【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤、（Ｂ）含窒素基を有する重合体、及び、（Ｃ）ケトン系溶剤、を含有する組成物。（Ｂ）重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 発光ダイオード用封止材や有機ＥＬパネル用充填剤に好適な、光学的透明性、耐熱性に優れ、低硬化収縮率、低弾性率、低吸水率を有する硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及び脂環式（メタ）アクリレートを含有する発光ダイオード封止材用硬化性樹脂組成物；ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及び脂環式（メタ）アクリレートを含有する有機ＥＬパネル充填剤用硬化性樹脂組成物；脂環式（メタ）アクリレートはイソボルニル（メタ）アクリレート、またはフェンチル（メタ）アクリレートが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光硬化時のガス放出量が極めて少なく、封止性、密着性、耐薬品性などに優れ、湿式有機太陽電池の電解液を封止するのに適した光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】単官能（メタ）アクリレート、飽和熱可塑性エラストマー及び光重合開始剤を含有する光硬化性組成物であって、該単官能（メタ）アクリレートが炭素数１５〜２６の脂環族または脂肪族単官能（メタ）アクリレートで、該飽和熱可塑性エラストマーがスチレン−イソブチレンジブロック共重合体を４０質量％以上の割合で含有するもので、該飽和熱可塑性エラストマーの含有割合が単官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して３０〜８０質量部の範囲内で、かつ、特定の粘弾性特性を有する光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】光硬化後に基板等から容易に除去することができ、かつ、光硬化物の強度や感度が良好な光インプリントリソグラフィによる樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の少なくとも１種からなる光重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有し、前記光硬化性組成物中に含まれる光重合性化合物の総量に対する前記光重合性化合物（Ａ）の割合が９９質量％以上であり、かつ下記式（１）により算出したガラス転移温度Ｔｇが３１３Ｋ以上である樹脂パターン形成用光硬化性組成物とする。
【数１】


Ｔｇ_ｉ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物ｉのホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）
Ｗ_ｉ；光重合性化合物ｉの光重合性化合物（Ａ）に対する質量分率（％）
ｎ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の種類の数であり、１以上の整数 （もっと読む）

【課題】 導電性材料を含有し、基材フィルムの帯電を防止する機能を有するハードコート層を備えた、実用的な帯電防止ハードコートフィルム、および、帯電防止ハードコート層の形成材料として好適な、実用的な紫外線硬化性樹脂材料組成物を提供すること。
【解決手段】 ２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー及び／又はそのオリゴマー、（メタ）アクリロイル基を有する第四級アンモニウム塩及び／又はそのオリゴマー、（メタ）アクリロイル基と親水基とを有する相溶化剤分子及び／又はそのオリゴマー、及び重合開始剤を含有する、紫外線硬化性樹脂材料組成物の層を基材フィルム上に形成し、この層を硬化させ、基材フィルム１上にハードコート層２を形成する。なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタクリロイル基とのいずれかを意味するものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる化学増幅レジスト膜を形成するための化学増幅ポジ型レジスト組成物であって、少なくとも、（Ａ）３級アルキル基によってフェノール性水酸基が保護された繰り返し単位を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、前記３級アルキル基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分（Ｄ）有機溶剤、を含有し、回転塗布によって１０〜１００ｎｍの膜厚を有する前記化学増幅レジスト膜が得られるように固形分濃度を調整したものであることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶剤に対する溶解性の良好な重合体の重合方法に関する。
【解決手段】少なくとも１種類以上の単量体および重合開始剤を滴下する、メタクリル系のラクトン化合物を含む重合体の重合方法であって、全重合開始剤添加量をＡ（ｇ）、開始剤滴下時間をＢ（時間）、重合前に予め仕込まれた重合開始剤添加量および重合開始から３０分後までに投入された重合開始剤添加量をＸ（ｇ）とするとき、Ｘ＞Ａ／２Ｂを満足する重合方法である。（ただし、１＜Ｂとし、単量体および重合開始剤のいずれもが容器中に投入された時点を重合開始とする。） （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

