【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、Ｒ¹、Ｒ²のうち少なくとも一方は炭化水素基である。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表される少なくとも１種のモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

深紫外線、特に１９３および２４８ｎｍでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するＡｒＦおよびＫｒｆフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^bは炭化水素基（但し、隣接する酸素原子との結合部位に第３級炭素原子を有する炭化水素基を除く）を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】 ＥＢまたはＥＵＶ照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】触媒組成物およびその調製に関する方法。ならびに非極性オレフィンモノマー、極性オレフィンモノマーおよびのその組み合わせを含むエチレン性不飽和モノマーを、触媒組成物の存在下で重合、ポリマーを調製する方法。
【解決手段】少なくとも一つのカチオン性金属対錯体を含む触媒組成物で、対の金属原子は少なくとも１．５オングストロームで２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する特定構造の錯体を含有する触媒組成物、および触媒組成物を用いて重合したポリマーを提供する。 （もっと読む）

【課題】 １５０度以上の超撥水性と無色透明性を兼ね備え、しかも表面硬度に優れる硬化塗膜の形成が可能な組成物、およびそのような特性を有する成形物、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 １分子中に２個以下のラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物および／または重合性不飽和二重結合を含まない樹脂を、組成物（塗膜形成成分）１００質量部中に３５質量部以下の割合で含有する、全光線透過率が９０％以上、ヘイズ値が１％以下、および水に対する接触角が１５０度以上の硬化物を形成しうる組成物。 （もっと読む）

【課題】 紫外線等の照射によって架橋による３次元硬化が可能な重合体、及びこれを含有する樹脂組成物において、反応成形時の収縮等による歪（ゆが）みや割れを防止することができ、最表面の硬化不良をも防止できるものを提供する。
【解決手段】下記に示すような１〜３個のエポキシ基及び１個のラジカル反応基を分子中に含むエポキシ基含有モノマーを、単独で、または１個のラジカル反応基を分子中に含む非エポキシ基含有モノマーとの組み合わせで、ラジカル反応基の重合により、可塑性、熱可塑性または液状の重合体を得る。この重合体は、エポキシ当量が２００〜２０００（ｇ／ｅｑ）であり、かつ、重量平均分子量が２０００〜２０万である。紫外線等の照射により、光カチオン重合機構による３次元架橋により硬化が行われる。この硬化の際の体積収縮率は２％未満とすることができ、各種光学材料として使用可能な硬化物を得ることができる。
【化１】
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【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板ＳＵＢ上に成膜した金属膜ＭＴを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストＮＲＧを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクＮＭＫを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜ＭＴをエッチングして除去した後、ホトレジストＮＲＧを除去する。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物において、前記樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】２−エチル−１，３，３，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチル−１，７，７，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−ｅｘｏ−２−イル−メタクリレート，２−エチル−エチルトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−ｅｘｏ−８−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、２−または３−シアノ−５−ノルボルニルメタクリレート，１−メタクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 （もっと読む）

【課題】触媒組成物およびその調製方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを調製するための該触媒組成物の使用を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの金属対を含有するカチオン性金属対錯体であって、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第１の金属とＮｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第２の金属とが１．５〜２０オングストロームの核間距離を有する特定構造の錯体を含む触媒組成物。該触媒組成物を用いた極性および／または非極性エチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマー。 （もっと読む）

【課題】 解像性やレジストパターン形状に優れるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。また、有機溶剤に対する溶解性に優れ、ディフェクトリスクを低減できるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）とを含有することを特徴とするレジスト組成物用重合体。
【化１】
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【課題】 優れた解像性を有するとともに、発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又は低級アルキル基である。Ｒ^３は炭素原子数１〜１５のアルキル基又は脂肪族環式基であって、エーテル結合、水酸基、カルボニル基、エステル基、およびアミノ基からなる群から選ばれる１種以上の置換基を有していてもよい。ｎ_２は０又は１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

