【課題】 線膨張率、誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含有し、線膨張係数が１２０×１０^-6Ｋ^-1以下である絶縁膜、カゴ型構造を有する化合物を含む膜形成用組成物に、電子線を照射して硬化させて得ることを特徴とする絶縁膜、及び該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 新規な重合体、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられる重合体、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】
式（Ｉ）で表される化合物を溶剤および金属触媒の存在下で重合させて得られる重合体と塗布溶剤とを含むことを特徴とする膜形成用組成物、および該膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜、およびそれを有する電子デバイス。
【化１】


式（Ｉ）中、
Ｒはアセチレン性炭素三重結合を含む置換基を表わす。
Ｘは置換基を表す、
ｍは１〜１６の整数を表す。
ｎは０〜１５の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体は式（１）で表される基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の３０〜１００モル％含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、アルカリ可溶性である。
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【課題】 感度、絶縁性、耐化学性などの性能に優れているだけでなく、特に透過度および貯蔵安定性を顕著に向上させて、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成することに適合した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性樹脂組成物に関するものであって、特にａ）ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ｉｉ）化学式（１）〜（８）からなる群から選択される１種以上のエポキシ基含有不飽和化合物、およびｉｉｉ）オレフィン系不飽和化合物を共重合させた後、未反応単量体を除去して得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む感光性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体はフッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の３０〜１００モル％含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、アルカリ可溶性である。 （もっと読む）

少なくとも下記（Ａ）〜（Ｃ）をいずれも含有するメタクリル樹脂モノマー組成物
（Ａ）メチルメタクリレート単量体、または／およびそのシラップ
（Ｂ）一般式（１）で表される化合物


［式中、Ｒ_１とＲ_３、および、Ｒ_２とＲ_４はそれぞれにおいて同時に水素原子または同時にメチル基を表す。］
（Ｃ）ラジカル開始剤
は、ＰＭＭＡ本来の高い透明性を損なうことなく、耐熱性、剛性、低吸水性、および、耐薬品性などの樹脂物性を向上させた架橋性メタクリル樹脂、および、該樹脂からなる透明部材、光学部材を提供することができる。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、ＤＯＦが改善され、且つ液浸露光時の、レジスト膜表面から液浸液への発生酸の溶出が低減されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、該樹脂が、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する構造を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐候性等が良好であり、かつ高い光学特性を維持できる光学素子を得られる事。
【解決手段】 樹脂を成形板にしたときの透過率をＴ_０、この成形板に放射強度３５Ｗ／ｍ^２／ｎｍ（３６５ｎｍ）、距離２５０ｍｍで紫外線を１時間照射後の透過率をＴ_１としたときに、Ｔ_１＞Ｔ_０となる光学素子用樹脂及び、これを成形して得られる光学素子。 （もっと読む）

【課題】 新規な重合体、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられる重合体、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】
炭素数１１個以上のカゴ構造を有する化合物を溶媒中で重合して得られることを特徴とする重合体、それを含む膜形成組成物、および該膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜、およびそれを有する電子デバイス。 （もっと読む）

本発明の実施態様は、一般に、液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスに関する。より詳細には、本発明の実施態様は、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセスに関する。
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【課題】 低沸点成分の含有量の極めて少ないフォトレジスト用樹脂溶液を簡易に且つ安全に得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂がレジスト用溶媒に溶解しているフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合後ポリマーを貧溶媒に沈殿させ、固液分離した後に湿結晶を水で洗浄し、レジスト用溶媒に溶解後、蒸留により低沸点成分を除去することを特徴とする。レジスト用溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒を使用できる。 （もっと読む）

【課題】 屈折率を広い範囲で変化させることができ、透明性、耐熱性に優れた各種光学用透明材料として使用することができる透明性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 メタクリル酸メチルを主成分とした重合体成分（Ａ）２５〜７５質量％と、特定のラクトン化合物を含み、重合体成分（Ａ）よりも高屈折率の重合体を生成する単量体成分（Ｂ）７５〜２５質量％からなる混合物を重合して得られる透明性樹脂組成物であって、前記重合体成分（Ａ）および前記単量体成分（Ｂ）の混合割合を前記の範囲内で変化させることにより屈折率を調整可能とした。 （もっと読む）

