【課題】液状態での保存安定性が高く、硬化後には圧縮強度及び圧縮変形からの変形回復性に優れた硬化物が得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）不飽和カルボン酸又はその無水物に由来する構成単位の少なくとも１種とマレイミド系モノマーに由来する構成単位の少なくとも１種とを含み、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する共重合体と、（Ｂ）多官能性モノマーと、（Ｃ）光重合開始剤とを含んでいる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミ、エステル部分の加水分解を起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有する感度、パーティクル、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として特定化合物を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】短波長の結像照射に対して透明であり、かつドライエッチング法に対して耐性のあるフォトレジスト組成物に有用な多環式ポリマー及び多環式ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】ポリマー主鎖に沿って繰返し芳香族ペンダント基を含有する多環式ポリマーからなるレジスト組成物を用いる。このポリマーは深ＵＶ波長に対し光透明性の性質を示し、高解像度光平板法への応用に有用である。これらのポリマーは特に化学増幅型ポジおよびネガ型階調レジストに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミを起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するパーティクル、感度、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として水素酸の非水溶液を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】水に対する安定性が高く、耐熱性に優れ、酸発生剤により発生する酸に対する解離性に優れる樹脂を提供する。
【解決手段】式（１）で表される繰返し単位を含み、サイズ排除クロマトグラフィにより測定した質量平均分子量が１，０００〜５００，０００である。


Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ’は酸の作用により解離する基を表し、該重合体は側鎖にアダマンタン基に由来する嵩高い基を有し、更に側鎖末端に導入される基を解離させるため分子設計する。 （もっと読む）

【課題】低温での脱脂性に優れ、かつスクリーン印刷性にも優れた無機微粒子分散ペースト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】重量平均分子量が１０，０００〜２５，０００である分子末端にのみ極性官能基を有する（メタ）アクリル樹脂、沸点が１７０〜３２０℃である分子中に水酸基及び芳香族骨格有する有機溶剤、及び、無機微粒子を含有する無機微粒子分散ペースト。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度と優れた現像マージンを有しそして下地との密着性にも優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に好適な、感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、オキシラニル基含有不飽和化合物およびオキセタニル基含有不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる不飽和混合物の共重合体、１，２−キノンジアジド化合物、ならびに炭素数６〜１５のアリール基を有するシルセスキオキサンを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はビニル芳香族物質又はその他のラジカル重合性ビニル化合物又は主としてこのようなモノマーから成るモノマー混合物の連続的重合法を用いる重合による塗料に使用するためのポリマー製法に関する。特に本発明は、ポリマーの溶剤不含の製法に関し、それによって改良された加工性、非常に良好な熱安定性、改良された顔料湿潤性及び高い光沢を有する塗料に使用するための結合剤を製造することができる。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で表される水酸基を有する単量体。


（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基、又は、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。）
【効果】本発明の水酸基を有する単量体は、機能性材料の原料等として有用であり、特に波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、酸拡散制御効果に優れるため、解像性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用であり、また、本発明の高分子化合物は感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用である。 （もっと読む）

【解決手段】環状カーボネートを有する繰り返し単位と、酸によってアルカリ現像液に可溶になる繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光する工程と、加熱処理後に現像液を用いて上記レジスト膜を現像してポジ型パターンを形成する工程と、その後に熱あるいは酸と熱によってポジ型パターンを架橋硬化させ、反転用膜形成用組成物に含まれる有機溶媒に不溶でかつアルカリ現像液に可溶の膜に変質させる工程と、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程と、上記ポジ型パターンをアルカリ現像液で溶解除去する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジネガによる画像反転を行うことでレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた液晶表示素子用スペーサーまたは保護膜を製造することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。また、液晶表示素子用スペーサーの製造に用いる場合にあっては、さらに弾性回復性、ラビング耐性、密着性等の諸性能にも優れたスペーサーを製造することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる不飽和化合物の重合体、〔Ｂ〕特定の構造を有するカリックスアレーン系化合物、ならびに〔Ｃ〕感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、化学増幅ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト膜を形成する工程、該膜に第１ポジ型パターンを得る工程、更に該ポジ型パターンに反転膜形成用組成物に使用される有機溶剤への耐性を与える工程、第２化学増幅ポジ型レジスト材料で反転膜を形成し、該膜に第２ポジ型パターンを得る工程を含み、更に第２ポジ型レジストパターンを得るアルカリ現像液工程において、上記アルカリ性現像液に可溶に反転された第１ポジ型パターンが、第２パターンを得る工程中に溶解除去、反転転写される工程を含むダブルパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ヒドロキシ基含有溶剤や高極性溶剤を用い反転用膜の第２レジスト膜を成膜しても、第１ポジ型レジストパターンにダメージを与えず、間隙に第２レジスト材料を埋め込むことができ、第１ポジ型パターンを現像液でアルカリ可溶除去でき、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、および、化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記に示す（１）〜（４）の手順による、感放射線性樹脂組成物における現像欠陥の発生度合を評価することを特徴とする評価方法である；
（１）基板上に被評価対象の感放射線性樹脂組成物の膜を形成する手順、
（２）前記膜を露光後焼成する手順、
（３）前記露光後焼成した膜を現像液に溶解し、所定濃度の現像液溶液とする手順、
（４）動的光散乱法により、前記現像液溶液中の流体力学的半径を測定する手順。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の強度、および、モールドとの剥離性に優れたナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される芳香族カルボン酸アルケニルエステルを含み、組成物の粘度が３〜１８ｍＰａ・ｓであることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。


（式中、Ｒ¹は炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ²は炭素数２〜６のアルケニル基もしくは炭素数２〜６のアルケニルオキシ基を表し、Ａｒは芳香族炭化水素を表す。ｎは１以上の整数を表し、ｍは０以上の整数を表す。ｎ＋ｍは２以上の整数である。） （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、現像欠陥が少なく、ラインエッジラフネスが良好が良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び（Ａ’）特定の一般式で表され化合物に対応するスルホニウム構造を有する樹脂を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】重合時の固体付着を起こしにくく、不溶解性微粒子が発生しにくい溶媒を用いたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法の提供
【解決手段】酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する繰り返し単位を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法であって、分子構造中にシアノ基を持つ溶媒を含む溶媒中で重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される基を有する繰り返し単位を有し酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ−１）、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ−２）及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 （もっと読む）