本発明の液状の未架橋UV硬化性マイケル付加樹脂および混合物は、これらを非常に有効な被覆物質にする性能特性を示し、これらの特性は、組成物に応じて大きく変性することができる。マイケル供与体および受容体は、I型および/またはII型光開始剤から構築することができ、並外れた光反応性および特性を有するUV硬化性被覆をつくるために開示された被覆組成物に含有させることができる。金属、プラスチック、木、紙およびガラスに対する優れた接着性を示す樹脂を製造することができる。これらは、広範囲の硬度、強靭性、可撓性、引張り強度、耐汚染性、耐スクラッチ性、耐衝撃性、耐溶剤性などを示す。ほとんどいかなる所望の被覆性能パラメータも原材料の構成単位の適正な選択によって達成することができる。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、光学的性質をもつ少なくとも1種の新規なモノマー化合物を含む少なくとも1種のポリマーを含む化粧品組成物又は医薬組成物に関する。本発明はまた、このような化粧品組成物をケラチン質(例えば、体若しくは顔の皮膚、唇、爪、睫毛、眉毛及び／又は毛髪)に適用することを含む、ケラチン質をメイクアップ又は治療する化粧方法にも関する。光学的性質をもつ新規なモノマー化合物、それらを含むポリマー及び組成物に光学的性質（特に蛍光性質)をもたせるために組成物にそれらのポリマーを使用することも開示されている。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、光学的効果の性質をもつ少なくとも1種の新規なモノマー化合物を含む少なくとも1種のポリマーを含む化粧品組成物又は医薬組成物に関する。本発明はまた、このような化粧品組成物の1つをケラチン質(例えば、体若しくは顔の皮膚、唇、爪、睫毛、眉毛及び／又は毛髪)に適用することを含む、ケラチン質をメイクアップ又はケアする化粧方法にも関する。本発明はさらに、式(I)をもち光学的性質をもつ新規なモノマー化合物、それらを含むポリマー及び組成物に光学的効果(例えば、蛍光又は蛍光増白)をもたせるために組成物にそれらのポリマーを使用することに関する。
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官能性フルオロモノマーをオルガノボラン開始剤で重合し、官能性フルオロポリマーと、アリル系プロトン、Ｓｉ−Ｈ基およびオレフィン基を有するモノマーから製造される官能性ポリマーを含む共重合体とを得る。 （もっと読む）

本発明は、関連する粘度を有し、かつ界面活性剤と、重合可能な成分と、応答して粘度を変化させるために刺激に応答する開始剤を含む組成物であって、液体状態で、約１００センチポアズ未満の粘度と、約２０トール未満の蒸気圧を、かつ固体硬化状態で、約１００ＭＰａを超える引っ張り係数と、約３ＭＰａを超える破壊応力と、約２％を超える破断点伸びを有する組成物を特徴とする、インプリントリソグラフィ用の材料を対象とする。 （もっと読む）

アルコキシアルキル（メタ）アクリレート単量体単位７０.１〜９９．８重量％、メタクリロニトリル単量体単位０．１〜９．９重量％及びブテンジオン酸モノエステル単量体単位０．１〜２０重量％とから成るアクリルゴム及びこれに架橋剤を含有してなる架橋性アクリルゴム組成物。この発明によると、スコーチの安定性に優れる架橋性アクリルゴム組成物、及び該架橋性アクリルゴム組成物を架橋して得られる、耐熱性、耐寒性及び耐燃料油性に優れるアクリルゴム架橋物を提供することができる。 （もっと読む）

少なくとも１種の芳香族モノマー及び少なくとも１種のアクリレートモノマーの反復単位を含む、残留モノモノマー濃度が低い、粘着付与樹脂が提供される。本発明の他の実施態様において、粘着付与樹脂は、それを含む接着剤組成物の湿気輸送速度を著しくは低下させず、前記粘着付与樹脂を含む接着剤組成物の曇り性を著しくは増加させず且つ皮膚感作性を著しくは示さない。この粘着付与樹脂の製造方法も提供される。その方法は、粘着付与樹脂生成物流と少なくとも１種のキャリヤーとを、前記粘着付与樹脂生成物流から少なくとも１種の残留モノマーの少なくとも一部を除去するのに充分な温度において、接触させて粘着付与樹脂を生成させることを含む。
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