【課題】硬化物の光学的透明性が高く、耐光性、耐熱性、機械特性に優れ、硬化収縮の小さい樹脂組成物、及び当該樹脂組成物を用いた光学的透明性が高く、耐光性、耐熱性、機械特性に優れ、硬化収縮の小さい光学部材を提供する。
【解決手段】モノマー成分（Ａ）としてエステル部分に炭素数４以下の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート、モノマー成分（Ｂ）として脂環式多官能（メタ）アクリレート、及び重合開始剤（Ｄ）を含有し、加熱又は光によって硬化する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光伝送用媒体、詳しくはプラスチック光ファイバーや導波路型素子のコア用材料として利用可能な耐熱性と信号伝送能力を兼ね備えた光学材料を提供する。
【解決手段】側鎖に脂環式炭化水素部位を有する重合体であって１１５℃以上の熱変形温度を有する重合体からなる光学材料。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜のブリッジなどに代表される変質および液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加を来すことなく、さらにはレジスト膜の引き置き耐性を向上させることができ、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。
【解決手段】レジスト保護膜形成用材料として、レジスト膜の上層保護膜を形成するための、アルカリに可溶なポリマー成分を含有し、前記ポリマー成分と水との接触角が９０°以上であることを特徴とするレジスト保護膜形成用材料を用いる。このようなポリマーとしては、（メタ）アクリル酸構成単位と特定のアクリル酸エステル構成単位を少なくとも含むアクリル系ポリマーが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塗工操業性に優れ、紙塗工用組成物のバインダーとして使用して塗工紙を作製したときに、その塗工紙が印刷適性等に優れたものとなる共重合体ラテックスを提供する。
【解決手段】（ａ）脂肪族共役ジエン系単量体２０〜７０質量％、（ｂ）アミド基含有エチレン系不飽和単量体０〜９質量％、（ｃ）不飽和ジカルボン酸単量体０〜９質量％、（ｄ）不飽和モノカルボン酸単量体１〜１０質量％、及び（ｅ）他の単量体２０〜７６．５質量％（（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＝３．５〜１０質量％、（ａ）〜（ｅ）の合計が１００質量％）を含有する共重合用単量体を６０℃以下で乳化重合して得られる共重合体を含有し、トルエンゲル含量が９５％以上、且つトルエンゲル含量Ｘ（％）とＧＰＣゲル含量Ｙ（％）との差が１０（％）以上である共重合体ラテックス。 （もっと読む）

【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】トナーに対する摩擦現像の均一性及び耐久安定性に優れた２００００枚を提供し、また現像効率が良好で、濃度が高く鮮明でカブリの少ない均一な画像が得られる電子写真装置を提供すること。
【解決手段】基体及び該基体外周に形成された一層以上の被覆層からなる現像剤担持体であって、該現像剤担持体上に負帯電性の二成分系現像剤層を形成して担持し、現像領域へと搬送する現像剤担持体において、該現像剤担持体の表面層となる被覆層１１ａが、正荷電制御樹脂を含有することを特徴とする現像剤担持体とする。また、このような現像剤担持体を用いた電子写真装置とする。 （もっと読む）

【課題】加工時のスコーチ安定性に優れ、架橋点の種類によらず非選択的に架橋可能な架橋剤を含むとともに、高温の架橋条件下であっても安定した状態で架橋が制御され得るアクリルゴム組成物を提供する。
【解決手段】アクリル系ゴム（Ａ１）、及びエチレン・アクリルゴム（Ａ２）からなる群より選択される少なくとも一種のゴムを含有するゴム成分（Ａ）と、重量平均分子量Ｍｗが１０００〜３００００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜４．０であり、（メタ）アクリル酸エステル（ｂ−１）単位５〜３５質量％、及び芳香族ビニル単量体（ｂ−２）単位６５〜９５質量％を構成単位として含有する重合体（Ｂ）とを含む架橋可能なアクリルゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性に優れた光導波路を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）及び特定の構造を有する重合体を含有する。
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