【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、窒素原子を側鎖に含む構成単位（ａ_Ｎ）と、側鎖に、酸解離性基を有するエステル結合を連結基を介して有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物と
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

ａ）式（１）の互いに独立の１つまたは複数の繰り返し構造単位を２０．０〜９８．９９モル％、ｂ）式（２）の互いに独立の１つまたは複数の繰り返し構造単位を１．０〜７９．９９モル％、およびｃ）少なくとも２つのオレフィン性２重結合を有する１種または複数種のモノマーに由来する１つまたは複数の互いに独立の架橋性の繰り返し構造単位を０．０１〜８．０モル％含む水溶性または水膨潤性ポリマーを開示する。これらのポリマーは、例えば、増粘剤または降伏点生成剤として、特に化粧用、皮膚科用、または医薬用組成物において適している。
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【課題】レジスト材料の溶解性に優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤を含有する有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物；第一のレジストパターンが形成された支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程と、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および２−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を有する環式基を含む構成単位、フッ素原子を含む構成単位、および前記各構成単位とは異なる構成単位であって酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
流動性、及び諸耐性に優れる安定なカラーフィルタ用着色組成物、並びに、コントラスト比が高いカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】
前記課題は、酸性顔料、片末端領域に水酸基を有するビニル系重合体の水酸基と芳香族テトラカルボン酸ニ無水物の酸無水物基とを反応して得られた分散剤（Ａ）、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ｂ）、有機溶剤（Ｃ）、活性エネルギー線重合性単量体（Ｄ）、活性エネルギー線重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダー樹脂（Ｆ）を含有してなるカラーフィルタ用着色組成物によって解決することができる。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化塗膜であって、指紋や埃などを簡単に除去することができ、傷付きにくく、有機溶剤にも侵されにくい硬化塗膜を形成し得る活性エネルギー線硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 炭素数６から１１の脂肪酸よりなる脂肪酸エステル構造と、ポリアルキレンオキサイド鎖と、アクリロイル基またはメタクリロイル基とを有する活性エネルギー線硬化性４級アンモニウム塩（Ａ）と、前記活性エネルギー線硬化性４級アンモニウム塩（Ａ）とは異なる活性エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）と、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】 工場排水、用水、環境水、食品、薬品等の被処理溶液中から重金属元素の除去、回収に用いられるキレート樹脂において、被処理溶液中に多量に存在するアルカリ土類金属類の妨害を受けずに重金属元素を高度に捕捉しうる元素選択性に優れたアミノカルボン酸型キレート樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有する化合物が導入された高分子担体を、アルカリ性溶液中でハロゲン化酢酸を用いてカルボキシメチル化する際に、導入された化合物の窒素量の１．０〜３．０倍モルのハロゲン化酢酸を用いてカルボキシメチル化を行うことにより、アルカリ土類金属類の妨害を受けにくい元素選択性に優れたキレート樹脂を製造する。 （もっと読む）

【課題】実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】レジスト組成物が、下記の反応成分：
（１）アルカリ可溶性の重合体からなる基材樹脂、
（２）結像用放射線を吸収して分解し、酸を発生可能な光酸発生剤、及び
（３）前記光酸発生剤から発生せしめられた酸の存在下、前記基材樹脂の重合体と脱水結合反応を行い得る反応部位を有している脂環族系アルコール、
を組み合わせて含んでなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】低損失絶縁材として多様な応用が可能なノルボルネン系重合体及びこれを用いた絶縁材を提供する。
【解決手段】ノルボルネンの５−位又は６−位に少なくとも一つの下記の群から選択される置換基を有し、


（ここで、Ｒ_５、Ｒ_６、及びＲ_７はそれぞれ独立に水素、Ｃ１−Ｃ６のアルキル基、脂環式基で置換されたＣ１−Ｃ６のアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ６のアルケニル基、及び置換または非置換のＣ７−Ｃ３１のアラルキル基からなる群より選択され、ＬはＣ１−Ｃ３のアルキレン基である。）付加重合による繰り返し単位の少なくとも１種を５０〜５００個含むノルボルネン系重合体。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^５は置換基を有していてもよい炭化水素基である。］で表される化合物（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを与え、かつアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、およびこれに好適な感活性光線または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上に、トップコート組成物を用いてトップコート層を形成する工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記感活性光線または感放射線性樹脂組成物として、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を、該組成物中の全固形分に対し少なくとも１０質量％含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いることを特徴とするリソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

輻射線感受性組成物を使用して、感度及び耐溶剤性が改善されたポジ型画像形成性要素を製造できる。これらの要素は、平版印刷版及び印刷回路板を製造するのに有用である。当該組成物は、反復単位の少なくとも２０モル％がヒドロキシアリールカルボン酸エステル基を含み、カルボン酸エステル基のうちの幾つかが環状イミド部分で置換されていてもよい水不溶性バインダーを含む。 （もっと読む）

【課題】各種樹脂との相溶性、接着性、電気絶縁性、低吸水性、熱安定性、界面活性効果に優れたメルカプト基含有共重合体を提供。
【解決手段】モノマーユニットとして式１で示す構造を含むメルカプト基含有共重合体。
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【課題】得られるパターンの形状及びラインエッジラフネスに優れたフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるユニットと、置換可能な基を持つビニルフェノールユニットとを含有する重合体。


（式（Ｉ）中、Ｘは、直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｍは、０〜１５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数のＲ^２は同一であっても異なっていてもよい。） （もっと読む）