保護層転写シートおよび印画物
【課題】画像を保護する転写シートを提供する。
【解決手段】基材と、下記一般式（１）
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シート。
【解決手段】基材と、下記一般式（１）
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護層転写シートおよび印画物に関し、特に耐光性等に優れた保護層を付与することができる保護層転写シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
画像を形成する種々プリント方式の一つとして、感熱により色材層中の染料が昇華拡散して受像シートに移行する感熱昇華転写がある。このような感熱昇華転写においては、加熱手段として、通常プリンタのサーマルヘッドが使用され、極めて短時間の加熱によって３色または４色の多数の加熱量が調整された色ドットを熱転写受像シートの受容層に転移させ、多色の色ドットにより原稿のフルカラーを再現するものである。この様に形成された画像は、使用する色材が染料であることから、非常に鮮明であり、かつ透明性に優れているため、得られる画像は中間色の再現性や階調性に優れ、従来のオフセット印刷やグラビア印刷による画像と同様であり、かつフルカラー写真画像に匹敵する高品質画像の形成が可能である。
【０００３】
しかしながら、上記の感熱昇華転写方式は、印加するエネルギー量によってドット単位で染料の移行量を制御できるため、階調性画像の形成に優れているが、形成された画像は通常の印刷インキによるものとは異なり、色材が顔料でなく比較的低分子量の染料であり、且つビヒクルが存在しないため耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性に劣るという欠点がある。
【０００４】
上記の欠点を改善する手段として、熱転写により色材層中の化合物と受容層中の化合物とを反応させることにより画像を形成する反応型の染料を用いた方法が提案されている。例えば、特許文献１〜４には、色材層側に含有させる化合物として熱拡散性染料を用い、受容層に含有させる化合物として金属イオン含有化合物を用い、熱転写後それらを反応させて熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成させることにより、画像を形成する方法（以下ポストキレート方式と呼ぶこともある。）が開示されている。
【０００５】
上記ポストキレート方式により形成された画像は、高温及び高湿下に長時間放置しても、染料の褪色及び滲みが起こりにくく、耐光性についても従来の方法より得られる画像に比べて優れている。しかしながら、上記ポストキレート方式により形成された画像であっても、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性が不十分な場合があった。
【０００６】
上記耐久性を改善する手段として、近年、画像が形成された受容層上に、保護層を設ける方法が提案されている。上記受容層上に保護層を設けると、上述のような、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性等の物理耐性を向上させることができる。また、保護層中に、紫外線吸収剤を添加することによって、染料の変質や分解を防止することができ、耐光性を向上させることができる。
【０００７】
上述したポストキレート方式で形成された画像に保護層を設ける場合、上記画像は、通常の方式で形成された画像よりも耐光性に優れているため、保護層に紫外線吸収剤を含有させなくてもある程度十分な耐光性を実現することは可能であるが、耐光性の更なる向上を図る場合には紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。この際、保護層を熱転写する時の熱エネルギーの強さによっては、保護層中の紫外線吸収剤と、受容層中の熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体とが反応を起こす場合があり、紫外線吸収剤が金属イオンに配位することで、紫外線吸収剤の吸収領域が可視光領域までシフトし、その結果、黄色味を帯びてしまうという問題があった。
【０００８】
【特許文献１】特開昭５９−７８８９３号公報
【特許文献２】特開昭５９−１０９３９４号公報
【特許文献３】特開昭６０−２３９８号公報
【特許文献４】特開２０００−２６３８２８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ポストキレート方式等により得られた画像を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、保護層を形成する際の熱エネルギー等によって、黄色味を帯びない保護層を得ることができる保護層転写シートを提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明においては、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、上記熱拡散性染料を転写した後、上記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、基材と、上記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、上記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【００１１】
【化１】
【００１２】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シートを提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含有する紫外線吸収性共重合体を用いることにより、本発明の保護層転写シートを用いて、保護層を形成した場合に、黄色味を帯びない保護層を得ることができる。また、更なる耐光性の向上を試みる場合、上記紫外線吸収性共重合体の他に、金属イオン含有化合物との反応性の低い共重合タイプではない紫外線吸収剤を選定し適量添加してもよい。好ましい紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系が挙げられる。
【００１４】
また、上記発明においては、上記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。３１０ｎｍに満たない場合は効果が小さく、３６０ｎｍを超える場合は印画物の黄味が強くなり、印画物の見た目に不具合を生じるからである。
