【課題】化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度（Ｒｍａｘ）や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用で分解して極性基が生成する酸不安定構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含む共重合体であって、繰り返し単位（Ａ）が、式（１）で表される繰り返し単位（Ａ１）と、エステル部分が水酸基含有アダマンチル基である不飽和モノカルボン酸エステルで表される繰り返し単位（Ａ２）とを含む。
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【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、疎密依存性に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、ジアマンタン構造を有する繰り返し単位（Ｂａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位（Ｂｂ）とを有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが低減された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）は、アセタール型保護基を含む構成単位（ａ１）を有し、かつ酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ−５）で表されるカチオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むポジ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。
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【課題】光学特性、熱特性、機械特性に優れ、アクティブディスプレイに好適な樹脂成形体の提供。
【解決手段】下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及びペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアルカノエートならびに光重合開始剤含有してなる光重合性組成物を光硬化して得られる樹脂成形体。成分（Ａ）：


（Ｒ₁はアルキレン基、Ｘは水素又はメチル基、ａは１又は２、ｂは０又は１である。）成分（Ｂ）：


（Ｒ₂はエーテル酸素を含んでもよい炭化水素基、Ｘは水素又はメチル基である。） （もっと読む）

【課題】裾引きが抑制された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）は、アセタール型保護基を含む構成単位（ａ１）を有し、かつ酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ−０）で表される酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。
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【課題】露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、かつ配向膜剥離時の剥離液耐性を十分に示す液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物と、（ａ３）他の不飽和化合物との共重合体に、（メタ）アクリロイロキシ基含有モノイソシアネート化合物を反応させて得られる〔Ａ〕重合体。〔Ａ〕該重合体、〔Ｂ〕重合性不飽和化合物、および〔Ｃ〕感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

低温での造膜が可能で、しかも、硬度、耐汚染性、耐水性、耐候性等の物性に優れた塗膜を形成し得るエマルション型樹脂組成物を提供する。
最低造膜温度が０℃以下であり、実質的に揮発性有機化合物を含まないエマルション型樹脂組成物であって、このエマルション型樹脂組成物を２３℃で２４時間乾燥することにより得られる皮膜のケーニッヒ硬度が５回以上で、吸水率が２０質量％未満であることを特徴とするエマルション型樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 多層の追記型光ディスクの半透明反射層と色素記録層の間で使用され、信号の書き込み時にレーザー光により加熱された場合であっても、信号の読み取りエラーを発生させることのない樹脂層を形成することが可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】
ラジカル重合性化合物を含有する光ディスク用紫外線硬化型組成物であって、（１）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と多環式構造を有する化合物Ａ、（２）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合とイソシアヌレート環の３価の部分構造を有する化合物Ｂ、及び（３）３以上の（メタ）アクリロイル基を有し、且つ該（メタ）アクリロイル基１個当たりの分子量が２５０以下である化合物Ｃを含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。 （もっと読む）

【解決手段】式(２)で示される繰り返し単位(m単位及びp単位)を有する高分子化合物。


【効果】高エネルギー線に感応し、２００nm以下、特に１７０nm以下の波長における感度が優れている。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、および（Ｂ）１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート等で代表される感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【化１】


【化２】


（但し、Ｒ¹ およびＲ³ は水素原子またはメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な重合体、該重合体を含む膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】 分子内に下記（Ａ）および（Ｂ）の置換基を有するモノマーを重合して得られることを特徴とする重合体、当該重合体を用いる膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイス。
（Ａ）１つの−Ｃ≡ＣＨ、（Ｂ）１つ以上の下記式で表される置換基−Ｃ≡Ｃ−Ｒ
[式中、Ｒは水素原子以外の置換基を表す。] （もっと読む）

【課題】
本発明は、耐熱性、剛性および低吸水性などが向上した透明樹脂として有用なラジカル重合硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
〈Ａ〉一般式（１）で表される（メタ）アクリレート ３０〜７０重量部
〈Ｂ〉一般式（２）または（３）で表される（メタ）アクリレート
３０〜７０重量部
〈Ｃ〉一般式（４）で表される（メタ）アクリレート ０〜２０重量部
〈Ｄ〉前記〈Ａ〉〜〈Ｃ〉成分以外の分子内に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート ０〜２０重量部
を含有し、且つ〈Ａ〉〜〈Ｄ〉成分の合計量が１００重量部であるラジカル重合硬化性組成物、及び
上記に更に
〈Ｅ〉熱ラジカル重合開始剤または／および光ラジカル重合開始剤
を含有するラジカル重合硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収能に優れるとともにコート膜形成特性が良好なエマルションを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）；


