【課題】 高いフッ素含量を有しながら、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性や高い成膜性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、さらにはその高分子化合物をコーティングした反射防止材料、光デバイス材料を提供する。
【解決手段】 高いフッ素含量とヒドロキシ基を含有させた特定の化合物として一連の新規な含フッ素アクリレート誘導体およびそれらの単量体を用いた高分子化合物、さらにその高分子化合物を用いた反射防止材料、光デバイス材料。 （もっと読む）

【課題】高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なアルカリ可溶性樹脂及びそれを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のビニルケトンフェノール及びその誘導体をラジカル重合性モノマーとして含むアルカリ可溶性重合体、及びこのアルカリ可溶性重合体と感光剤とを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光学用途で用いられるフィルムに要求されている透明性、光学等方性に優れ、実用的な耐熱性と機械強度を併せ持つ延伸フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと少なくとも１種の芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られ、かつ、芳香族ビニルモノマー由来の構成単位（Ｂモル）に対する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位（Ａモル）のモル比（Ａ／Ｂ）が０．２５〜４である共重合体の芳香族二重結合の７０％以上を水素化して得られる熱可塑性透明樹脂からなる延伸フィルム。
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【課題】新規化合物、および該化合物をモノマー単位とし、ポジ型レジスト組成物の成分として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、及びその重合、共重合体。［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し；Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、Ｒ^１〜Ｒ^３が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。Ｒ^２及びＲ^３は、一つの環構造を形成していてもよい。］
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【課題】スルホニル基を含むフォトレジストモノマー、ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記フォトレジストモノマーは、下記化学式で表される。


式中、Ｒ^＊は水素又はメチル基であり、Ｒ_１及びＲ_２は各々独立的にケトン基を含むか又は含まない炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアリールアルキル基であり、Ｒ_１及びＲ_２の何れか一つの作用基は存在しないことができ、Ｒ_１及びＲ_２は互いに連結して環を形成できる。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１ａ）及び（１ｂ）で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（Ｒ^1a及びＲ^1bはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2a、Ｒ^2b、Ｒ^3a及びＲ^3bはＨ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aとＲ^2b、Ｒ^3aとＲ^3bはそれぞれ結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよく、その場合、環を形成するＲ^2a、Ｒ^2b、Ｒ^3a及びＲ^3bはアルキレン基又はフッ素化アルキレン基。０＜ａ＜１、０＜ｂ＜１、ａ＋ｂ＝１。ｎは１〜４の整数。）
【効果】本発明のレジスト保護膜材料は撥水性及び滑水性に優れ、ＡｒＦ液浸リソグラフィーにおいて水の浸透やレジスト中の添加物の染み出し防止の点で優れた性能を発揮する。また、本発明のレジスト保護膜はアルカリ溶解性であるため、現像工程時に保護膜の剥離を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、露光ラチチュード性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分が、特定構造で表される、酸分解性基を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

Ａ）ラジカル重合可能な化合物を重合させることによって得られたポリマーおよびＢ）ラジカル重合可能なエチレン系不飽和基（略して重合性基）および５０００ｇ/ｍｏｌ未満の質量平均分子量Ｍ_wを有する化合物を含有する混合物において、化合物Ｂの少なくとも１０質量％が少なくとも１つの非芳香族環系を有する化合物Ｂ１であることを特徴とする、前記混合物。 （もっと読む）

【課題】室温を中心とした液晶相の広い温度範囲および良好な混和性等の性質を有する化合物、該化合物を含む組成物、ならびに該組成物の重合によって得られる光学異方性等に優れる重合体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


［Ｒ^aは（メタ）アクリロイルオキシ、オキシラン環、オキセタン環等の重合性基；Ａは
１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン等；Ｚは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；Ｙは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；ｍ、ｎは０〜５の整数である。］ （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、式中、置換基としてフッ素原子および／またはフッ素化アルキル基を有する炭素数４〜１２の脂肪族環式基で表される構成単位からなるアクリル酸エステル系樹脂成分（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、ＬＷＲ（ラインウィイズスラフネス）、疎密依存性の低減を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】酸分解性アセタール基を有する芳香族基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物とそのパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オキシム基を含むフォトレジストモノマー、ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記フォトレジストモノマーは、下記化学式で表される。


式中、Ｒ^＊は各々独立的に水素又はメチル基であり、Ｒはエーテル基を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数１〜２５のアルキル基であるか、あるいは、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基又はマルチシクロアルキル基を含み、エーテル基、ケトン基又は硫黄を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数４〜２５の炭化水素基である。 （もっと読む）

【課題】光造形時の収縮が小さく、反りが発生せず、且つ硬化感度、寸法精度、力学的特性、外観に優れる立体造形物を生産性良く製造できる光学的立体造形用樹脂組成物の提供。
【解決手段】(Ｉａ)または(Ｉｂ)のジ（メタ）アクリレート化合物を５〜６０質量％含有する樹脂組成物。
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【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び／又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 （もっと読む）

【課題】アクリル系粘着剤の特徴である優れた耐候性、透明性有し、且つ低エネルギー表面に対する接着性、固定性、耐熱性に優れたアクリル系粘着剤組成物を提供する。また上記アクリル系粘着剤組成物を塗布して得られる耐候性、透明性、低エネルギー表面に対する接着性、固定性、耐熱性に優れる粘着シートまたは粘着テープを提供する。
【解決手段】アクリル系ポリマーのモノマー成分として、式（１）を代表例とする少なくとも一種のテルペン系（メタ）アクリレート化合物を含有するアクリル系粘着剤組成物。


上記式中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。 （もっと読む）

側鎖を有するモノマーから誘導されたフルオロケミカルであって、該側鎖が、１個〜６個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基及び該ペルフルオロアルキル基に結合した炭化水素スペーサー基を含み、該スペーサー基が１５個〜５０個の炭素原子を有する、フルオロケミカル。ペルフルオロアルキル基は、室温で非結晶化性であり、スペーサー基は室温にて結晶化性である。 （もっと読む）