【００１５】
また、上記発明においては、上記保護層形成用層が、分子量１５００以上のヒンダードアミン系光安定化剤を含有することが好ましい。上記光安定化剤は、光の照射等によって生成するラジカルを捕捉し、保護層の耐光性をより向上させることができ、さらに高分子量タイプのヒンダードアミン系光安定化剤を用いることにより、保管時に保護層表面上にその安定化材のブリードも無く、保存性に優れているからである。
【００１６】
また、本発明においては、上記保護層転写シートを用いたことを特徴とする印画物を提供する。本発明においては、上記保護層転写シートを用いることにより、上述した性質を有する保護層を備えた印画物を得ることができ、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性にも優れた印画物を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明においては、耐光性等に優れた保護層を付与することができる保護層転写シートを得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の保護層転写シートおよび印画物について説明する。
【００１９】
Ａ．保護層転写シート
本発明の保護層転写シートは、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、上記熱拡散性染料を転写した後、上記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、基材と、上記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、上記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【００２０】
【化２】
【００２１】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とするものである。本発明においては、中でも、上記紫外線吸収性モノマーが上記紫外線吸収性共重合体中に、４０〜９０ｍｏｌ％の範囲内、特に５０〜７０ｍｏｌ％の範囲内で含有されることが好ましい。
【００２２】
なお、本発明においては、上記紫外線吸収性モノマーの含有量は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴測定）分析及びＧＰＣ（ゲルパーメーションクロマトグラフィー）分析により共重合体の平均重量分子量、極大吸収波長における吸光度から求めることができる。
【００２３】
また、本発明においては、上記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内、中でも３３０〜３５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。３１０ｎｍに満たない場合は効果が小さく、３６０ｎｍを超える場合は印画物の黄味が強くなり、印画物の見た目に不具合を生じるからである。また、更なる耐光性の向上を試みる場合、上記紫外線吸収性共重合体の他に、金属イオン含有化合物との反応性の低い共重合体タイプではない紫外線吸収剤を選定し適量添加しても良い。その紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系が好ましく、添加量としては、共重合体タイプの紫外線吸収剤（上記紫外線吸収性モノマー）に対し、５０重量％以下が好ましい。
【００２４】
本発明によれば、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含有する紫外線吸収性共重合体を用いることにより、本発明の保護層転写シートを用いて、保護層を形成した場合に、黄色味を帯びない保護層を得ることができる。なお、本発明において「黄色味を帯びない」とは、後述する試験により求められる、色差（ΔE*ab）が、ΔE*ab＜３を満たすことをいう。具体的には、金属イオン含有化合物を含む受像紙に保護層を転写後、その受像紙（印画物）を１１０℃のオーブンに３分間入れ、その前後の受像紙の色相変化（色差）を下記式から求め、目視との相関を図った。
色差ΔE*ab＝（（Δa*）２＋（Δb*）２）１／２
CIE1976 La*b*表色系（JIS Z8729 （1980））参照
Δa* ＝ a*（オーブン保存後）−a*（オーブン保存前）
Δb* ＝ b*（オーブン保存後）−b*（オーブン保存前）
【００２５】
また、一般的に用いられる紫外線吸収剤を含有する保護層が黄色味を帯びる原因としては、保護層中の紫外線吸収剤と、受容相中の熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体とが反応を起こし、紫外線吸収剤が金属イオンに配位することで、紫外線吸収剤の吸収領域が可視光領域までシフトするからであると考えられる。本発明においては、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーは、Ｎ、ＯＨを有することから、一般的な紫外線吸収剤と同様に、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体と反応し、黄色味を帯びた保護層が形成されると考えられ、さらに、本発明においては、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含む紫外線吸収性共重合体を用いるため、より黄色味を帯びた保護層が形成されると考えられる。しかしながら、本発明においては、理由は未だ定かではないが、上記紫外線吸収性共重合体を用いることにより、黄色味を帯びない保護層を得ることができ、なおかつ、上記紫外線吸収性共重合体は紫外線吸収性モノマーを多く含有していることから耐光性に優れた保護層を得ることができる。なお、上記紫外線吸収性共重合体が耐光性に優れている理由の一つとしては、モノマーの紫外線吸収剤の場合、保護層転写時に受容層中に紫外線吸収剤の拡散が起き、表面部での紫外線をカットする能力が低下してしまうことが考えられる。
【００２６】
次に、本発明の保護層転写シートについて図を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の保護層転写シートの一例を示す断面概略図である。本発明の保護層転写シートは、基材１と、基材１の一方の表面上に形成された保護層形成用層２とを備えたものである。また、本発明の保護層転写シートは、図２に示すように、基材１と保護層形成用層２との間に離型層３を備え、さらに、保護層形成用層２とは反対側の基材１の表面に背面層４を備えたものであっても良い。
