【課題】露光前の感光層を形成する際の乾燥を真空乾燥で行い、感光画像の密着性が良く、プリベークを行わなかった場合でも、現像時に密着性の低下に伴う画素剥がれが生じるという欠陥をなくした感光性着色樹脂組成物、着色画像の形成方法、カラーフィルタの製造方法及びカラー表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素、（Ｂ）樹脂、（Ｃ）光重合性化合物及び（Ｄ）光重合開始剤を含有し、（Ｃ）光重合性化合物中に一般式（Ｉ）で表される化合物を含む感光性着色樹脂組成物、着色画像の形成方法、カラーフィルタの製造方法及びカラー表示装置である。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示す） （もっと読む）

本発明は、その他のモノマーと共に、複素環式塩基性基を含むモノマーが１０％〜９０重量％共重合されていて、かつビニルピロリドンをモノマー成分として含まないコポリマーの、基材に対する固相ペイント膜の接着性を改良するためのペイント用添加剤としての使用に関する。
本発明はさらに、その他のモノマーと共に、複素環式塩基性基を含むモノマーが１０％〜９０重量％共重合されていて、かつビニルピロリドンをモノマー成分として含まないコポリマーを、基材に対する固相ペイント膜の接着性を改良するための添加剤として含む、硬化および未硬化ポリマー組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】３次元構造体に付着した未硬化樹脂液をアルカリ性水溶液により洗浄除去可能であり、20μｍ以上の膜厚で十分な解像度を有し、メッキ液に対する濡れ性と耐メッキ性を示し、基板からの硬化物の剥離性が優れ、光造形時のリコート性及び多段積層性が優れ、数μｍ程度の解像度を要し複雑な形状の３次元構造体を作製しうる微小造形法用の光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)：(a)カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、(b)フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、及び(c)他のラジカル重合性化合物に由来する構成単位、を含むアルカリ可溶性の共重合体25〜70質量％、（B)：少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物20〜70質量％、（C)：放射線ラジカル重合開始剤0.1〜10質量％（ただし、成分(A)〜（C)の含有率は有機溶剤を除く全成分の合計量中の値である。）を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】ディフェクト、特にブリッジモードディフェクトの発生を抑制できる半導体リソグラフィー用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ラクトン含有環式基を有する構成単位（ａ２）を含有する半導体リソグラフィー用樹脂（Ａ１）が有機溶剤（Ｓ１）に溶解した樹脂溶液（Ｒ１）を、溶解度パラメータが１７〜２０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にあり、かつ比表面積が０．００５〜１ｍ^２／ｇの範囲にある樹脂（Ａ１’）に接触させる。 （もっと読む）

【課題】塗布のつやが高く、べとつきを感じにくく、かつ糸ひきを生じにくいメイクアップ化粧料を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：
（Ａ）構成単位として分子内に炭素数１２〜２２のアルキル基を有するメタクリレートを６０質量％以上含み、疎水性のビニル基含有モノマーを４０質量％以下含む油溶性高分子
０．１〜１０質量％、
（Ｂ）水添ポリイソブテン １０〜８０質量％
（Ｃ）多糖類の脂肪酸エステル １〜２０質量％
を含有するメイクアップ化粧料。 （もっと読む）

【課題】温度の上がり下がりによる強度低下が起こりにくく、しかも外観のつやが低下しにくいメイクアップ化粧料を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）構成単位として分子内に炭素数１２〜２２のアルキル基を有するメタクリレートを６０質量％以上含み、疎水性のビニル基含有モノマーを４０質量％以下含む油溶性高分子
０．１〜１０質量％、
（Ｂ）融点が９５℃以下で、分岐構造を有するポリエチレン又はそのコポリマー
２〜１０質量％
を含有するメイクアップ化粧料。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン
倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立ＤＯＦ、ＰＥＢ温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 合わせガラスにおける近赤外光吸収特性を有する重合体層に用いる際に、優れた透光性及び耐貫通性を付与できる重合性組成物、この組成物を重合して得られる重合体、及び、この重合体からなる層を備える積層体を提供すること。
【解決手段】 本発明の合わせガラス１０（積層体）は、一対の透光性基板１と、この一対の透光性基板１に挟持された重合体層２とを備えるものである。この合わせガラス１０における重合体層２は、（メタ）アクリル系モノマーと、２価の銅イオンと、重合性官能基を有する第１のリン酸エステル化合物と、重合性官能基を有しない第２のリン酸エステル化合物とを含有する重合性組成物を重合してなる重合体からなるものである。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１ａ）及び（１ｂ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂とし、有機溶剤及び酸発生剤を含有する化学増幅型のレジスト材料。


