【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等；Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ｒは、ヒドロキシ基、アルコキシ基又は脂肪族炭化水素基；＊は、Ｒ^２との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】幅広い温度で高い制振性を有する防振性組成物を提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体からなるオレフィン系エラストマーと、このオレフィン系エラストマーと非相容であり、かつ前記オレフィン系エラストマーと異なるガラス転移温度を有するオレフィン系樹脂とを含む組成物で防振性組成物を調製する。前記オレフィン系樹脂は、オレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が高い環状オレフィン系樹脂及び／又はオレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が低い鎖状オレフィン系樹脂であってもよい。前記オレフィン系エラストマーのガラス転移温度が３０℃以下であり、オレフィン系樹脂のガラス転移温度との差が１０℃以上であってもよい。前記オレフィン系エラストマーとオレフィン系樹脂との割合（重量比）は、前者／後者＝９８／２〜５０／５０程度であってもよい。 （もっと読む）

【課題】電子線又は極紫外線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能、及び、コーナー・プロキシミティ（Ｃｏｎｅｒ ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）性能に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。



一般式（Ａ１）において、Ｒ_３は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒ_４は水素原子又は−ＣＯ_２Ｒ_５で表される基を表す。Ｒ_５は、ヘテロ原子を含んでもよい、１価の炭化水素基を表す。Ｒ_６は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 （もっと読む）

【課題】初期接着性と応力緩和性の優れた粘着剤の原料となり得る、１つの重合物中に高分子量の重合体と低分子量の重合体を含み、かつ低分子量重合体の量が相対的に多い重合物を容易に製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系単量体と、重合開始剤の存在下で重合を開始し、次いで、単量体の重合率が使用する全単量体量に対し、５〜４０％となった時点で、全単量体に対し、０.１〜１０質量％の連鎖移動剤を、一括で若しくは６０分以内の時間をかけて添加することを特徴とする低分子量重合体と高分子量重合体を含み、低分子量重合体の方が多いアクリル系重合体の製造方法並びにこの方法により得られるアクリル系重合体およびこれを利用するアクリル系粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない原子又は基；ｎ^aa１は１又は２を表す。］ （もっと読む）

【課題】繊維に対する柔軟性付与効果に優れる柔軟剤組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単量体（ａ）を構成単位とする高分子化合物（Ａ）を含有してなる柔軟剤組成物。
【化１】


式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基である。Ｘは−ＣＯＮ（Ｒ^２）Ｒ^３、−ＣＨ_２ＮＨＣＯＮ（Ｒ^４）Ｒ^５又は−ＣＨ_２ＮＨＣＯＯＲ^６で表される基であり、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】低コストで安全に製造可能な多塩基酸ビニルモノマー共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】スチレン無水マレイン酸共重合体を水またはアルカリ水溶液に溶解し、次いで、その水溶液を酸性にすることにより前記スチレン無水マレイン酸共重合体由来のスチレン単位と多塩基酸単位との共重合体を析出させて、この共重合体を含む多塩基酸ビニルモノマー共重合体を得る。 （もっと読む）

【課題】解像度及び耐溶剤性に優れるパターンを得ることができる硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］で表される単量体に由来する構造単位、及び、カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が高い塗膜を得ることができる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］
で表される単量体（ａ）に由来する構造単位、及び
カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体（ｂ）に由来する構造単位
を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】左螺旋を誘起する新規な重合性キラル化合物、左螺旋性液晶性高分子、及び光学異方体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される左螺旋を誘起する重合性キラル化合物、該化合物を重合して得られる左螺旋性液晶性高分子、光学異方体。


〔式中、Ｙ^１〜Ｙ^３は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表し、Ａ^１及びＡ^２は炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｚ^１は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】室温付近でコレステリック相を示すとともに、組成物の組成を変えることで、赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することができ、さらに、対象となる基材上に、コレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物は、特定の単官能液晶性アクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも２種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基。Ｒ^aは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基。Ｚ^１は、＊−Ｘ^１−ＣＯ−（但し、Ｘ^１は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基）で表される基などを表す。］〔２〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】パターン倒れを防止しつつ、より微細な線幅のラインアンドスペースパターンを
製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂を提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式（ａａ）中、
Ｔ^１は置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基を表す。
Ｚ^１は、炭素数１〜６のアルカンジイル基などを表す。］
〔２〕前記樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位１００モルに対して、５０モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式（Ｉ）で表される構造単位であることが好ましい。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−^＊又は−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_kａ−ＣＯ−Ｏ−^＊を表し、ｋａは１〜７の整数を表し、＊はナフチル基との結合手を表す。］
（もっと読む）

【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー（特に熱可塑性ポリマー）およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー（例えば、単官能性（メタ）アクリル酸エステル）に、重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基など）を有するフルオレン化合物（例えば、２以上の重合性不飽和結合を有する９，９−ビスアリールフルオレン類）を共重合させる。このような方法では、少量の（例えば、重合成分全体の１０モル％未満の割合で）フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 （もっと読む）

【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合単位としての１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に１以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム（ＩＩ）重合触媒、ニケッル（ＩＩ）重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される１以上の触媒を接触させる工程を含む、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量％とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー（Ａ）が、
（ａ１）炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
（ａ２）ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が５０℃以上を示す高軟化点モノマー ５〜１２０重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が３，０００〜２０，０００であるフッ素系ポリマー（Ａ１）である材料組成物。 （もっと読む）