以下、本発明の保護層転写シートについて詳細に説明する。
【００２７】
１．保護層形成用層
本発明に用いられる保護層形成用層について説明する。本発明に用いられる保護層形成用層は、画像が印刷された受容層上に転写されることによって、保護層となる。上記保護層形成用層は、少なくとも後述する紫外線吸収性共重合体を含有するものである。
【００２８】
（１）紫外線吸収性共重合体
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合体は、下記一般式（１）
【００２９】
【化３】
【００３０】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとを共重合させてなるものである。
【００３１】
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合体は、上記紫外線吸収性モノマーと、上記アクリル系モノマーとを共重合させてなるものであれば、特に限定されるものではないが、具体的には、上記材料のランダム共重合体、グラフト共重合体等を挙げることができる。
【００３２】
また、本発明に用いられる上記紫外線吸収性共重合体の重量平均分子量としては、所望の保護層形成用層を得ることができれば特に限定されるものではないが具体的には、５０００〜２５００００の範囲内、中でも、９０００〜４００００の範囲内であることが好ましい。
【００３３】
また、本発明に用いられる上記紫外線吸収性共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、所望の保護層形成用層を得ることができれば特に限定されるものではないが具体的には４０〜１０５℃の範囲内、中でも４５〜９５℃の範囲内であることが好ましい。
【００３４】
次に、本発明に用いられるアクリル系モノマーについて説明する。本発明に用いられるアクリル系モノマーの分子量としては、所望の紫外線吸収性共重合体を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には５０００〜２５００００の範囲内、中でも９０００〜４００００の範囲内であることが好ましい。
【００３５】
このようなアクリル系モノマーとしては、具体的には、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ラウリルトリデシルアクリレート、ラウリルトリデシルメタアクリレート、トリデシルアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルステアリルアクリレート、セチルステアリルメタアクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ターシャリーブチルアミノエチルアクリレート、ターシャリーブチルアミノエチルメタアクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、エチレンジアクリレート、エチレンジメタアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、デカエチレングリコールジアクリレート、デカエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタデカエチレングリコールジアクリレート、ペンタデカエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジアクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジメタアクリレート、ブチレンジアクリレート、ブチレンジメタアクリレート、アリルアクリレート、アリルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオ一ルジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリピロピレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールペンタメタアクリレート、ホスファゼンヘキサアクリレート、ホスファゼンヘキサメタアクリレート等を挙げることができる。
本発明においては、上記アクリル系モノマーの中でも、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、メチルメタアクリレート、アクリル酸、アクリロニトリルが好ましい。
【００３６】
（２）その他の成分
本発明に用いられる保護層形成用層は、上記紫外線吸収性共重合体のほかに、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマー以外の紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、充填材等を含有していても良い。
上記紫外線吸収剤としては、黄色味を帯びない保護層を得ることができる限り特に限定されるものではないが、具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系等の紫外線吸収剤を挙げることができるが、中でも、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。このようなベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、特に限定されるものではないが、具体的には、下記一般式（２）および一般式（３）
【００３７】
【化４】
【００３８】
で表されるもの等を挙げることができる。上記紫外線吸収剤の使用量は、黄色味を帯びない保護層を得ることができれば特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。
【００３９】
また、本発明に用いられる光安定化剤は、光の照射等によって生成するラジカルを捕捉し、保護層の耐光性をより向上させるために用いられるものである。上記光安定化剤の分子量は、特に限定されるものではないが、具体的には１５００以上であることが好ましく、中でも、１５００〜４０００の範囲内であることが好ましい。また、このような光安定化剤としては、特に限定されるものではないが、具体的には、ヒンダードアミン系、フェノール系、ホスファイト系等の光安定化剤を挙げることができ、中でも、ヒンダードアミン系光安定化剤が好ましい。上記光安定化剤の使用量は、上記紫外線吸収性共重合体等の機能を阻害しない限り特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。
