【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は三級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１−１）〜（１−３）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位のいずれか１種以上を有する高分子化合物であることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。Ｙは水酸基又はヒドロキシメチル基を示す。ｍは０、１又は２である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｙは水素原子又は水酸基を示し、少なくとも１個のＹは水酸基である。波線は結合の向きが不特定であることを示す。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】トリシクロデカン骨格を有し、光学特性などに優れた樹脂及びそれを用いる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される構成単位を含む樹脂。


（式（１）中、Ｙは、独立して炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、エステル基又は水酸基を示す。ｍは０〜１５の整数を示す。Ｘは式（２）で表される基を示す。） （もっと読む）

【課題】優れたイオン伝導性を有する含フッ素共重合体を提供し、電気化学的にも熱的にも安定であり、加工性に優れた固体電解質を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（ａ−１）および繰り返し単位（ａ−２）を少なくとも含む含フッ素重合体。


式中、Ｒ¹はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、ＱおよびＷは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した繰り返し単位を表す。Ｍ⁺は、水素カチオン、金属イオンまたは有機カチオンを表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】モールド剥離性およびドライエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香族基とフロロアルキル基を有する重合性単量体（Ａｘ）少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネスが小さいパターンを得られるとともに、露光ラチチュードが広いパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する繰り返し単位を少なくとも２種含有し、該２種の繰り返し単位は酸分解性基の反応活性化エネルギーが互いに異なり、該反応活性化エネルギーの差が４０．０ｋＪ／ｍｏｌ以下である樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた透明硬化樹脂パターン及び塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アリル基及びメタアリル基からなる群から選ばれる１以上の基を有する化合物（Ａ）、２以上のメルカプト基を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）並びにアルカリ可溶性樹脂（Ｅ）を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、特に液浸露光用レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該重合体を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式（ｉ−１）で表される基を有する重合体。下記一般式（Ｉ）で表される化合物。該化合物からなるラジカル重合開始剤。前記重合体を含有するレジスト組成物。式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。
［化１］
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【課題】位相差発現性が高いだけでなく逆波長分散性を有する光学フィルムを提供する。
【解決手段】下記化学構造式（Ｉ）で表されるアルキリデンノルボルネン類（ａ１）および負の固有複屈折率を与えるビニルモノマー（ａ２）を必須構成モノマーとする重合体（Ａ）であり、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍにおけるリタデーションをＲｅ［４５０］およびＲｅ［５５０］としたとき、下記関係式（１）と（２）を満足することを特徴とする逆波長分散性樹脂である。３０ｎｍ≦Ｒｅ［５５０］≦２８０ｎｍ（１）０．３≦Ｒｅ［４５０］／Ｒｅ［５５０］≦０．９９（２）
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【課題】付着した指紋が外観上目立ちにくく、拭取りが容易なハードコート膜が得られる耐指紋性向上剤および活性エネルギー線硬化性樹脂を提供する。
【解決手段】炭素数６〜２２のアルキル基を有するビニルモノマー（ａ１）および芳香族系ビニルモノマー（ａ２）から選ばれる少なくとも一種のビニルモノマー（Ａ）と、分子中に５〜１３個のフッ素原子を有するビニルモノマー（Ｂ）を、（Ａ）：（Ｂ）＝９０〜９９．９重量％：０．１〜１０重量％の比率で含有する重合成分を重合して得られる共重合体（Ｉ）を耐指紋性向上剤として配合する。および前記モノマー成分および分子中にエポキシ基を有するビニルモノマー（Ｃ）を（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）＝２０〜７０重量％：０．１〜１０重量％：２０〜７９．９重量％の比率で含有する重合成分を重合して得られる共重合体（ＩＩ）に、α,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる活性エネルギー線硬化型樹脂とする。 （もっと読む）

【課題】プロセスウィンドウの向上したレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する塩基発生剤成分（Ｃ）を含有し、前記塩基発生剤成分（Ｃ）が、下記一般式（ｃ１）［式中、Ｗはカルボニル基またはヒドロキシメチレン基であり、Ｒ^３は置換基を有していてもよい１価の芳香族基または１価の脂肪族基であり、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい１価の芳香族基または１価の脂肪族基であり、Ｒ^４およびＲ^５は共に１つの２価の基を形成していてもよい。］で表される化合物（Ｃ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。一般式（ａ０−１）中、Ｒ^２はメチル基、エチル基又はフッ素原子を有する有機基であり；−Ｏ−Ｒ^２はアルカリ現像液の作用により解離する基であり、−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子は前記樹脂成分（Ａ１）の主鎖に直接結合していないものとする。
［化１］
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【課題】透明性に優れたパターン状透明膜及びそれを提供するための技術を提供する。
【解決手段】シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、前記シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】精製前のフォトレジスト用樹脂を含有する樹脂溶液中に含まれる、樹脂の重合の際に副生したオリゴマーや低分子量のポリマー、目的とする重量平均分子量よりも高分子量のポリマーを効果的に除去することができ、分子量分布が狭く且つ残留金属濃度の低いフォトレジスト用樹脂を得ることができるフォトレジスト用樹脂の精製方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂の精製方法は、フォトレジスト用樹脂と溶剤とを含有する樹脂溶液におけるフォトレジスト用樹脂の精製を、カラムクロマトグラフィー（充填剤；例えば、シリカゲル等の無機材料）により行う。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等に用いた場合に、高い感度および／または解像度が得られるレジスト用（共）重合体を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有する単量体単位およびラクトン骨格を有する単量体単位から選ばれる少なくとも一種の単量体単位を含むレジスト用（共）重合体であって、分子末端に式−Ｒ^１・Ｃ・Ｒ^２（Ｒ^３）−で表わされる分子末端基が含まれていないことを特徴とするレジスト用（共）重合体。（Ｒ１およびＲ２はＨ、炭素数１〜１０のアルキル基、−ＣＯＯ−Ｒ^A、−Ｘ−ＣＯＯ−Ｒ^A、−ＣＯＮＲ^B−Ｒ^A、−Ｘ−ＣＯＮＲ^B−Ｒ^A、−ＮＲ^B−Ｒ^A、または−Ｘ−ＮＲ^B−Ｒ^Aであり、Ｒ3はシアノ基または炭素数２〜１０のシアノアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成に於いても、ラインエッジラフネス、プロファイルの劣化が少なく、現像欠陥が改良された、液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のシクロアルキル基を有する繰り返し単位を有し、且つ分子鎖の少なくとも一方の末端に特定構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に適用した場合のマスク形状再現性、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）特定の混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。
【解決手段】ナフトールを有する繰り返し単位、アダマンタンに結合する１級のヒドロキシ基を有する繰り返し単位、酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有する第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第１のレジストパターンを形成する工程と、前記第１のレジストパターンに波長２００ｎｍ以下の高エネルギー線の照射処理、及び加熱処理の少なくとも一方を施すことによって架橋硬化させる工程と、前記第１のレジストパターン上に第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第２のレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）