【課題】
臭気、残留溶剤量が少なく、架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の重合に用いることができる溶媒を用いた製造方法の提供。
【解決手段】
架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の製造方法であって、エチルアルコール系溶媒中で（メタ）アクリル酸エステル単量体を主成分とする単量体を重合せしめる重合体（Ａ）の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く幅広い波長領域において高い透明性を有するレジスト組成物。
【解決手段】式（１）の単量体を有する共重合体を含む組成物。


Ｙは、Ｈ、Ｆ、水酸基を、Ｒ^１はＨ、メチル基、Ｆ、トリフルオロメチル基を、Ｘは、Ｈ、Ｆを示し、かつＸの１個以上はＦを示す。 （もっと読む）

【課題】 製膜性及び透明性に優れた刺激応答性材料を提供すること。
【解決手段】少なくとも1種の式（１）：
【化１】


で表される脂環式ビニルエーテルと、少なくとも１種の式（２）：
【化２】


で表されるオキシエチレン鎖含有ビニルエーテル、又は少なくとも１種の式（３）：
【化３】


で表される長鎖アルキル基含有ビニルエーテルを主鎖に有する脂環式ビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての基本物性に優れ、ラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖の末端に特定の式で表される基を有し、かつ式（２）で表される繰り返し単位、及び特定の繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する。
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本発明のレジスト用重合体は、シアノ基を有する特定の構成単位と酸脱離性基を有する構成単位とラクトン骨格を有する特定の構成単位とを含有するものであり、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に高感度、高解像度であり、レジストパターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスの発生、マイクロゲルの生成が少ない。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての基本物性に優れ、ラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖の末端に式（１）で表される基を有し、かつアルカリ難溶性あるいは不溶性であり、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂、及び（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）中、ＸはＳ−Ｒ¹で表される２価の基を示し、Ｒ¹は置換基を有することができる炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】
酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（Ａ０）
【化１】


［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を示し（但し、Ｒ^１〜Ｒ^２が同時にアルキル基となる場合は除く）、Ｒ^５は低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基を示し、ｓ，ｔはそれぞれ独立して０又は１〜３の整数を示し、ｕは１〜３の整数を示し、Ｘは環式基を示す。］
で示される構成単位（ａ０）とを含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とし、レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ＬＥＲの低減されたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、かつ該構成単位（ａ１）が、下記一般式（ａ１−０）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して低級アルキル基、Ｒ^３〜Ｒ^６はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、ｓは０または１〜３の整数、ｔは１〜３の整数、Ｘは脂肪族環式基であり、低級アルキル基および極性基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有していてもよく、Ｙは極性基。］で表される構成単位（ａ１−０）を含む高分子化合物。
【化１】
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【課題】 耐熱性に優れ、しかも汎用の重合開始剤などを用いて重合を行なったり、汎用のスチレン系重合体に対して芳香族求電子置換反応を行なうことによって、簡単に製造できるスチレン系重合体の提供。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ−Ａ）；
【化１７】


（式中、Ｒ¹は多環構造を有する脂環式炭化水素基、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基またはアリール基を示す。）
で表される、スチレン系誘導体由来の構造単位（Ｉ−Ａ）を有する重合体及び該重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】洗濯添加剤としての疎水的に変性されたポリマーの提供
【解決手段】本発明は、少なくとも以下のモノマー成分：
（Ｉ）２０ないし９９．９質量％、好ましくは５０％ないし９９質量％の式（１）
【化１】