（ｎは１〜３、ａ１、ｂ１は０＜ａ１＜１．０、０＜ｂ１≦０．８。） （もっと読む）

【課題】新規な重合性のフルオロアダマンタン誘導体を提供する。
【解決手段】下式（１）で表される化合物（ただし、Ｗは水素原子またはメチル基である。Ｒは水素原子またはメチル基である。Ｑはモノフルオロメチレン基またはジフルオロメチレン基であって、６個のＱは同一であっても異なっていてもよい。Ｚ^１は水素原子、フッ素原子、式−ＣＨＷ（ＯＨ）で表される基、または式−ＣＨＷＯＣＯＣＲ＝ＣＨ_２で表される基であって、３個のＺ^１は同一であっても異なっていてもよい。）、および該化合物を重合させて得られた重合体。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 芳香族ビニル化合物−（メタ）アクリレート共重合体中の芳香環を水素化する工程を含む長期間また繰り返し安定的かつ速やかに透明度の高い水素化ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】 Ａ／Ｂ（Ａは（メタ）アクリレートモノマー由来の構成単位のモル数、および、Ｂは芳香族ビニルモノマー由来の構成単位のモル数）が０．２５〜４．０である芳香族ビニル化合物−（メタ）アクリレート共重合体を溶媒中、パラジウムが酸化ジルコニウム上に担持された触媒の存在下で水素化する。 （もっと読む）

【課題】
レジスト材料の機能向上のための原料として求められている重合性官能基と複数の水酸基を有する多環式の新規な化合物の及びその製造方法を開発することである。
【解決手段】
一般式（１）又は（２）で表されるグリセリンエステル誘導体により解決される。



（式（１）中上式において、Ａは脂環式構造を有する２価の基をR¹は、水素原子又はメチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】光ファイバアレイが高温高湿に晒されてもファイバ素線の位置ずれを起し難い光ファイバアレイ用樹脂材料を提供する。
【解決手段】光重合性化合物と光重合開始剤を含有する光ファイバアレイ用樹脂材料であって、光重合性化合物が必須成分のトリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、ミリスチルアセテートやラウリルアクリレート等から選択された少なくとも一種の化合物で構成され、光重合性化合物中における各割合がトリシクロデカンジメタノールジアクリレートを９０重量％以上、残りをラウリルアクリレート等から選択された化合物にすると共に、樹脂材料中における光重合性化合物の配合比率が９２〜９９重量％に設定され、光重合開始剤が１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンやビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルオキサイド等から選択された少なくとも一種の化合物で構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の高分子化合物を含むことにより、感度、保存安定性、及び無電解金めっき耐性に優れ、かつタック性が良好で感光層を傷付けることなく、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びアルカリ不溶性の熱架橋剤を含む感光性組成物を含み、前記バインダーが、側鎖に、炭素原子数７〜２０の置換基を有していてもよい鎖状及び環状のいずれかの炭化水素基、並びにエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を含むことを特徴とする感光性組成物等である。前記高分子化合物が側鎖にカルボキシル基を有する態様、などが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、１−アルケン及びアクリレート系単量体を、金属酸化物またはルイス酸の存在下でラジカル重合反応させる段階を含む１−アルケン−アクリレート系共重合体の製造方法、及びアルケン及びアクリレート系単量体を、金属酸化物の存在下で反応させる段階を含むアルケン−アクリレート系共重合体の製造方法を開示する。本発明による製造方法は、温和な条件、例えば２００バール以下、１００℃以下のマイルド条件で共重合体を製造することができ、工程が単純で、共重合体の物性制御が容易であり、特に、金属酸化物を回収して再使用が可能であって、前記方法により製造された共重合体は、極性基の含有量が著しく高く、透明光学素材などの用途に使用可能である。本発明により製造されたアルケン−アクリレート系共重合体は、アルケンと極性モノマーのランダム共重合体でありながら、極性基の含有量が著しく高く、アルケンの結晶性が存在しないため、高分子フィルムなどに加工後にも高分子の透明性には影響がなく、光学素材などの用途に使用可能である。
（もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光照射によって屈折率が変化し、かつ、屈折率の変化量が大きく、しかも、容易に成膜することができる新規な化合物、その製造方法およびその化合物からなる屈折率変換材料、光−熱エネルギー変換蓄積材料を提供する。
【解決手段】上記化合物は、下記式（１）で表される。


［ｍは４〜８の整数、Ｒ^１は側鎖にノルボルナジエン環を有する（メタ）アクリル系ポリマーを主鎖とする基である。］ （もっと読む）

本発明は、１−アルケン及びアクリレート系単量体を金属酸化物またはルイス酸の存在下でラジカル重合反応させる段階を含む方法により製造される１−アルケン−アクリレート系共重合体を開示する。本発明による１−アルケン−アクリレート系共重合体は、アルケンと極性モノマーのランダム共重合体でありながら、極性基の含有量が著しく高く、アルケンの結晶性が存在しなくなるため、高分子フィルムなどに加工後にも、高分子の透明性には影響がなく、光学素材などの用途に使用可能である。また、本発明で提供する特定範囲のエチレン−アクリレート共重合体は、高い機械的物性及び酸素遮断性を有するフィルムなどに製造が可能である。特に、エチレンの結晶性が存在しなくなるため、高分子フィルムなどに加工後にも、高分子の透明性には影響がなく、高透明性遮断性樹脂への応用も可能である。本発明によるエチレン−アクリレート系共重合体のエチレン含量は、柔軟性及び延伸性などの機械的物性を向上させる重要な要因であり、アクリレート含量は、フィルムの酸素遮断性及び透明性を向上させる主要な要因である。したがって、二つの単量体間の含量を適宜調節することにより、所望の透明性、機械的物性及びガス遮断効果を同時に有する樹脂及びフィルムなどを製造することができる。
（もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸分解性繰り返し単位と特定構造の非酸分解性繰り返し単位とを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）