【００４０】
（３）保護層形成用層
本発明に用いられる保護層形成用層の厚みは、所望の耐久性等を得ることができれば特に限定されるものではないが、具体的には０．１〜１０μｍの範囲内、中でも０．５〜５μｍの範囲内であることが好ましい。
【００４１】
また、本発明に用いられる保護層形成用層は、単層構造であっても良く、複層構造であっても良い。保護層形成用層が複層構造である場合、その層構成としては、２層以上であれば特に限定されるものではなく、任意の層構成をとることができる。また、保護層形成用層は、表面に接着層を有していても良い。この場合、保護層形成用層および接着層を含めて、本発明における保護層形成用層とみなすことができる。従って、保護層形成用層が表面に接着層を有する場合、上記の紫外線吸収性共重合体は、保護層形成用層および接着層の少なくとも一方に含まれていれば良い。なお保護層形成用樹脂としては、特に限定されるものではなく、一般的な保護層転写シートに用いる材料と同様の材料を用いることができる。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、ノルボルネン樹脂等を挙げることができ、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物等を必要に応じて加えることができる。
【００４２】
また、本発明に用いられる保護層形成用層の製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、保護層形成用層を構成する材料を含有する塗工液を作製し、後述する基材に塗布する方法が挙げられる。この際の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、ロールコート法等を挙げることができる。
【００４３】
２．基材
次に本発明に用いられる基材について説明する。本発明においては、上記基材上に、上記保護層形成用層が形成される。このような基材の具体例としては、グラシン紙、コンデンサー紙、パラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸或いは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものなどが挙げられ、中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレートが好ましい。
【００４４】
上記基材の厚さは、強度、熱伝導性、耐熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択することが出来るが、通常は１〜１００μｍ程度のものが好ましく用いられる。また、上記基材は、その表面にプライマー処理や、コロナ処理を施すことが好ましい。
【００４５】
３．背面層および離型層
本発明の保護層転写シートは、背面層および離型層の少なくとも一方を備えるものであっても良い。例えば図２に示すように、背面層３は、保護層形成用層２とは反対側の基材１表面に設けられるものであり、サーマルヘッド等の加熱デバイスと基材との熱融着を防止し、また走行を滑らかに行う等の目的で設けられる。同じく図２に示すように、離型層４は、基材１と保護層形成用層２との間に設けられるものであり、保護層形成用層２の熱転写時の離型性を向上させるために設けられるものである。このような背面層および離型層は、特に限定されるものではなく、例えば、特開２００１−３４７７５９号公報に記載されたもの等を挙げることができる。
【００４６】
４．熱転写受像シート
次に、保護層転写シートの保護形成用層が転写される熱転写受像シートについて説明する。上記熱転写受像シートは、通常、支持体と、上記支持体上に形成された受容層とを有するものであり、上記受容層は、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有するものである。
【００４７】
上記熱転写受像シートにおいては、上記受容層に上記熱拡散性染料が転写された際に、上記熱拡散性染料が、上記金属イオン含有化合物と反応し、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体となり、画像を形成する。このようにして形成された画像は、高温及び高湿下に長時間放置しても、染料の褪色及び滲みが起こりにくく、従来の感熱昇華転写に比べて優れた耐光性を示す。上記方法により形成された画像、および受容層の表面を保護する保護層を形成するために、本発明の保護層転写シートが用いられる。
【００４８】
（１）受容層
上記熱転写受像シートに用いられる受容層は、通常、上記金属イオン含有化合物およびバインダー樹脂を含有するものである。
【００４９】
（ａ）金属イオン含有化合物
上記熱転写受像シートの受容層に用いられる金属イオン含有化合物は、後述する熱拡散性染料と反応し、受容層中で熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成する。
上記金属イオン含有化合物の受容層における含有量としては、特に限定されるものではないが、後述するバインダー樹脂に対して５〜８０重量％が好ましく、１０〜７０重量％がより好ましい。
【００５０】
上記熱転写受像シートの受容層に用いられる金属イオン含有化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属イオンの無機または有機の塩、および金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩および錯体が好ましい。金属としては、周期律表の第Ｉ〜ＶＩＩＩ族に属する１価及び多価の金属が挙げられるが、中でもＡｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｔｉ及びＺｎが好ましく、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｃｏ及びＺｎがより好ましく、特にＮｉが好ましい。このような金属イオン含有化合物の具体例としては、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｃｒ２＋、Ｃｏ２＋およびＺｎ２＋と酢酸やステアリン酸等の脂肪族との塩、あるいは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩等が挙げられる。また、下記一般式（５）で表される錯体は特に好ましく用いることができる。
