【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１ａ）、（２）及び（３）で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃を示す。Ｒ²〜Ｒ⁴は、いずれか１つ以上は４−フルオロフェニル基である特定の置換基。Ｒ⁸はＨ、又はアルキル基を示す。ｐは０又は１、Ｂは単結合又は２価の有機基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、Ｘは酸不安定基を示す。） （もっと読む）

【課題】 側鎖にスルホン酸オニウム塩を組み込まれアニオンが樹脂側に固定されたレジスト樹脂であって、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解度の高い樹脂を提供する。
【解決手段】下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有するスルホン酸塩樹脂。


（式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子、ｎは１〜１０の整数。Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜３のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^ＡＯ、Ｒ^ＢＲ^ＣＮのいずれかを表す。Ｍ^＋は、一価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、適切なアルカリ加水分解性を有すると共に、構造の選択により撥水性、滑水性、表面偏在性など各種性能の調整が可能で、例えばフォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成する高分子化合物を提供する。
【解決手段】特定の含フッ素エステル型単量体及び該含フッ素エステル型単量体繰り返し単位を有する高分子化合物、及び該高分子化合物が可視光から波長２００ｎｍ以下までの幅広い波長領域において優れた透明性を有し、また適切なアルカリ加水分解性を有することから、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用で、更に、フォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成するポリマーとして特に有用となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、既存の環状オレフィンの重合方法に比べ、高い活性、高い環状オレフィン取り込み率の製造法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される、炭素原子数４〜３０の環状オレフィン（C）を必須成分として含むことを特徴とするオレフィン重合体およびその製造方法。


〔一般式（Ｉ）中、eは０から２０までの整数であり、Ｒ¹〜Ｒ⁸は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル基置換炭化水素基、炭化水素基置換シリル基から選ばれる原子または基を示し、Ｒ³〜Ｒ⁸で示される基のうち２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】高効率、且つ簡便な工程によって重合体溶液に含まれる金属成分を効果的に除去し、含有金属成分が充分に低減された重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】金属触媒残渣を含む粗重合体より該金属触媒残渣を除去して得られる重合体の製造方法であって、上記粗重合体が溶媒に溶解している粗重合体溶液と、上記溶媒と液液分離が可能なジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、および／またはＮ−メチル−２−ピロリドンからなる非プロトン性極性溶媒とを液液接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】安価で、活性が高く、環境に優しく、かつ、ラジカル開始剤を必要としないリビングラジカル重合方法を提供する。
【解決手段】反応容器の気相中の酸素の量を適切な範囲に制御することにより、触媒を使用しなくてもリビングラジカル重合方法を行うことができる。ラジカル反応性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合反応させて、分子量分布の狭いポリマーを得ることができ、リビングラジカル重合のコストを劇的に低減することができる。本発明は、従来の触媒における毒性、低溶解性、着色・臭いなどの弊害を排除し、従来のリビングラジカル重合方法に比べて格段に環境に優しく経済性に優れる。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−ビニルピロリドンのような親水性モノマーと共重合しても高い透明性を有し、しかも高酸素透過性および高い水濡れ性を有する眼用レンズ用モノマーおよび眼用レンズ用ポリマーの提供。
【解決手段】下記式（ａ）で表されることを特徴とするモノマー。


［式（ａ）中、ＸはＮ−Ｙ、ＯおよびＳから選ばれた基を表す。Ｙはアルコキシカルボニルエチル基、Ｎ−アルキルアミドエチル基などを表す。Ｒ^１はＨおよびメチル基から選ばれた基を表す。Ｒ^２は３−［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピル基、３−［ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル］プロピル基、３−［（トリメチルシロキシ）ジメチルシリル］プロピル基、トリス（トリメチルシロキシ）シリルメチル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリルメチル基およびトリメチルシロキシジメチルシリルメチル基から選ばれた置換基を表す。ｎは０または１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは直接結合又はフェニレン基を表し、Ａはナフチル基又はアントラセニル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィンを製造する触媒システムの助触媒であるホスホニウム化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ホスホニウム化合物助触媒製造方法に係り、詳細には、［（Ｒ_１）−Ｐ（Ｒ_２）_ａ（Ｒ_２’）_ｂ］ＨＸで表示されるプロティック（Protic）ホスホニウム化合物と、［Ｃ］［Ａｎｉ］で表示される塩化合物との反応により、ホスホニウムを有する塩化合物からなる助触媒を製造する方法を提供する。これにより、該ホスホニウム助触媒化合物の製造方法は、極性環状オレフィン重合用助触媒であるホスホニウム塩化合物を高収率で製造できる。 （もっと読む）

