【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】単量体の重合転化率が高く、分子量が大きいフッ素含有重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）（但し、Ｒ^１は、水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ^２は、単結合、又は２価の炭化水素基を示し、Ｒ^３は、水素原子、又は１価の有機基を示し、Ｒｆ^１は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子置換されたアルキレン基を示す。）で表される単量体（１）を含有する単量体成分を、下記一般式（Ｓ）（但し、Ｒ^４は、水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアセチル基を示し、ｉは０以上の整数を示す。）で表される溶媒（Ｓ）を含有する溶媒成分中で重合することを含む重合体の製造方法を提供する。
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【課題】現像後のＬＷＲが良好で、膜減りを生じ難い感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と酸解離性基を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、及び（Ｃ）フッ素原子を含有する重合体を含む感放射線性樹脂組成物（但し、一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子などを示し、Ｒ^２は単結合などを示す。Ｒ^３は３価の有機基を示す）。
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【課題】分子量が３００００以上で、かつ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜１．３０のスチレン系重合体を工業的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】非極性又は低極性溶媒５０〜９５重量％と極性溶媒５０〜５重量％とからなる混合溶媒中、有機カリウム化合物の存在下、−１００〜−３０℃の温度でスチレン系単量体をアニオン重合することにより、数平均分子量が３００００以上であり、かつ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜１．３０であるスチレン系重合体を製造する。有機カリウム化合物としては、式〔Ｉ〕：Ｒ−Ｏ⁻Ｋ^＋〔Ｉ〕（式中、Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロアリールカルボニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はヘテロアラルキル基を表す。）で表される化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン表面へのペイントの接着を顕著に改良するプライマーに有用なポリオレフィンの変性方法の提供。
【解決手段】ベンジル性水素又は第二級水素を含まない溶剤中にポリオレフィンを溶解して溶液を形成し、
この溶液中に、不飽和カルボン酸無水物、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸エステル及びラジカル開始剤を添加して、反応混合物を形成し、そして
この反応混合物を変性ポリオレフィンと形成せしめる条件下に反応させて変性ポリオレフィンを形成させる
工程を含んでなるポリオレフィンを不飽和酸で変性する方法。 （もっと読む）

炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（ａ）、ビニルピロリドン単量体（ｂ）、アニオン供与基を有する単量体（ｃ）、および非フッ素（メタ）アクリレート単量体（ｄ）を共重合して得られる含フッ素共重合体を含んでなる紙用耐水耐油剤が開示されており、優れた耐水性および耐油性を付与する。本発明はまた、該耐水耐油剤を含む紙用処理組成物、該処理組成物による紙処理方法、および該耐水耐油剤で処理された加工紙をも開示する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、低温から高温まで幅広い範囲の焼き付け条件において良好な密着性能を有し、且つ耐水性や耐薬品性に優れた変性ポリオレフィン水性樹脂分散体を得ることが出来る変性ポリオレフィン樹脂水性分散体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であり、なお且つＤＳＣ融解ピークが３５〜１３０℃であるポリオレフィン（Ａ）と重量平均分子量が１５０，０００〜５００，０００であり、なお且つＤＳＣ融解ピークが３５〜１０５℃であるポリオレフィン（Ｂ）を混合したポリオレフィン混合物に対して、不飽和カルボン酸類（Ｃ）を付加重合させ、そのグラフト率が２〜２０％である変性ポリオレフィン樹脂を水に分散することを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂水性分散体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基のＨが下記一般式（１）の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法であり、
前記レジスト組成物が、
（Ａ）酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｄ）溶剤、及び、
（Ｇ）フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する化合物
を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｚ²は、２価のＣ_１−１７飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ^３２）−で置き換わっていてもよい。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】硬化が速く、表面硬化性、薄膜硬化性に優れており、かつ、酸素による重合阻害を受けにくく、硬化収縮率が小さく、ラジカル硬化型の反応性希釈剤として有用な、新規なラジカル重合性単量体、および該ラジカル重合性単量体を含んでなる硬化性組成物と、その硬化方法を提供することを目的とする。また、該硬化方法により得られる、密着性、機械物性に優れた硬化物を提供することをも目的とする。
【解決手段】下記式（１）；
［化１］


（式中、Ｒは、水素原子又は１価の有機基を表す。該有機基は、炭化水素で構成され、エーテル基を有していてもよく、該炭化水素の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）で表されるラジカル重合性単量体であって、１３３３Ｐａ条件下での沸点が９５℃以上であることを特徴とするラジカル重合性単量体。 （もっと読む）

【課題】ハードコート材の基材とハードコート層との間に設けられるプライマー層を形成する際に好適に用いられ、かつ、実質的に溶剤を含有しない感光性組成物、その感光性組成物を用いて形成されたプライマー層を有するハードコート材、及びそのハードコート材を備えた画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性組成物は、トリアセチルセルロースに対して相溶性である単官能の重合性化合物（Ａ）と、カルボキシ基、水酸基、イミド基、及びアミド基の少なくとも１種を有し、かつ、トリアセチルセルロースに対して非相溶性である単官能の重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、実質的に溶剤を含有しない。（Ａ）の含有量は、（Ａ）と（Ｂ）との合計に対して２５モル％以上である。また、該感光性組成物中の重合性化合物に占める単官能の重合性化合物の割合は９０モル％以上である。 （もっと読む）

【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(Ａ)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(Ｂ)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(Ｃ)溶剤を含有してなり、光酸発生剤（Ｂ）の含有率が、該組成物の全固形分を基準として８〜２０質量％であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
（もっと読む）

【課題】鋳型、特にポリカーボネート製鋳型からの離型性が良好であり、かつ硬化収縮による基板の反りが小さい硬化物を得ることが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に１個以上の脂肪酸残基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物、および、（Ｂ）（Ａ）成分以外の分子内に１個〜３個の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物であって、ポリカーボネート樹脂溶解性試験に陰性である重合性化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物；およびこの硬化型樹脂組成物の硬化物であって、その表面が凹凸形状である物品。 （もっと読む）

【課題】各種光学部品及び電子部品の封止材料、絶縁材料として有用な極性基含有環状オレフィン系重合体の原料モノマーであるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体の精製方法の提供。
【解決手段】代表例としてＮ−（２−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド（ＮＥＨＩ）であるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体を、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とからなる混合イオン交換樹脂に接触させる精製方法。前記混合イオン交換樹脂における、前記陽イオン交換樹脂と前記陰イオン交換樹脂との割合は、陽イオン交換樹脂：陰イオン交換樹脂の重量比で、１：１〜１０：１であることが好ましい。前記単量体を前記混合イオン交換樹脂とは、１０〜１００℃の条件で、接触させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】極めて透明であり、低い誘電率（熱酸化ケイ素膜の誘電率より低いか、または、それと同等の誘電率）を有し、さらに、高い耐熱性（それに続く加工に十分耐える程度の耐熱性）を有する、３０μｍまたはそれより大きい厚さを有するフィルム形成に使用可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系ポリマー、光酸発生剤および溶媒を含む、ネガ型の自己結像可能なフィルムを形成するためのポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】 ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる少なくとも１つの基と、フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する樹脂：（ｘ）アルカリ可溶基；（ｙ）アルカリ現像液中で分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基；（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）