【課題】良好なアルカリ現像性を耐熱性、透明性に優れた硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】特定構造を有する硬化性樹脂組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成し、かつ良好なアルカリ現像性することができるものであり、例えば、レジスト材料、各種コーティング剤、塗料等の用途において好適に用いることができる。また、本発明によれば、パターンの欠損や現像残渣のない良好な品質のカラーフィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率と高いアッベ数とを有することのできる硬化物を与える放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される含硫黄化合物と、エチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させることにより得られる含硫黄エチレン性不飽和基含有化合物；それを含有する放射線硬化性組成物；及び硬化物。
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【課題】単分散性の高い非架橋のアクリル系樹脂粒子を安定して得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】特定の粘度を有する、（メタ）アクリル酸エステル誘導体からなる単官能性モノマー成分Ａと、メタクリル酸エステル誘導体からなる単官能性モノマー成分Ｂと、アクリル酸エステル誘導体からなる単官能性モノマー成分Ｃとを特定量含むモノマー混合物に、光重合開始剤を加え混合組成物を得る工程と、前記混合組成物をマイクロチャネルを介して、界面活性剤を特定量含む水系媒体中に分散してモノマー混合物の液滴を含むエマルジョンを生成する工程と、前記エマルジョンに紫外線を照射して液滴を重合させてアクリル系樹脂粒子を得る工程とを含み、前記マイクロチャネルが、混合組成物と水系媒体とを仕切り、厚み方向に貫通孔を備えた中間プレートを備え、前記貫通孔は２段構造であることを特徴とするアクリル系樹脂粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板やＳｉＯ₂またはＳｉＮ等の絶縁膜を有する基板をウェットエッチン
グ加工する際のレジスト膜の形成に好適な放射線硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）側鎖にフッ素化炭化水素基を有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位を含有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物および（Ｃ）放射線ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線に対して高い反射率を有し、さらに、機械特性に優れ、密着性に優れた光半導体用反射材を提供する。
【解決手段】下記の成分（ａ）及び（ｂ）を含むバインダー成分１００質量部と、波長３５０ｎｍでの紫外線透過率が５０％以上である材質からなる中空粒子２５〜１５０質量部を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
（ａ）炭素数７以上の脂環式炭化水素基を含有する（メタ）アクリル酸エステル：１５〜７０質量％。
（ｂ）炭素数１０以上の非環式有機鎖を含有する（メタ）アクリル酸エステル、及び／又は粘度が５０ｍｍ^２／ｓ以上であるシリコーン（メタ）アクリル酸エステル：３０〜８５質量％（但し、成分（ｂ）は多官能（メタ）アクリル酸エステルを、バインダー成分の全量に対し８質量％以上含有する）。 （もっと読む）

【課題】液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板などを製造するために用いられるインクジェット用インクにおいて、難燃性、密着性、耐薬品性、耐熱性、弾性等のバランスのとれた硬化膜を形成することが容易な重合体組成物を与える難燃剤、上記特性バランスに優れた難燃性の重合体組成物を提供する。
【解決手段】例示すれば、下記式（12）、または(16）の構造を有する難燃剤。




（式中、R６はC2〜12のアルキレン基であり、tは1〜30の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】次の一般式（１）


〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² のいずれか一方は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、他方は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、Ｒ³ 〜Ｒ⁹ は、１価の非重合性基を示し、Ａは重合可能な炭素−炭素二重結合を有する基を示す。〕
で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。
【効果】波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。 （もっと読む）

【課題】粒子形状が真球状で、かつ、粒径分布が極めてシャープであり、スラリーにした時の粘度が低く、発泡がシャープで均一な発泡体を与えることができる発泡性マイクロスフェアーを提供すること。
【解決手段】重合体の外殻内に発泡剤が封入された真球状の発泡性マイクロスフェアーであって、（１）発泡性マイクロスフェアーの平均粒径が、３〜１００μｍの範囲内であり、（２）発泡性マイクロスフェアーの粒径分布の変動係数が、１．５０％以下であり、かつ（３）発泡性マイクロスフェアーが、凝集していないことを特徴とする真球状の発泡性マイクロスフェアー。 （もっと読む）

【課題】硬化収縮が小さく密着性に優れ、低粘度でかつ、速硬化性の多官能（メタ）アクリレートを用いた熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリグリセリン（平均重合度３〜１５）及びアルキレンオキサイド（炭素数２〜４のアルキレンオキサイドであって、付加モル数４〜５０）を反応して得られるポリグリセリンアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレートを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

