【課題】例えばプラスチック基材に塗布、硬化させて得られた積層体が、低反り性、耐擦傷性に優れる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を硬化させて得られた硬化物、例えばブルーレイディスクに用いられる保護層（透明カバー層）として有用な光記録媒体用硬化性樹脂組成物およびそれを用いた光記録媒体を提供すること。
【解決手段】ビニル系重合体を含有する硬化性樹脂組成物であって、該ビニル系重合体中の側鎖二重結合の繰り返し単位の質量％値（Ａ）の３乗と、該ビニル系重合体の数平均分子量との積の値が、６００×１０^６以下であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）と、フッ素原子を含有する側鎖を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ１）を含む含フッ素樹脂成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低線膨張係数で透明性や耐熱性に優れた複合樹脂体組成物を提供すること。
【解決手段】 官能基を有する化合物、及び前記化合物中に微粒子を含有する複合体組成物であって、前記複合体組成物中の微粒子の含有率が４０〜９０ｖｏｌ％であり、前記複合体組成物中の有機溶剤含有量が１０重量％未満であり、前記複合体組成物の硬化後の前記微粒子の配列が規則構造を有する複合樹脂体組成物であり、好ましくは前記微粒子の一次粒子の平均粒子径が４０〜１００ｎｍであり、複合体組成物中の微粒子の規則構造がｂｃｃ、ｆｃｃ、ｈｃｐから選ばれる少なくとも１つの準結晶構造を有する複合体樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 低誘電性であり、かつ塗膜形成後の経時によって一旦上昇した誘電率を加熱処理によって回復させる能力（k値回復性）を良化させた絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 (A)少なくとも一種の有機ポリマーまたは２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする。
【化１】


（R₁はメチル基等を表し、x₁は0〜95mol%, x₂は5〜100mol%、x₁+ x₂ = 100mol%であり、R₂, R₃はアルキル基等を、R₄はメチル基等を表し、X₃は5〜100mol%, x₄は0〜95mol%、x₃ +
x₄ = 100mol%であり、Rfはフルオロアルキル基を表し、x₅は0〜95mol%, yは5〜100mol%、x₅ + x₆ = 100mol%である。） （もっと読む）

【課題】解像度と感度に優れたポジ型レジスト組成物に好適な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】５−ヒドロキシ−３−オキサ−２−チア−トリシクロノナンとアクリル酸よりなるアクリル酸エステル（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、前記高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を用いた液浸露光用として好適な疎水性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】新規な含フッ素化合物；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、新規な含フッ素化合物（Ｆ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物；当該液浸露光用ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】離型性、型再現性、基材への密着性に優れ、高屈折率でガラス転移点温度が高く、光拡散性を有し保存安定性が良好な光学用エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フェニルエーテル基を有するモノアクリレートモノマー（Ａ）、平均粒子径が０．１μｍから２μｍの無機微粒子（Ｂ）及び／又は平均粒子径が０．１μｍから５μｍの有機微粒子（Ｂ’）、並びに光重合開始剤（Ｃ）を含む光学用エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにも適用でき、得られるパターン形状が優れたポジ型レジスト組成物とパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び（Ｄ）それ自身は（Ａ）成分及び（Ｃ）成分が発生する酸に対して塩基として働くが、活性光線又は放射線の照射により分解して（Ａ）成分及び（Ｃ）成分が発生する酸に対する塩基性を消失する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 芳香族ポリマーを長期間また繰り返し安定的かつ速やかに水素化するための触媒およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化パラジウムを含有する触媒前駆体を酸化ジルコニウムを主成分とする担体に吸着せしめ、洗浄操作により塩素含有率を原子比としてＣｌ／Ｐｄ＝０．５未満まで減少させ、かつ非水系で還元することにより最終的にパラジウム分散度５０％以上を有するポリマー水素化用の酸化ジルコニウム担持パラジウム触媒を調製する。 （もっと読む）

【課題】軽質イソパラフィンに溶解し、皮膜の膜強度が高く、透明性、付着性及び耐水性に優れたアクリル系共重合体、及びそれを含有するツヤ、付着性、耐水性に優れ化粧持続性に極めて優れた化粧料を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）シクロアルキル基を含有するアクリレート及び／又はメタクリレート；と、成分（Ｂ）炭素数８〜１２の直鎖若しくは分岐のアルキル基を含有するアクリレート及び／又はメタクリレート；及び／又は成分（Ｃ）片末端にラジカル重合性基を含有するオルガノポリシロキサンマクロモノマー；とを含むモノマーを重合して得られるアクリル系共重合体であって、構成モノマー総量中、成分（Ａ）の配合量が５０〜９０質量％、成分（Ｂ）及び／又は（Ｃ）の配合量が１０〜５０質量％であり、且つ、軽質イソパラフィンに２５℃で少なくとも３０質量％溶解するアクリル系共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は２〜４価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（２＋ａ１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜４の整数を表し、ａ２は２〜４の整数を表す。
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【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、表面平滑性、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は４又は６価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（ａ１＋１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜５の整数を表し、ａ２は２又は３を表す。
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【課題】撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単量体から形成される単量体単位を有する含フッ素樹脂（A）と、紫外光（300nm〜450nm）に反応する感光性成分とを含むカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、組成物の全固形分100重量部に対する含フッ素樹脂（A）の割合が0.05〜10重量部であるカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物である。
CH₂＝C(Rn)−COO−Y−Rf （１）
（式中、Rnは炭素数２以上の有機基又は塩素を示し、Yは炭素数1〜6の２価のフッ素原子を含まない２価の有機基を示し、Rfは、炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ¹はＨ、又はＣ１〜２０の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基の場合、構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ²はＨ、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜８の１価炭化水素基を示す。又は、Ｒ³、Ｒ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ａは、Ｃ１〜６の２価炭化水素基を示す。）含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ、（Ｂ）成分は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^１１は１価の脂肪族炭化水素基、ヒドロキシアルキル基、又は芳香族有機基であり；Ｙ^１１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】液浸露光時に、接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、感度及び解像度に優れ、得られるパターン形状が良好なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、露光前にビシクロヘキシルに１０秒間浸漬したときの膜厚変化率、及び露光後にビシクロヘキシルに１０秒間浸漬したときの膜厚変化率のいずれもが６％以下である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）および酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）は、水素原子または低級アルキル基及び第３級アルキル基含有基で置換された水酸基を有するスチレン誘導体単位と、脂肪族環式基を有するアクリル酸エステル単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 硬化性が良好で、型（とくに金型）からの離型性に優れ、耐傷性、剛性、透明性、密着性に優れた硬化物を与える活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基含有化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および型離型性付与剤（Ｃ）を含有してなり、（Ａ）が、（メタ）アクリロイル基濃度３〜１０ｍｍｏｌ／ｇ、および（Ａ）から求められる架橋点間分子量６０〜２００を有し、（Ｃ）がリン酸エステル（ｃ１）と３級アミン（ｃ２）の塩からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、（Ａ）１個の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体であって、その内の少なくとも１つはシリルエステル官能基を含む単量体、（Ｂ）２個以上の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体、及び（Ｃ）１つ以上の連鎖移動剤の繰り返し単位を含む分岐シリルエステル共重合体に関する。さらに、本発明は、防汚塗料組成物の含有成分としての前記分岐シリルエステル共重合体の使用、ならびに前記分岐シリルエステル共重合体と１つ以上の他の成分を含む防汚塗料組成物に関する。 （もっと読む）