【課題】 広範囲のインキ、塗料に使用できる顔料分散用樹脂において、顔料分散性、溶剤への溶解性、各種バインダ樹脂との相溶性を改善する。
【解決手段】 (1)２個以上の環からなる飽和脂環基を有する(メタ)アクリル酸エステルと、(2)(メタ)アクリル酸のＣ₁₀〜Ｃ₃₅のアルキルエステルと、(3)水酸基、カルボキシル基などの官能基を含有するモノマーとを重合した共重合体(Ａ)を有効成分とし、構成モノマー(1)の含有量が５〜６０重量％、モノマー(2)が５〜５０重量％、モノマー(3)が０.１〜３０重量％の顔料分散用樹脂である。モノマー(1)〜(3)の種類と組成比を特定化し、特にモノマー(1)の含有量の上限をあまり増大させず、モノマー(3)の含有量の上限を低く抑えるため、溶剤への溶解性と各種バインダ樹脂との相溶性に優れる。 （もっと読む）

【課題】 顔料などの分散質の分散性に優れ、且つ長期に亘って安定的に分散状態を維持し得るグラフト共重合体からなる水性分散剤、及び当該分散剤を用いた水性インキの提供。
【解決手段】 グラフト共重合体の側鎖が、下記一般式で示される構造を有し、主鎖はビニル芳香族単量体及び脂環式（メタ）アクリレートを必須成分とし、酸価が４０〜１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲であるグラフト共重合体からなる水性分散剤、及び該水性分散剤を配合し、これに顔料などの着色剤及び水性媒体を含有させた水性インク。


〔Ｒ_１ 、Ｒ_２は水素原子またはアルキル基、Ｘは酸素原子、アルキレンジオキシ基もしくはウレタン基を含む置換基、ｍは１〜２０、ｎは１〜５。〕 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、機能性を持つ新たな重合体、及び、斯かる重合体を、物性制御幅が広く、容易に合成する方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン又はスチレン共重合体中の芳香環に脂環式環状オレフィンユニットを有する重合体、及び、プロトン酸触媒の存在下、ポリスチレン又はスチレン共重合体の芳香環に環状オレフィンを付加させることを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子工業用、耐熱性樹脂等の高機能性樹脂原料として用いられる高純度アダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法を提供する。
【解決手段】アダマンタノール類と、メタクリル酸誘導体またはアクリル酸誘導体とを原料として、高純度アダマンチル（メタ）アクリレート類を製造する方法において、粗アダマンチル（メタ）アクリレート類中をアルカリ性水溶液で洗浄することを特徴とする高純度アダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が強化された有機絶縁膜を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物５乃至３５重量％、スチレン系化合物５乃至４０重量％、エポキシ系化合物５乃至４０重量％、イソボルニル系化合物０．１乃至１０重量％及びジシクロペンタジエン系化合物２０乃至４０重量％を重合して製造される有機絶縁膜用樹脂組成物及びその製造方法と前記樹脂組成物で形成された絶縁膜を含む表示板。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一つの有機（メタ）アクリレート、亜鉛（II）ジメタクリレート、並びに亜鉛及び主族金属からなる群より選択される二価もしくは三価の金属の、式MOまたはM₂O₃の少なくとも一つの金属酸化物を含む組成物に関する。前記組成物は貯蔵に際して安定であり、硬化して可撓性の物質をもたらし、この物質は高温下でさえも様々な基体に対して優れた接着性を有し、優れた機械特性を有する。 （もっと読む）

複数のペンダント性及び／又は末端エチレン性不飽和フリーラジカル重合性官能基、フリーラジカル重合性架橋剤及び／又は希釈剤モノマー、並びに、光開始剤を有するオリゴマーを含む硬化性組成物を提供する。前記組成物は、硬化させると、黄変がなく、低収縮及び低複屈折を示すことから、光学レンズ、光ファイバ、プリズム、光ガイド、光学接着剤、及び、光学フィルムのような多くの光学用途に適している。
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【課題】誘電率、耐クラック性等の膜特性の観点において優れた絶縁膜、およびそれを用いた電子デバイスを得るための膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】カゴ型構造を有するモノマーからカゴ型構造を有する重合体を製造する際、重合体と反応し得る、熱分解性基を有する化合物を溶媒として用いることを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

