【課題】 誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜を提供できる絶縁膜形成用塗布液、さらには該塗布液を用いて得られる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含有し、該化合物に芳香族炭化水素構造を実質的に含まないことを特徴とする膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて膜を形成した芳香族炭化水素構造を実質的に含まないことを特徴とする絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、また、現像後の残渣が低減され、ＱＣＭ法等による測定における現像中の膨潤を抑えることができる。従って、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】酸不安定基を有する（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとベンゼン縮合環構造を有する特定の構造の（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとの共重合により得られる高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度、面性（面状）等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物（塗布液）およびそれに用いる重合体に関し、さらには該塗布液を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有し、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が１０００〜５０００００であり、多分散度（Mw/Mn）（Mw：重量平均分子量、Mn：数平均分子量）が３０以下であることを特徴とする重合体、該膜形成用組成物を用いて形成した絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒の含有量を極めて少なくすることができ、かつ、低温で造膜した場合の耐溶剤性、耐水性および耐アルカリ性に優れた膜を形成することができるアクリル系樹脂水分散体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス転移温度が７０〜１４０℃、固形分酸価が１０〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、かつ、重量平均分子量が３００００〜１０００００であり、樹脂固形分に対して有機溶媒の含有量が１０質量％以下であるアクリル系樹脂水分散体であり、上記アクリル系樹脂共重合体の共重合成分中に脂環式（メタ）アクリルモノマーを１０〜７０質量％含んでいることを特徴とするアクリル系樹脂水分散体であり、アクリル系樹脂共重合体の共重合成分中、スチレンの含有量が１０質量％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電子写真装置機能部品の最表面にアミノ基及びカルボキシル基が存在することができ、基材樹脂の硬度や弾性などの特性を損なわない範囲の少量の添加で、トナーに充分な負荷電性を付与し、その成形品の電子写真装置機能部品において良好な画像を形成することができる正荷電性樹脂を含有する電子写真装置機能部品用樹脂を提供する。
【解決手段】アミノ基及びカルボキシル基を含む正荷電制御樹脂を含有する電子写真装置機能部品用樹脂において、電子写真装置機能部品の表面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で測定した際に、分子量１８５０までのトータルイオン強度に対するアミノ基に由来する最大イオン強度の比率が０．００５以上であり、分子量１８５０までのトータルイオン強度に対するカルボキシル基に由来する最大イオン強度の比率Ａが５ＰＰＭ以上である。 （もっと読む）

【課題】液浸用レジスト組成物に用いた場合に、浸漬液よりも高い屈折率となり、他の単量体との共重合性に優れたレジスト用重合体の提供。
【解決手段】下記式で表されるナフタレン骨格を有する構成単位を含有するレジスト用重合体。


（Ｒ¹⁰は水素原子またはメチル基、Ｇは−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｏ−、または−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−のいずれかを表す。Ｌ¹およびＬ²は、２価の炭化水素基，Ｙは−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＨ、−ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ¹³、または−ＯＲ¹³を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、側鎖に特定の構造を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 硬化物の着色が少なく、かつ耐熱性と曲げ強さに優れた硬化性樹脂組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】 トリシクロ［２，２，１，０^2,6 ］ヘプタン環を有するビニル重合体（Ａ⁰）、並びにベンゾトリアゾールおよび／またはその誘導体などの紫外線吸収剤（Ｂ）を含有し、トリシクロ［２，２，１，０^2,6 ］ヘプタン環の開環を含む架橋反応により硬化しうる硬化性樹脂組成物、並びに該硬化性樹脂組成物を熱および／または活性エネルギー線により硬化して得られる硬化物である。 （もっと読む）

【課題】ポリビニルアルコールを使用しなくても、水溶性ポリマーのみでレジストパターンを微細化することができ、さらに水溶性、被膜強度、平滑性などに優れた被膜形成用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）：


(式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｘは酸素原子、ＮＨ基または硫黄原子、Ｒ^２は水酸基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基を示す)
で表されるアミノ基含有モノマー２０〜８０重量％および式（II）:


（式中、Ｒ^１は前記と同じ。Ｒ^５はカルボン酸エステル基、芳香族基、複素環含有基またはカプロラクタム基を示す）
で表されるビニル基含有化合物２０〜８０重量％を含有するモノマー組成物を重合させてなる被膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像時のパターン崩壊が抑制され、マスクエラー因子が低減されたポジ型レジスト材料の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂であって、下記一般式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含むことを特徴とする重合体。


（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を、Ｒ³はジフルオロメチル基、又はトリフルオロメチル基を表す。Ｘは３級アルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位と、を含むアルカリ不溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤及び（Ｃ）フェノール性化合物を含む。
（もっと読む）

【課題】光部材加工時の仮固定剥離方法とそれに好適な組成物を提供する。
【解決手段】接着剤の組成は、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、（Ｃ）極性有機溶媒（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴する組成物であり、好ましくは、（Ｃ）（Ａ）及び（Ｂ）がいずれも疎水性を有することを特徴とする前記組成物である。又、前記組成物を用いて部材を接着仮固定し、該仮固定された部材を加工後、支持基板に波長７００ｎｍ以下の光を再照射した後、該加工された部材を９０℃以下の温水に浸漬して、前記組成物の硬化体をサブストレ−ト側に残しワ−クのみが剥離し取り外すことを特徴とする部材の仮固定方法である。基材の組成物に対する面の表面粗さ（ＲＭａｘ）が１０μｍ〜５０μｍであり、しかも、部材の組成物に対する面の表面粗さ（ＲＭａｘ）よりも１０μｍ以上大きいことを特徴とする部材の仮固定方法である。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、酸発生剤成分とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、第三級アルキル基を含む酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（ａ）及び（ｂ）


で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れたサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、これに適した高分子化合物およびサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）の水素原子が、下記一般式（１）で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）により置換されている構成単位（ａ１）を含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０〜３の整数である。］ （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用され、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、現像欠陥性能、マスクエラーファクターが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ジアマンタン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】画像を保護する転写シートを提供する。
【解決手段】基材と、下記一般式（１）


で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シート。 （もっと読む）

【課題】 ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。
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【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】 特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）ラクトン基を有する分子量２０００以下の芳香族化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）