【００５１】
一般式（５） ［Ｍ（Ｑ１）１（Ｑ２）ｍ（Ｑ３）ｎ］ｐ＋（Ｙ−）ｐ
【００５２】
但し、上記式中、Ｍは金属イオン、好ましくはＮｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｃｒ２＋、Ｃｏ２＋、Ｚｎ２＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３は各々Ｍで表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表し、互いに同じであっても異なっていても良い。これらの配位化合物としては、例えばキレート科学５（上野景平著、南江堂、１９７５年）に記載されている配位化合物から選択することができる。Ｙは有機アニオン基を表し、具体的にはテトラフェニルホウ素アニオンやアルキルベンゼンスルホン酸アニオン等を挙げることができる。ｌは１、２又は３の整数を表し、ｍは１、２又は０を表し、ｎは１又は０を表すが、これらは上記一般式で表される錯体が４座配位か、６座配位かによって決定されるか、あるいはＱ１、Ｑ２、Ｑ３の配位子の数によって決定される。Ｐは０、１又は２を表す。Ｐ＝０は、Ｑで表される配位化合物がアニオン性化合物であり、Ｑで表されるアニオン性化合物とＭで表される金属カチオンとが電気的に中和された状態であることを意味する。
【００５３】
アニオン性化合物としては下記一般式（６）で表される化合物が好ましい。
【００５４】
【化５】
【００５５】
式中Ｒ１、Ｒ３は各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、水素原子を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、後述する一般式（Ｉ）におけるＲ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていても良い。
【００５６】
本発明においては、特に、上記金属イオン含有化合物が、下記構造式で表される化合物であることが好ましい。
【００５７】
【化６】
【００５８】
（ｂ）バインダー樹脂
上記熱転写受像シートの受容層に用いられるバインダー樹脂としては、色素が染着しやすいものであれば特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン化樹脂；塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂などのハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリウレタン；ポリカーボネート；アクリル樹脂；アイオノマー；セルロース誘導体等を用いることができ、これらの中でもハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合樹脂、ポリエステル系樹脂およびビニル系樹脂が好ましい。なお、上記バインダー樹脂は、単体で用いても良く、混合物で用いても良い。
【００５９】
（２）支持体
上記熱転写受像シートに用いられる支持体は、上記受容層を保持するという役割を有するとともに、熱転写時には熱が加えられるため、過熱された状態でも取り扱い上支障のない程度の機械的強度を有することが好ましい。
【００６０】
このような支持体の材料としては特に限定されず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、壁紙、裏打用紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、板紙等、セルロース繊維紙、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等のフィルムが挙げられ、また、これらの合成樹脂に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色不透明フィルムあるいは発泡させた発泡シートも使用できる。さらに、上記支持体の任意の組み合わせによる積層体も使用できる。
【００６１】
上記支持体と上記受容層との接着強度を大きくする等の目的で、支持体の表面に各種プライマー処理やコロナ放電処理を施すのが好ましい。
【００６２】
（３）熱拡散性染料
次に、上記金属イオン含有化合物と反応する熱拡散性染料について説明する。上記熱拡散性染料は通常、インクシートのインク層の中に含まれ、上記インク層と上記受容層とを対向するように重ね合わせ、サーマルヘッド等で加熱することによって、上記熱拡散性染料を上記熱転写受像シートの受容層に転写する。
本発明における、上記インクシートのインク層としては、色素が熱拡散しやすく、かつ、保存時色素がブリードしたり、熱転写時受像シートと熱融着する、等の不具合が発生するものでなければ、特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、アクリル系樹脂及びその誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロース等のセルロース及びその誘導体が挙げられる。
【００６３】
本発明における上記熱拡散性染料としては、上述した金属イオン含有化合物とキレート反応可能なものであれば、特に限定されるものではなく、一般的なシアン染料、マゼンダ染料、イエロー染料等を使用することができる。中でも、本発明においては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される熱拡散性染料であることが好ましい。
【００６４】
（ａ）一般式（Ｉ）で表される熱拡散性染料
【００６５】
【化７】
【００６６】
（式中、Ｒ１１は置換基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表し、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。）
【００６７】
上記Ｒ１１で表される置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えばフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。
【００６８】
これらの置換基は、同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
【００６９】
