【課題】高いΔｎで且つ無色の新規な重合性アゾメチン化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物である。Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ｒ¹及びＲ²は、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜５のアシルオキシ基、炭素原子数２〜４のアシル基、炭素原子数２〜５のアミド基、シアノ基、又はハロゲン原子；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｒ³は、水素原子、又は炭素原子数１〜４のアルキル基；Ｚ¹及びＬ¹はそれぞれ所定の二価基；ｎは０、１又は２である。
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【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。）
【化１】
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【課題】良好な生体適合性を発現するとともにシリコーンモノマーに溶解し、シリコーンソフトコンタクトレンズに適用可能な(メタ)アクリレート系モノマー及びこの重合体を用いたコンタクトレンズを提供する。
【解決手段】式(１)で表されるホスホリルコリン基含有(メタ)アクリレート及びこれをモノマーとして含む重合体を用いたソフトコンタクトレンズ。
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【課題】液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）所定の一般式（ａ１−１）及び（ａ１−３）から選ばれる構造を有する繰り返し単位（ａ１）、所定の一般式（ａ２）で表される繰り返し単位（ａ２）、及び、所定の一般式（ａ３−１）〜（ａ３−４）から選ばれる構造を有する繰り返し単位（ａ３）を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および／またはケイ素原子を含有し、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する樹脂、並びに（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含有するレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［Ｌ^１は^＊１−Ｏ−^＊２、^＊１−Ｏ−ＣＨ_２−^＊２、又は^＊１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＣＯ−Ｏ−^＊２を表す。＊１は−ＣＯ−との、＊２はＹ^１との結合手を表す。ｋ１は１〜３の整数を表す。Ｙ^１は炭素数４〜２０の２価の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^２は炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数２〜７のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアシル基で置換されていてもよい。］
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【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
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【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）を有する第一の重合体を含む重合体成分と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、相互に独立に、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基等を示す。Ｒｆは、少なくとも１つのフッ素原子を有するともに、ＣＯＯＲ^４で表される基を有する有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式（３０）又は（３１）の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式（１）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【課題】透明性、耐熱性に優れ、さらには成形加工性に優れる熱可塑性樹脂を提供する。
【解決手段】押出機にイミド化剤を添加して反応させた後、揮発分を除去する前にエステル化剤を添加して反応させ、イミド樹脂上の酸および酸無水物の量をイミド樹脂のグラム当たりのミリ当量で表現した酸価が０．０５以下であるイミド樹脂。酸成分の量に由来する粘度を下げ、金属ロールとの剥離性の改善し、且つ成形の際に生じる発泡等の不具合も改善された成形体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位及び式（ＩＩ）で表される構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ａ^１は単結合、−Ｏ−又は−ＣＯ−を表す。Ａ^２は炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ^６はハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。ｍａは０〜４の整数を表す。］
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【解決手段】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分を有する樹脂成分（Ａ）と活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）のアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分の脱保護がβ−脱離反応に依らないポジ型レジスト材料であって、
上記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（１−３）で示される単位の１種以上と、更に下記一般式（２）、（３）、（４）及び（５）から選ばれる１種以上の繰り返し単位を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有しており、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性を維持したまま耐折れ曲げ性が向上した塗膜を与える含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）テトラフルオロエチレン構造単位２０モル％以上で４９モル％以下、（ｂ）水酸基とカルボキシル基とを含まない非芳香族系のビニルエステルモノマー構造単位２５モル％以上で６９．９モル％以下、（ｃ）水酸基含有ビニルモノマー構造単位１０．５モル％以上で１５モル％未満、（ｄ）水酸基とカルボキシル基とを含まない芳香族基含有モノマー構造単位２モル％以上で１５モル％以下、（ｅ）水酸基と芳香族基とを含まないカルボキシル基含有モノマー構造単位０．１モル％以上で２．０モル％以下および（ｆ）その他モノマー構造単位０モル％または１０モル％以下からなり、数平均分子量が１４０００〜２５０００である含フッ素共重合体、該共重合体を塗膜形成成分として含む塗料用組成物。 （もっと読む）

【課題】トップロスを抑制して矩形性が良好であり、ＬＷＲ抑制能も満足し、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖に３級炭素を有するエステル基が窒素原子に結合する構造を含む構造単位（１）を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。上記構造単位（１）が、（メタ）アクリレートの側鎖に含まれている構造単位であることが好ましい。上記［Ａ］重合体が、ラクトン構造を含む構造単位及び環状カーボネート構造を含む構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位をさらに有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】無置換ノルボルネンのみならずノルボルネン誘導体の付加重合に対しても十分な触媒活性を有するとともに、安価で化学的安定性が高く、しかも溶媒溶解性に優れるノルボルネン系付加重合用パラジウム触媒を提供する。また、ノルボルネン系付加重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のノルボルネン系付加重合用パラジウム触媒は、０価のパラジウム１個にジベンジリデンアセトン２個が配位した錯体であるビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、又は、０価のパラジウム２個にジベンジリデンアセトン３個が配位した錯体であるトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムであり、エステル基等の置換基が導入されたノルボルネン誘導体の付加重合の触媒として好適である。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１）乃至（５）の何れかにより表される化合物（Ｑ）とを含有している。
【化１】
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【課題】
吸着防止剤をコーティングすることなく、検出対象物質の非特異的な吸着・結合を抑制し、糖、糖鎖、糖ペプチド、糖タンパク、糖脂質またはこれらを有する生理活性物質を固定化できるバイオアッセイ用の高分子化合物及びこれを用いた各種糖鎖アレイ基材を提供すること。
【解決手段】
ホスホリルコリン基を有するユニット、疎水性基を有するユニットおよび一級アミノ基を有するユニットを含むことを特徴とする糖鎖捕捉用高分子化合物であり、該高分子化合物を基材に塗布してなるマイクロチップであって、３０種の糖鎖およびその誘導体のうち、少なくとも一つを固定してなるバイオアッセイ用基材。 （もっと読む）

【課題】通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定のスルホンアミド構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性及び機械強度を示す重合性化合物を提供すること及び屈折率異方性の値が大きく且つ良好な光学特性を示す光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Ｌ_１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｌ_２は、電子求引性基を有する、アルキレン基又はアリーレン基を表し、
Ｌ_１又はＬ_２は、Ｒ_３と結合して５員若しくは６員環を形成していても良い。
Ａｒは、芳香族基を表す。 （もっと読む）