【課題】 低揮発性、低粘度で、基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、エッチング耐性に優れる光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有し、２５℃における粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下である光硬化性樹脂組成物であって、前記（Ａ）光重合性化合物が、（Ａ１）２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓ以下であり、沸点が２４０℃以上である光重合性化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して３０〜９９質量％、及び（Ａ２）環状構造を含む多官能（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して０．１〜５０質量％含有する、光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲが小さく、現像時の溶け残りが少なく現像欠陥が発生し難い感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位（１）（Ｒ^１はメチル基等、Ｒ^２は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基等）、一般式（２）で表される繰り返し単位（２）（Ｒ^３はメチル基等、Ｒ^４は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基等）、及び環状炭酸エステル構造を有する繰り返し単位（３）を含む重合体（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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【課題】優れたリソグラフィー特性および耐熱性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキソカルボニル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリレート単位（ａ１）と、側鎖に１−アダマンチル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ３）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、該高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位（ａ３）の割合が、１〜３０モル％の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は少なくとも下記３成分の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）を含有し、かつ前記有機溶剤（Ｓ）中の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）の割合が、前記（Ｓ）成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、５０〜９０質量％の範囲、５〜４０質量％の範囲、０．１〜１５質量％の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に酸不安定基を有する繰り返し単位を有し、酸不安定基の脱離によりアルカリ性現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物でレジスト膜を形成する工程、該膜に高エネルギー線の繰り返し密集パターンを露光し、未露光部を露光、加熱し、発生酸を樹脂の酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応させた後、現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光又は加熱して、樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋を形成させてポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成工程、上記架橋形成ポジ型パターンを溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたレジストパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターン上に反転用膜を成膜し、パターンにダメージを与えずにポジ型パターンの間隙に反転用膜形成用材料を埋め込められ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行える。 （もっと読む）

ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを用いる方法および生産物が提供される。製造することができる生産物は、ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルと特定のモノマーの反応生成物から製造することができるセラミック材料、パーソナルケア製品、インク、塗料、布地および他の物品を含む。 （もっと読む）

【課題】各部位での色むら、濃度むら、筋むらを抑制することができるカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】カラーフィルタの製造方法は、描画データに基づいて基板上のセルにインクを付与する仮インク付与工程と、この工程で各セル内にそれぞれ付与されたインクの量を検出し、インクの量が目標値との乖離が大きいセルを補正対象セルとして特定し、補正対象セルにおける乖離の度合いを特定する補正対象セル特定工程と、補正対象セルのセル番号と、セル番号の補正対象セルにおける乖離の度合いとを記憶する記憶工程と、補正対象セル内のインクの量が目標値になるように、補正対象セルに付与する、乖離の度合いに対応したインクの液滴数の補正データを作成する補正データ作成工程と、補正データに基づいて補正対象セルに液滴数のインクを付与する本インク付与工程とを有する。インクの樹脂材料は、重合体Ｗ、Ｚの少なくとも一方を含む。 （もっと読む）

【課題】着色材料を含有しても、高感度であり、硬度も高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、
光重合性化合物（Ｂ）、
光重合開始剤（Ｃ）、
着色材料（Ｄ）および
溶剤（Ｅ）を含有する着色感光性樹脂組成物において、
バインダー樹脂（Ａ）が、下記（Ａ１）〜（Ａ３）を共重合させて得られる共重合体に、さらに（Ａ４）を反応させて得られる不飽和基含有樹脂であり、
かつ光重合開始剤（Ｃ）が、オキシム化合物を含む光重合開始剤であることを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
（Ａ１）；一分子中にトリシクロデカン骨格およびトリシクロデセン骨格からなる群から選ばれる少なくとも１種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
（Ａ２）；（Ａ１）および（Ａ３）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ａ３）；不飽和カルボン酸
（Ａ４）；一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が良好で、かつ高輝度な塗膜を形成できるメタリック塗料用重合体ならびにメタリック塗料組成物、および耐摩耗性が良好で、かつ高輝度な塗膜を有する塗装物を提供する。
【解決手段】ビニル基を有するポリエーテル変性シリコーン化合物（ａ１）由来の構成単位と、他の不飽和単量体（ａ２）由来の構成単位とを有するメタリック塗料用重合体（Ａ）；該メタリック塗料用重合体（Ａ）と、光輝顔料とを含むメタリック塗料組成物；および、該メタリック塗料組成物から得られる塗膜を有する塗装物。 （もっと読む）

【課題】欠陥の発生数が少ないレジスト膜を与えることが可能なフォトレジスト樹脂の製造方法等を提供する。
【解決手段】モノマー（１）を含む溶液に、モノマー（２）及び重合開始剤を混合し、モノマー（１）及びモノマー（２）を共重合させる工程を含むことを特徴とするフォトレジスト樹脂の製造方法。
モノマー（１）：エステル部位に多環式脂肪族炭化水素基を有し、酸に不安定なアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルである。
モノマー（２）：モノマー（１）とは異なるアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルである。 （もっと読む）