【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位と、ラクトン環を有する繰り返し単位の両方を含有する（メタ）アクリレート共重合体と、酸発生剤と、有機溶剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、３−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸２−フェニルエチルから選ばれる溶剤１種以上を４０質量％以上含有する溶液による現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、安全にネガティブトーンパターンを形成できるプロセスを構築できる。 （もっと読む）

【課題】 高い濡れ性を有するアクリル系粘着剤であり、表面保護用粘着シートの粘着剤層として使用した際にも、空気が残存することなく貼り合わせることができ、かつ剥離時の被着体に対する耐汚染性にも優れるアクリル系粘着剤、粘着シート、アクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂（Ａ）、エチレン性不飽和基を１つ含有するオキシアルキレン基含有不飽和化合物（Ｂ）を含有してなるアクリル系樹脂組成物[Ｉ]が、架橋されてなることを特徴とするアクリル系粘着剤。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）〜式（XIII）で表されるオキセタン構造保有のアルカリ可溶性樹脂と、溶剤と、結像用放射線を吸収して分解するとアルカリ可溶性樹脂中のオキセタン構造が反応を起こしめる酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、自体塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリ不溶となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】 新規なビニルアルコール／芳香族ビニル−ランダム共重合体、新規なビニルアルコール／ビニルエステル／芳香族ビニル−ランダム共重合体、およびそれらの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニルシラン／芳香族ビニルをラジカル共重合し、得られた重合体を酸化する。またビニルアルコール／芳香族ビニル−ランダム共重合体をアシル化する。 （もっと読む）

【課題】 螺旋型ポリアセチレンを用いた均一な配向膜を得ることができるＬＢ法による成膜方法を提供する。
【解決手段】 螺旋型ポリアセチレンを液面上に展開し、前記液面上に形成された螺旋型ポリアセチレンの単分子膜を基板に転写して成膜するＬＢ法による成膜方法において、成膜時における、下記式（１）で表される圧縮率Ｐが１×１０^−２ｍ／ｍＮ以下で成膜するＬＢ法による成膜方法。Ｐ＝（１／（ｄＨ／ｄＳ））×（１／Ｓ）・・（１［式中、Ｈは螺旋型ポリアセチレンの単分子膜の表面圧（ｍＮ／ｍ）を表す。Ｓは水面上に展開した螺旋型ポリアセチレンの単分子膜の面積（ｍ^２）を表す。］ （もっと読む）

【課題】高Δｎで且つ着色のない膜の作製に有用な重合性組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物で表される化合物を含む重合性組成物である。Ｐ¹及びＰ²は重合性基；ｍ１及びｍ２は１〜１０の整数；Ａ¹、Ａ²、及びＡ³は置換されていてもよい所定の環状基；Ｒは水素原子又はアルキル基；Ｚ¹は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨＣＯ−、又は−ＮＲ¹ＣＯ−；Ｌ¹及びＬ²は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、又は−ＮＲ¹ＣＯ；ｎ１は１又は２である。
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【課題】高いΔｎで且つ無色の新規な重合性アゾメチン化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物である。Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ｒ¹及びＲ²は、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜５のアシルオキシ基、炭素原子数２〜４のアシル基、炭素原子数２〜５のアミド基、シアノ基、又はハロゲン原子；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｒ³は、水素原子、又は炭素原子数１〜４のアルキル基；Ｚ¹及びＬ¹はそれぞれ所定の二価基；ｎは０、１又は２である。
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【課題】線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるポストベーク後の輝度低下が小さいパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物（好ましくは、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な紫外光レーザー露光用着色感光性樹脂組成物）、並びにそれを用いたパターン形成方法、およびカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分子内に少なくとも（B-1）下記一般式（Ｉ）で表される構造単位と、（B-2）酸性基を有する構造単位とを有するバインダー樹脂、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）オキシム系光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物。
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