に従う少なくとも１種のカチオン性モノマー、及び（ＩＩ）０．１ないし８０質量％の、開始剤の存在下で重合する疎水性不飽和ノニオン性モノマー；所望により、モノマー（Ｉ）及びモノマー（ＩＩ）のいずれとも異なる水溶性モノマー（ＩＩＩ）、及び所望により架橋剤（ＩＶ）から誘導される主鎖を含むポリマー化合物に関する。前記化合物は、洗濯プロセスにおける染料ブリード及び／又は染料転移の問題を克服するために特に有益である。
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【課題】現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐熱変形性、耐熱分解性、機械物性、低吸水性、耐候性、耐光性のバランスに優れた熱可塑性透明樹脂を提供する。該熱可塑性透明樹脂を用いてなる透明性、耐熱変形性、耐熱分解性、機械物性、低吸水性、耐候性、耐光性などのバランスに優れたプラスチック製光学物品を提供する。
【解決手段】 少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと少なくとも１種の芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られ、かつ、芳香族ビニルモノマー由来の構成単位（Ｂモル）に対する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位（Ａモル）のモル比（Ａ／Ｂ）が１〜４である共重合体の芳香族二重結合の７０％以上を水素化して得られることを特徴とする熱可塑性透明樹脂。該熱可塑性透明樹脂を用いてなる光学物品。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。
【解決手段】本発明は、極性基を有する繰り返し単位と脂環構造を有する繰り返し単位とを有する半導体レジスト用共重合体を含み、且つ、イオン性添加剤を含まない半導体レジスト用共重合体溶液を、アミノ基及び/又はアミド結合を有する樹脂を含むフィルターに通過させることを特徴とする半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法である。 （もっと読む）

本発明は、
可逆的な有機イオウ性連鎖移動剤を使用する制御ラジカル重合法であって、
分子量が１００，０００ｇ／ｍｏｌを超え、かつ、２００，０００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量については１．２未満、２００，０００ｇ／ｍｏｌを超える分子量については１．４未満の多分散率を有するポリマーを、７５％を超えるモノマー転化率で、かつ、８時間未満の重合時間で調製し、かつ、
重合媒体中において開始ラジカル流量を制御する
ことを特徴とする方法
に関する。
開始ラジカル流量の制御は、二種の適切な重合温度Ｔ_１及びＴ_２を使用することによって、又は、分解速度定数が、同じ温度におけるアゾビスイソブチロニトリルの分解速度定数より大きい開始剤を使用することによって実施できる。
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方法は、Ａ）パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性（メタ）アクリレート組成物で充填する工程と、Ｂ）硬化性（メタ）アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成する工程と、Ｃ）シリコーン型とパターン形状とを分離する工程と、任意選択で、Ｄ）パターン形状をエッチングする工程と、任意選択で、Ｅ）シリコーン型を再使用して、工程Ａ）〜Ｄ）を繰り返す工程とを含む。硬化性（メタ）アクリレート組成物は、フルオロ官能性（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート、及び光開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】 加熱工程による異物の発生を抑制し欠陥をなくした高耐熱性着色組成物、感光性着色樹脂組成物、着色画像形成用感光液、着色画像の製造法、カラーフィルタの製造法及びカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 色素及び樹脂を含有する着色組成物として、色素がカラーインデックス名でピグメントレッド２５４を含有するものであり、樹脂が、重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜２００，０００であり、ジシクロ環及びトリシクロ環を有するモノマを３重量％〜７０重量％、水酸基を有するモノマを５〜５０重量％、Ｎ−置換マレイミド基を有するモノマを５〜５０重量％含有するモノマ成分を重合して得られる重合体である着色組成物を用い、これに光重合性不飽和結合を分子内に１個以上含有するモノマ及び光開始剤を配合して感光性着色樹脂組成物とし、この感光性着色樹脂組成物を用いてカラーフィルターの着色画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする。沈殿に付すポリマーとして、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位と基板密着性機能を有するモノマー単位を含むポリマーを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種浸漬液を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用浸漬液の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加を来すことなく、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。さらにより高屈折率な液浸媒体にも適用可能であり、そのような高屈折率液浸媒体との同時使用によりパターン精度のさらなる向上をもたらすことを可能とする。
【解決手段】レジスト膜を浸漬させる液体、特に水に対して実質的に相溶性を持たず、かつアルカリに可溶である特性を有するアクリル系樹脂成分を含有してなる組成物を用いて使用するレジスト膜の表面に保護膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）と、特定の酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位（Ｃ）を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式（１−１）〜（１−４）からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
【化１】
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