【課題】透明ガラス基板上に、金属ナノ粒子インクを用いて細線パターンを印刷する場合に、インクのハジキや液寄りがなく、表面凹凸の少ない細線パターンを得る。特に、スクリーン印刷において、高精細な細線パターンを得る。さらに、細線パターン上に、ポリマー導電層を積層することで、導電性、透明性、導電性の面均一性に優れた透明電極を実現する。
【解決手段】透明ガラス基板１１上に、金属ナノ粒子を含む金属インクを用いて、金属細線パターンからなる金属導電層１２を形成し、該金属導電層１２の上に、導電性ポリマーからなるポリマー導電層１３を積層する透明電極の製造方法において、該透明ガラス基板１１の２次元表面エネルギーの分散項γｄが、γｄ≧３０ｍＮ／ｍであることを特徴とする透明電極１４の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ペレットのべたつきの少ない変性ポリオレフィン組成物を容易に得ることができる変性ポリオレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】エチレン・プロピレン・１−ブテン共重合体１０〜９０重量部とポリプロピレン９０〜１０重量部との混合物を、有機過酸化物の存在下、不飽和化合物で変性する工程を含む変性ポリオレフィン組成物の製造方法であって、有機過酸化物がジアルキルパーオキサイド化合物のみからなる有機過酸化物であり、不飽和化合物の使用量が、有機過酸化物の使用量１重量部に対して、８〜３５重量部である変性ポリオレフィン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が６．０以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、［Ａ］下記式（１）で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、［Ｂ］フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】 本発明の課題は、大きな屈折率異方性を有し、重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性と高い配向性を有する重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする重合性液晶組成物、更に、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【化１】
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】高収率でレジスト組成物用樹脂を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤（１）及び溶剤（２）の混合溶剤中で、モノマーを重合させることを特徴とするレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。
溶剤（１）：溶解度パラメーターが１１．４〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤；
溶剤（２）：テトラヒドロフラン。
当該製造方法は、重合開始剤の作用によりモノマーを重合することが好ましく、モノマー、重合開始剤及び溶剤（２）を含む混合液を、溶剤（１）中に滴下して、モノマーを重合させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び、酸の作用により前記高分子化合物（Ａ）を架橋する架橋剤（Ｃ）を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】擦傷復元性および耐汚染性に優れ、かつ耐候性、耐薬品性、耐折曲性および耐衝撃性にも優れ、傷付き防止フィルムや加飾フィルムとして有用なフィルムを提供する。
【解決手段】ビニル化合物共重合体およびポリイソシアネートからなる組成物の架橋物からなるフィルムにおいて、該ビニル化合物共重合体が下記モノマー単位：（Ａ）水酸基を有しないビニル化合物（ａモル％）、（Ｂ）水酸基を有する直鎖状または分岐状のアルキル基を有し、該アルキル基の炭素数が１〜６であるビニル化合物（ｂモル％）、および（Ｃ）下記式：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯＯ−Ｙ［ここで、ＲはＨまたはＣＨ_３であり、Ｙは末端に水酸基を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素基であり、Ｙは所望により開環ラクトン基（−ＣＯ−（ＣＨ_２）ｎ−Ｏ−、ここでｎは４〜６の整数である）、カーボネート基（−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、エステル基（−ＣＯ−Ｏ−）、エーテル基（−Ｏ−）およびウレタン基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）から成る群から選択される１以上の基を有していてもよく、かつ１２〜１２０の炭素原子を有する］を有するビニル化合物（ｃモル％）から成り、上記ａ〜ｃが、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００でありかつ下記式（１）および式（２）：３（ｂ＋ｃ）／４≦ａ≦４（ｂ＋ｃ） ・・・（１）および４ｃ／３ ≦ｂ≦４０ｃ ・・・（２）を満たすところのフィルム。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立した基を表すか、またはＲ^４およびＲ^６は両者が結合して炭素数１〜３のアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表す。Ｒ^１１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】粒子径が１０ｎｍから１０μｍの範囲にある単分散性に優れたポリマレイミド微粒子とこれの製造方法を与えること。
【解決手段】下記一般式Ｉで表される繰り返し単位を有するポリマレイミド微粒子であり、これを分散重合法により合成するポリマレイミド微粒子の製造方法。
【化１】


（一般式ＩにおいてＲ_１は置換基を有していても良いアリール基もしくは置換基を有していても良いアルキル基を表し、これらは互いに連結して１個の置換基を形成していても良い。） （もっと読む）

【課題】所定の糖鎖捕捉物質を使った試料調製方法およびその方法により得られる分析試料に関する。
【解決手段】ヒドラジド基を含む物質Ａと、糖鎖および／または糖の誘導体とを、当該物質Ａのヒドラジド基と当該糖鎖および／または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とする試料調製方法であって、糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖および／または糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製出来る。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】糖鎖及び／又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び／又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能にする試料調製方法、及びこの方法により得られる分析試料を提供する。
【解決手段】ヒドラジド基を含む物質Ａと、糖鎖および／または糖の誘導体とを、当該物質Ａのヒドラジド基と当該糖鎖および／または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とし、糖鎖及び／又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び／又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能とし、前記試料調製方法に用いられる糖鎖捕捉物質の製造に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマー。 （もっと読む）

【課題】糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の（式１３）で表される構造を有するモノマー。


（Ｒ2はＨ，ＣＨ3，または炭素数２〜５の炭化水素鎖，Ｒ6は−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，−ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−で中断されてもよい炭素数１〜２０の炭化水素鎖，[P]は保護基を示す。） （もっと読む）

【課題】 紫外線などの活性エネルギー線および空気中の湿分により硬化させることが可能で、柔軟性・高伸び性・耐熱性に優れる硬化性組成物、およびそれより得られる接着剤、特に画像表示装置の空間部充填用接着剤およびそれを用いて製造される画像表示装置の提供。
【解決手段】（ａ）一般式（１）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ^１）＝ＣＨ_２ （１）
（式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する重合体、
（ｂ）一般式（２）：
−［Ｓｉ（Ｒ^２）_２−ｂ（Ｙ）_ｂＯ］_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_３−ａ（Ｙ）_ａ
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する重合体、
（ｃ）分子内にメルカプト基を有する化合物、
を含む硬化性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低発熱性の向上したタイヤを与えるゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤ、特に空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）共役ジエン系重合体の重合活性末端に、充填材表面濃縮能力のある官能基と酸性官能基とをそれぞれ１つ以上有する変性基が結合してなる変性共役ジエン系重合体１０〜１００質量％と、（ａ−２）天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴム９０〜０質量％とからなるゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）無機充填材５〜２００質量部を含み、かつ（Ｃ）該無機充填材と結合可能な原子又は官能基と、チオエステル基及び／又はジチオエステル基と、を有するシランカップリング剤を（Ｂ）該無機充填材に対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等；Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ｒは、ヒドロキシ基、アルコキシ基又は脂肪族炭化水素基；＊は、Ｒ^２との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）１−アルキルシクロペンチル（メタ）アクリレート及び／又は１−アルキルシクロヘキシル（メタ）アクリレート構造の繰り返し単位を１つ以上有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する高分子化合物、（Ｂ）高エネルギー線に感応し下記一般式（３）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤、及び、（Ｃ）下記一般式（４）で示されるスルホン酸オニウム塩を含むレジスト組成物。


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