複数のペンダント及び／又は末端エチレン性不飽和フリーラジカル重合性官能基と、フリーラジカル重合性架橋剤及び／又は希釈剤モノマーと、光開始剤とを有するオリゴマーを含む硬化性組成物を提供する。硬化時、組成物は、非黄変であり、低収縮及び低複屈折を示して、それを光学レンズ、光学繊維、プリズム、ライトガイド、光学接着剤及び光学フィルムなどの多くの光学用途に好適にする。
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【課題】 光学特性、熱特性、機械特性に優れた樹脂成形体であり、とりわけ、高精細なフレキシブルディスプレイ用のプラスチック基板として有用である樹脂成形体を提供すること。
【解決手段】光重合性組成物［Ｉ］を光硬化して得られる厚さ５０〜３００μｍの樹脂成形体であって、次の３つの条件を満たすことを特徴とする樹脂成形体。
１．ガラス転移温度が２００℃以上であること。
２．３０℃における曲げ弾性率が、３．０〜４．５ＧＰａであること。
３．ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−１：１９９９に準拠して、直径１０ｍｍの円筒形を用いたマンドレル法の耐屈曲試験（折り曲げ時間２秒、サンプルサイズ１００ｍｍ×５０ｍｍ）を行った時に割れないこと。 （もっと読む）

【課題】特に弾性率が低く、応力緩和特性に優れる半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料、及び特に耐リフロー性等の信頼性に優れた半導体装置を提供することである。
【解決手段】少なくとも一つの重合可能な不飽和結合を有するダイマー酸誘導体（Ａ）、重合開始剤（Ｂ）、及び充填材（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物及び該樹脂組成物をダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料として用いて製作されることを特徴とする半導体装置。 （もっと読む）

【課題】浸漬露光時の物質溶出の抑制とリソグラフィー特性とを両立できる液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含み、樹脂成分（Ａ）が、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を主鎖に有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）とを含有し、非主鎖環状型重合体（Ａ２）が、下記一般式（ｐ１）［Ｙは低級アルキル基または脂肪族環式基を表す。］で表される酸解離性溶解抑制基（ｐ１）を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】 ＰＰ，ＰＥ等のポリオレフィンやエチレン−ビニルアルコール共重合体等の難接着性なプラスチック素材に対して、好適に印刷、塗装、接着等を施すことができる紫外線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 光反応性希釈剤として、グリセロールモノメタクリレートとグリセロールジメタクリレートの何れか一方又は両方を含む組成の紫外線硬化型樹脂組成物とした。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、レジスト保管時に異物の発生、増加が起こらない。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有し、上記酸解離性基含有樹脂は該樹脂中に含まれるモノマーを主成分とする低分子量成分が固形分換算にて上記樹脂全体に対して０．５重量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる、低誘電率であるとともに、耐熱性、機械的強度に優れた膜、該膜を提供できる膜形成用組成物、該膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】アダマンタン、ビアダマンタン、ジアマンタン、トリマンタン、テトラマンタンのカゴ型構造を有するモノマーの重合体よりなり、ラマン分光測定において、ラマンシフト３００〜３１００ｃｍ^-1の領域において最も強度が高いピークが６９０〜８００ｃｍ^-1に存在する膜、該膜を形成する膜形成用組成物、さらには該膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】薄膜で十分な散乱性を示すとともに、平坦性が良好であり、必要な部分に選択的にパターニングすることが可能な感光性組成物を提供する感光性樹脂用基材、この感光性樹脂用基材を含む感光性組成物、この感光性樹脂組成物から形成された光散乱膜を提供する。
【解決手段】下記式により表わされる構造を有することを特徴とする感光性樹脂用基材。
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【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ヒドロキシ基を有するビニルナフタレンとヒドロキシ基を有さない特定のオレフィン類の繰り返し単位とを共重合してなる重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】短い施工時間で、既存弾性舗装体表面の雨天時等のウェット状態でのすべり抵抗性を回復することのできる弾性舗装補修用舗装材料および弾性舗装の補修方法を提供する。
【解決手段】既設弾性舗装体上に敷設される舗装材料であって、光硬化材料を主成分とし、硬質骨材を含む弾性舗装補修用舗装材料である。光硬化材料は、好適には光重合性官能基を有する反応性ポリマー並びに／またはモノマーおよびオリゴマーと、光重合開始剤とからなる。既設弾性舗装体上に、上記弾性舗装補修用舗装材料を塗布し、硬化させる弾性舗装の補修方法である。硬化は、太陽光または紫外線の照射により行うことができる。 （もっと読む）

【課題】高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、また、現像後の残渣が低減され、ＱＣＭ法等による測定における現像中の膨潤を抑えることができる。従って、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】酸不安定基を有する（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとベンゼン縮合環構造を有する特定の構造の（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとの共重合により得られる高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度、面性（面状）等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物（塗布液）およびそれに用いる重合体に関し、さらには該塗布液を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有し、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が１０００〜５０００００であり、多分散度（Mw/Mn）（Mw：重量平均分子量、Mn：数平均分子量）が３０以下であることを特徴とする重合体、該膜形成用組成物を用いて形成した絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）