Ｒ１１としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基、及びアルコキシカルボニル基が好ましく、アルキル基が特に好ましい。一般式（Ｉ）において、Ｒ１２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ１２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記Ｒ１１おけるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基と同様の基を挙げることができる。
【００７０】
Ｒ１２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていてもよい。
Ｒ１２としては、アルキル基が好ましい。
【００７１】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表す。Ｒ１３及びＲ１４が表す置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに同様の置換基によって置換されていてもよい。Ｒ１３及びＲ１４としては、水素原子、アルキル基及びアリール基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
【００７２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１おけるアルキル基及びアリール基と同様の基を挙げることができる。
【００７３】
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていてもよい。
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８としては、水素原子が好ましい。
【００７４】
一般式（Ｉ）において、Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。
【００７５】
このような複素環の具体例として、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、チアゾール環、オキサゾール環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等の各環を挙げることができる。好ましくは、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環であり、特に好ましくは、ピリジン環である。これらの環は置換基を有していてもよく、置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができる。
【００７６】
本発明においては、一般式（Ｉ）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（Ｉ−ｉ）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【００７７】
【化８】
【００７８】
本発明においては、下記構造式（Ｉ−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【００７９】
【化９】
【００８０】
（ｂ）一般式（II）で表される熱拡散性染料
【００８１】
【化１０】
【００８２】
（式中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表し、Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ２１とＲ２２の炭素数の総和は３以上である。Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）
【００８３】
一般式（II）中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。
上記Ｒ２１として、好ましくは、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。アルキル基の中でも、更に好ましくは、分岐アルキル基であり、分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。
本発明においては、Ｒ１１が嵩高くなることにより、色素の耐光性が向上する。
【００８４】
Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表す。
上記Ｒ２２として、好ましくは、アルキル基、アシル基、カルバモイル基であり、更に好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００８５】
Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。好ましくは、アルキル基であり、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。
【００８６】
上記Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、好ましくは、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−である。
【００８７】
Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基としては、上述した一般式（Ｉ）における置換基と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００８８】
上記置換基として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００８９】
Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。
置換基としては上記Ｒ２４、Ｒ２５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
【００９０】
好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００９１】
Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。好ましくは、６員環を形成するのに必要な原子群である。例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられるが、好ましくは、ベンゼン環である。
【００９２】
