【課題】 ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ポジ型レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を露光および現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターンに架橋を形成する工程と、反転用膜を形成する工程と、アルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】高い屈折率を有しかつ紫外域の吸収や蛍光の問題が無い透明性に優れた重合可能な新規なアクリレート化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】高屈折性を有し、かつ２６０ｎｍ以上の高波長側に吸収が無く蛍光の問題も無い透明性に優れた芳香族多環化合物であるエタノアントラセン骨格を有し、かつラジカル重合可能なアクリレート基を有する化合物を提供する。また、アントラセン化合物と多官能アクリレートから当該化合物を合成する方法を提供する。この化合物はラジカル重合性があり、その重合物は透明性に優れ、高い屈折率を持つ樹脂として有用である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）［式（ａ０−１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のフッ素化アルキル基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して水素原子または任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を表し、Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】防汚染性塗料、防曇性塗料、防汚染性樹脂、防曇性樹脂、感光性平刷版などに有用な高分子化合物、および、その原料となる新規なα−置換アクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のフッ素化アル
キル基を表し、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を表し、Ｙは任意の位置が酸素原子、硫黄原子に置換されていても良いアルキレン基を表す。ｎ，ｍは、それぞれ整数を表し、ｎ＋ｍ≧１である。）
で示されるα−置換アクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、（メタ）アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。
【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、該（メタ）アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む（メタ）アクリル系重合体並びに該（メタ）アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】 基材に対する密着性に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性、特に耐熱着色性に優れた硬化物の得られる共重合体を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示す。Ｒ³はイソシアネート基のブロック剤Ｒ³Ｈの残基を示す）
で表されるブロックされたイソシアネート基を有するビニル単量体Ａに対応するモノマー単位と、カルボキシル基又は酸無水物基を有するビニル単量体Ｂに対応するモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、さらに、（メタ）アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物、ヒドロキシル基含有単量体に対応するモノマー単位を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
Ｒ¹−Ｏ−ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ｂ）
（式中、Ｒ¹はステロイド骨格を有する炭素数２０〜５０のヘテロ原子を含んでもよい一価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、スルホネートに、嵩高いステロイド構造を有しているため、適度な酸拡散制御を行うことができる。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用でき、疎密依存性、露光余裕度の問題も解決できる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に於いて、レジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、液浸液への溶出が抑制された液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合溶媒として、鎖状ケトン、環状ケトン、鎖状エーテル及び環状エーテルからなる群から選択される溶剤を用いて製造された、特定の、シクロアルキル構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、なかでも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるカルボキシル基を有するラクトン化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＣ１〜１０の１価炭化水素基又はＨ。あるいは、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｗは−ＣＨ₂、−Ｓ−又は−Ｏ−。ｋ¹は０〜４の整数。ｋ²は０又は１。） （もっと読む）

【課題】露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さいポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、（Ａ）成分は、一般式（ａ０）
（もっと読む）

【解決手段】（１）〜（３）の単位を含有する高分子。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、ＲｆはＨ、Ｆ、ＣＦ₃又はＣ₂Ｆ₅、Ａは二価の有機基。Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は酸素を含有してもよい有機基、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が相互に結合して式中の硫黄原子と環を形成しうる。Ｎは０〜２の整数を示す。Ｒ⁸はＨ又はアルキル基、Ｂは単結合または二価の有機基。ａは０〜３、ｂは１〜３、Ｘは酸不安定基。）
【効果】感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用。 （もっと読む）

【課題】 耐溶剤性、硬度、寸法安定性、低吸水性、耐熱性に優れ、さらに硬化収縮が起こらず、光学材料に好適な光学物性を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位と、側鎖に脂環骨格を有する繰り返し単位を含むビニルエーテル系共重合体を含有する硬化性樹脂組成物およびこれを硬化させてなる硬化物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）オオニシパラメータが５．０以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。（式中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】放射線、特にＥＵＶ等の（極）遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又は難溶性の重合体（Ａ）を含有する感放射線性樹脂組成物であり、重合体（Ａ）の、波長１３．５ｎｍにおける吸収係数が１．７μｍ^−１以上であり、重合体（Ａ）が、フッ素原子を含有しないフェノール構造の繰り返し単位を含むものである。 （もっと読む）

【課題】スペーサー形成時に発生する揮発成分量が極めて少なく、さらにスリットダイ塗布法による高速塗布にも対応できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］カルボキシル基およびカルボン酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代表される特定の多価チオール化合物に由来する基を有し、且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．８である重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物ならびに［Ｃ］感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】セルが多面付けされた基板上塗布する際に、塗布ムラの発生を低減することのできるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、該カラムスペーサ硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ、該カラムスペーサ硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性高分子化合物（Ａ）、分子内に２以上の重合性不飽和結合を有する化合物（Ｂ）、光反応開始剤（Ｃ）、及び、溶媒（Ｄ）を含有するカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物であって、溶媒（Ｄ）は、少なくともシクロヘキサノンを含有するカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プリント配線基板形成において、配線を形成するためのパターンサイズが微細化し、パターンのアスペクト比が増大しても、パターンの折れ曲がりなどが起こらず好適に用いることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリント配線基板用感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）特定のアルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、
（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤、および（Ｄ）１２０〜２７０℃の１種以上の溶媒から構成され、かつ各溶媒の沸点の加重平均値が１７０〜２７０℃である溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、レジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少ないポジ型感光性樹脂組成物、及び該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１ａ）及び／又は（１ｂ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


一般式（１ａ）及び（１ｂ）に於いて、Ｘａ₁は、水素原子、アルキル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Ｒｙ₁は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒa〜Ｒｉは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。 （もっと読む）