−,−NH−,−CO−,−CONH−で中断されてもよい炭素数1〜20の炭化水素鎖,[P]は保護基を示す。) (もっと読む)


【課題】MEEF、LWR、CDU及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、[B]下記式(2)で表される光崩壊性を有する塩、並びに[C]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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【課題】所望の光学定数を満たしながら、低粘度および低硬化収縮を実現する複合光学素子用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フルオレン骨格を有する第1の(メタ)アクリレートと、ビフェニル環を有しかつ水酸基を有しない第2の(メタ)アクリレートを含み、前記第1の(メタ)アクリレートの含有率が、4〜42重量%である複合光学素子用樹脂組成物とする。 (もっと読む)


【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 (もっと読む)


【解決手段】環状構造を含む3級エステル型酸不安定基及び/又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び/又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 (もっと読む)


【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(a)で表される構造単位を有する樹脂。


[式中、Rは、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す;Rは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、単結合等を表す;Rは、式(b)で表される基である;---は単結合又は二重結合を表す;x1は1又は2、x2は0又は1、x1+x2=2である。] (もっと読む)


【課題】高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性組成物において、ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS1)と、下記式(a−1)で表される基を有する構造単位(a1)とを含有し、かつ酸の作用により解離して酸性官能基を生じる酸解離性基を実質的に有していない重合体[A1]と、ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS2)を含有し、かつ前記酸解離性基を有する重合体[A2]と、を含むものとする。
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【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含んだ樹脂(P)を含有している。
【化1】
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【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a−0)で表される構成単位(a0)、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式(a−0)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し;aは0〜2の整数であり;bは1〜3の整数であり;cは1〜2の整数であり;a+bは2以上の整数である。
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【課題】複数の位相差部と複数の等方部にパターニングされた光学素子を生産する上で好適な温度範囲にNI点を有し析出物等が発生しない重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される重合性化合物(A)及び下記一般式(2)で表される重合性化合物(B)を含有し、(A)及び(B)の含有量の合計が全重合性化合物の合計量中70〜100質量%であり、(A)/(B)質量比が95/5〜50/50である重合性液晶組成物。
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【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。
【解決手段】重合体成分を含有し、当該重合体成分中に、下記式(1)で表される繰り返し単位(a1)と、式(F1−1)、式(F1−2)及び式(F1−3)で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位(f1)と、を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
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【課題】電池の耐久性を向上しうるバインダーの提供。
【解決手段】電極用バインダーは、シクロヘキシル(メタ)アクリレートとこのシクロヘキシル(メタ)アクリレートと共重合可能なモノマーとを共重合して得られるポリマーを基材とする。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーの形成に使用したモノマー全質量に対する上記シクロヘキシル(メタ)アクリレートの質量の比率は、5.0質量%以上70.0質量%以下である。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーは粒子状を呈している。このポリマーは、コアとこのコアの外側に位置するシェルとを備えている。このシェルは、このコアとは異なる組成を有している。このシェルのガラス転移温度は、−60℃以上65℃以下である。このコアのガラス転移温度は、−60℃以上65℃以下である。 (もっと読む)


【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の20〜100モル%の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第1のレジスト膜を形成する工程と、第1のレジスト膜上に第1のレジスト膜を溶解させない炭素数3〜8のアルキルアルコールを溶媒とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して、第2のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第1と第2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】分岐の形成と官能基の導入を同時に行うことができ、かつ高分岐度と高変性率を達成することができる、分岐変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ランタン系列金属化合物を開始剤に用いて、共役ジエン系単量体を重合させ、共役ジエン系重合体を得る工程と、前記共役ジエン系重合体と、特定構造のアミノ基含有化合物とを反応させる工程と、を有する、分岐変性共役ジエン系重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】マスクエラーファクター(MEF)に優れるレジストパターンが製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含むレジスト組成物。
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【課題】フッ素含有量を大幅に低下させ、大幅にコストを下げても、耐候性に優れた塗膜を形成させることができ、得られる塗膜の光沢の低下を抑えることができるフッ素樹脂水性塗料に好適なアクリル−フッ素複合重合体粒子を提供する。
【解決手段】(A)構造単位としてテトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位およびクロロトリフルオロエチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種のフルオロオレフィン単位ならびにフッ化ビニリデン単位を含むフッ化ビニリデン系重合体部分と、(B)(メタ)アクリル系単量体単位および紫外線吸収部位を有するエチレン性不飽和基含有単量体単位または光安定化部位を有するエチレン性不飽和基含有単量体単位を含むアクリル重合体部分とを含むアクリル−フッ素複合重合体粒子であって、該フッ化ビニリデン系重合体部分(A)の含有量が50質量%以下であるアクリル−フッ素複合重合体粒子。 (もっと読む)


【課題】
常温乾燥型又は比較的低温での焼付け乾燥型の水性塗料組成物に使用したときに、形成される塗膜の耐水性を向上させることのできる変性ビニル系樹脂、及び該樹脂を用いた水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】
カルボキシル基とケトン性カルボニル基とを有する変性ビニル系樹脂であって、該変性ビニル系樹脂が、1級アミノ基、2級アミノ基及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基とケトン性カルボニル基とを有する化合物(A)と、酸無水物基含有ビニル系樹脂(B)とを反応させることにより得られたものであることを特徴とする変性ビニル系樹脂、及びヒドラジン誘導体とを含む水性塗料組成物。 (もっと読む)


【課題】 洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたアミノ基含有重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有する(i)アミノ基含有単量体に由来する構造単位と、(ii)ノニオン性単量体および/または上記以外のアミノ基含有含有単量体に由来する構造単位、とを必須とするアミノ基含有重合体である。 (もっと読む)


【課題】レーザー光を用いて記録することによりデジタルデータから直接製版可能で、更に、pH11以下の水溶液や印刷機上においても現像可能であり、耐刷性を損なうことなく、現像性と、耐汚れ性が優れた平版印刷版の提供。
【解決手段】支持体と、画像記録層を含む少なくとも1つの層とを有する平版印刷版原版であって、前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位からなる重合体を含有する平版印刷版原版。
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【課題】優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I’)で表される化合物とを含有し、樹脂が式(a2−0)で表される化合物に由来する構造単位を有するレジスト組成物。
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