フォトリソグラフィー用２層コート基板製造のための多層リソグラフィー工程において使用するためのエッチング耐性の熱硬化性下層組成物であり、該組成物は（ａ）化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の繰り返し単位を含むポリマー、（ｂ）少なくとも１つの架橋剤、（ｃ）少なくとも１つの熱酸発生剤、および（ｄ）少なくとも１つの溶剤の組成物である。
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【課題】ポリスチレン等の樹脂基材に対し付着性，硬化性に優れたハードコートあるいはアンダーコート層を形成できる被覆組成物とこれを用いた成型物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される単量体３０〜７０質量部、（Ｂ）分子中に少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレート（但し前記（Ａ）以外の化合物）６９．９〜１５質量部、（Ｃ）光重合開始剤０．１〜１５質量部（但し、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計量は１００質量部とする）からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型被覆材組成物。


（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度で、１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】リビングラジカル重合で得られた、光重合性不飽和基を有する共重合体、重合性不飽和化合物、および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた貯蔵安定性を示しながらも、耐熱性、透明性、残膜率、平坦化率及び接着性が良好である。また、バインダー樹脂の構造や潜在性熱硬化剤の種類や組成比を変化させオーバーコートで求められる物性を調節することが可能なので、ＴＦＴ‐ＬＣＤなどに用いられるカラーフィルターのオーバーコート材料として有効に用いられるオーバーコート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂３重量％ないし５０重量％；潜在性硬化剤０重量％ないし１５重量％；シリコン系化合物０．０１重量％ないし１５重量％及び有機溶媒２０重量％ないし９６．９９重量％を含有することを特徴とする熱硬化型オーバーコート樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の脂環ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ１）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィーにおいて使用されるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等の薄膜形成に用いられる、半導体リソグラフィー用共重合体であって、薄膜形成用組成物溶液への溶解性に優れ、マイクロゲル等の微粒子が発生しにくく、パターン欠陥が発生しにくい半導体リソグラフィー用共重合体と、該共重合体を工業的なスケールで安定して製造する方法の提供。【解決手段】水酸基を有する繰り返し単位（Ａ）、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）及び環状エーテル構造を有する繰り返し単位（Ｄ）から選ばれる少なくとも１種以上の繰り返し単位を含む共重合体であって、該共重合体を含む、粘度が１５ｍＰａ・ｓｅｃのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を、圧力差０．１ＭＰａで細孔径０．０３μｍのフィルターに６０分間通液したときのフィルター面積当たりの平均流速が２００ｇ／ｍｉｎ／ｍ²以上であることを特徴とする半導体リソグラフィー用共重合体及びその製造法。 （もっと読む）

【課題】硬化前においては微細凹凸パターンの形成能及びその他の加工適性に優れると共に、強度、硬度、耐熱性、耐久性、柔軟性、或いは他の諸点において優れた硬化後物性（特に、硬化後の耐熱性と耐久性）を有する塗膜を形成することが可能な光硬化性樹脂、当該樹脂を含有する光硬化性樹脂組成物、当該樹脂組成物を用いて微細凹凸パターンを形成する方法、及び、当該樹脂組成物を用いた転写箔、光学物品及びスタンパーを提供する。
【解決手段】水酸基を有する構成単位を主鎖骨格に含む重合体（ａ）と、１つの水酸基と１つの光重合性官能基を少なくとも有する重合性化合物（ｃ）とが、少なくとも２つのイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ｂ）を介して結合している光硬化性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造およびカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位、オキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位、ならびに上記２つの重合単位以外の、重合性不飽和化合物に由来する重合単位からなる共重合体を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト性能を悪化させることなく、レジスト用樹脂を効率よく製造する方法及び該製造方法によって製造された樹脂を提供する。更には、該樹脂を含有する、解像度、露光ラチチュードが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂溶液に対し、下記（ａ１）と（ａ２）とを含有する混合溶剤を接触させることにより、樹脂粉体を析出させる工程を含むレジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有する、解像度、露光ラチチュードが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
（ａ１）アルコール溶剤及び水から選ばれる少なくとも１種、及び
（ａ２）水酸基を有さない溶剤から選ばれる少なくとも１種。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーを用いるリソグラフィー等の液浸露光用のレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、液浸露光時にレジスト組成物からのクエンチャーの溶出が少ない重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のアミン骨格を有する構成単位（Ｍ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、レジスト膜と露光装置の最終レンズとの間に液浸液を介在させた状態で２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、耐熱変色性等に優れる皮膜を形成できるとともに、該樹脂を含む樹脂組成物の保存安定性が極めて高く合成も容易なポリマーを提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性基を含むモノマー単位、（Ｂ）オキシラン環、オキセタン環又はオキソラン環を含有する重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位、及び（Ｃ）Ｎ−置換マレイミド等の重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位からなる共重合体であって、前記モノマー単位（Ｂ）の割合が全モノマー単位に対して１重量％以上４０重量％未満であり、且つ前記モノマー単位（Ｂ）のうち６０重量％以上が特定の３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン環含有化合物に対応するモノマー単位であることを特徴とする。 （もっと読む）