で表される化合物を必須モノマー成分として重合させたガラス転移温度が４０℃以上のポリマー微粒子と上記一般式（１）で表される化合物を必須モノマー単量体成分として重合させたガラス転移温度が３０℃以下のポリマー微粒子とを含有してなることを特徴とするポリマーエマルション。 （もっと読む）

【課題】１枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムを提供する。
【解決手段】重合性化合物（１）に由来する構造単位と棒状重合性液晶化合物に由来する構造単位とを含有するポリマーを有効成分とすることを特徴とする光学フィルム。


（式（１）中、Ｙは屈曲構造を有する２価の基を表す。（Ｇ１）ｓ及び（Ｇ２）ｔは、単結合又はメチレン基等を表す。Ａ１及びＡ２は、２価の環状炭化水素基、２価の複素環基等を表す。Ｂ１及びＢ２は−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−などの２価の基を表す。Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、式（２）で表される２価の基を表す。


［式（２）中、Ａ３はＡ１と同じ意味を表し、Ｂ３は前記Ｂ１と同じ意味を表す。ｎは１〜４の整数を表す。］
Ｅ１及びＥ２はアルキレン基を表し、Ｐ１及びＰ２は重合性基を表す。） （もっと読む）

【課題】透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する紫外線硬化型樹脂組成物である高密度光ディスク用保護コート剤とその硬化物を提供することを可能にしたものであり、青色レーザーを用いて読み取り及び／又は書き込みを行う光ディスクに極めて有用である。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）
で表わされる（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明の発見は、主たる重合性の基に加えて可逆的な光架橋性の基を含有する単量体を使用する。これらの材料の機械的な性質及びその光活性化された形状記憶効果の可逆性は、弾性率及び形状記憶効果における変化をもたらすための光照射を使用することの有効性を立証する。その好適な実施形態において、その反応混合物は、光反応性の基及び重合性の基を含む光反応性の単量体；より好ましくは、アクリラートに基づいたものである、単量体の混合物である、第二の単量体；多官能性の架橋剤、好ましくは１，６−ヘキサンジオールジアクリラート（ＨＤＯＤＡ）；開始剤、好ましくは遊離基開始剤；及び第五の、自由選択の、変性させる重合体である構成成分を含む。その第二の単量体、架橋剤、及び開始剤の混合物は、その反応性の単量体が、中へ組み込まれる基礎材料の重合体マトリックスを含む。その光反応性の単量体の重合性の基は、その光反応性の単量体が、その基礎材料の重合体マトリックスと重合することを許容する。

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【課題】 プラスチックフィルム等の基材上に組成のバラツキが少ない無機層を形成でき、しかもガスバリア性、防湿性、透明性、耐熱性が優れ、かつ基材と無機層との密着性に優れた積層体を与えることのできるメタライジング用アンカーコート剤を提供すること。
【解決手段】 カルボキシル基不含有オレフィン系不飽和化合物（ａ１）とカルボキシル基含有オレフィン系化合物（ａ２）を重合させて得られるカルボキシル基含有共重合体（Ａ）、および特定の構造を有するエポキシ化合物（ｂ１）とメトキシシラン部分縮合物（ｂ２）との脱メタノール反応によって得られるグリシジル基含有メトキシシラン部分縮合物（Ｂ）を、開環エステル反応させてなるメトキシ基含有シラン変性重合体（１）、ならびに有機溶剤（２）を含有することを特徴とするメタライジング用アンカーコート剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】反射防止方法及び反射防止構造に関し、周期的な二次元格子を境界面に形成した場合と同等の反射防止特性をより低コストで実現できるようにする。
【解決手段】異なる屈折率ｎ_a，ｎ_bを有する媒質間の境界面に、ＪＩＳ Ｂ ０６０１¹⁹⁹⁴で定義される凹凸の算術平均粗さをＲａ、凹凸の平均間隔をＳｍとしたとき、０．００１μｍ＜Ｒａ＜０．５μｍ、且つ、０．００１μｍ＜Ｓｍ＜０．５μｍ、且つ、０．０１＜Ｒａ／Ｓｍ＜２．０の関係を満たす複数の凹凸を無作為に形成することによって反射防止構造とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂組成物が、（Ａ）イソボニルカルボキシレート系化合物５〜６０重量％と、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物１０〜４０重量％と、エポキシ基含有不飽和化合物２０〜４０重量％と、オレフィン系不飽和化合物２０〜４０重量％と、を共重合させて得られたアクリル系共重合体１００重量部、及び（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む。 （もっと読む）

【課題】
光学部材、特にプラスチック光ファイバの材料として有用な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも１種の下記一般式（１）で表される化合物および少なくとも１種のラジカル重合性モノマーを含む、光学部材形成用組成物。
一般式（１）
【化１】


（一般式（１）中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表す。Ｙはアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基またはシアノ基を表す。） （もっと読む）