本発明においては、一般式（II）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（II−ｉ）〜（II−iv）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【００９３】
【化１１】
【００９４】
本発明においては、下記構造式（II−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【００９５】
【化１２】
【００９６】
（ｃ）一般式（III）で表される熱拡散性染料
【００９７】
【化１３】
【００９８】
（式中、Ｙ３１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、Ｚ３１、Ｚ３２は−ＣＲ３２＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ３１は下記一般式（III-a）で表される基を表し、Ｘ３１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ３１は置換または無置換のアルキル基を表し、ｎは０以上の整数を表す。Ｒ３２は水素原子または置換基を表す。）ここで、σｐとは電子的パラメーターを示し、J.Med.Chem.16,1207(1973) 及びJ.Med.Chem.20,304(1977)に記載された方法により算出することができる。
【００９９】
【化１４】
（式中、Ｂ３１は複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【０１００】
一般式（III）において、Ｙ３１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、好ましくは０．３≦σｐ≦０．８、更に好ましくは０．４≦σｐ≦０．７の置換基を表す。σｐ＜０．２の場合、吸収波長がブロードになり好ましくなく、σｐ＞０．９の場合は製造時の色素化が低収率で好ましくない。具体的な置換基としてはアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【０１０１】
Ｌ３１は一般式（III-a）で表される基を表し、複素環を形成するのに必要な非金属原子群Ｂ３１を含む。一般式（III-a）で表される基としては、２−ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、３−ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、２−ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えば、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【０１０２】
Ｘ３１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【０１０３】
Ｒ３１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ３２は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【０１０４】
本発明においては、一般式（III）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（III−ｉ）〜（III−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１０５】
【化１５】
【０１０６】
本発明においては、下記構造式（III−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１０７】
【化１６】
【０１０８】
（ｄ）一般式（IV）で表される熱拡散性染料
【０１０９】
【化１７】
【０１１０】
（式中、Ｙ４１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、Ｚ４１、Ｚ４２は−ＣＲ４３＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ４１は一般式（IV-a）、（IV-b）で表される基を表し、Ｘ４１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表し、Ｒ４３は水素原子または置換基を表し、ｎは０以上の整数を表す。）
【０１１１】
【化１８】
【０１１２】
（式中、Ｒ４２は水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、Ｒｂは置換基を表し、ｐは０〜４の整数を表し、Ｂは−ＣＲ４２＝と共に複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【０１１３】
一般式（IV）において、Ｙ４１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、好ましくは０．３≦σｐ≦０．８、さらに好ましくは０．４≦σｐ≦０．７の置換基を表す。σｐ＜０．２の場合、吸収波長がブロードになり好ましくなく、σｐ＞０．９の場合は製造時の色素化が低収率で好ましくない。
【０１１４】
Ｌ４１は一般式（IV-a）、（IV-b）で表される基を表し、一般式（IV-a）で表される−ＣＲ４２＝およびＢ４１と共に複素環を形成した基としては、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等が挙げられる。Ｒ４２は水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、メルカプト基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えばハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【０１１５】
Ｘ４１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【０１１６】
Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ４３は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【０１１７】
Ｒｂで表される置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）等が挙げられる。
【０１１８】
本発明においては、一般式（IV）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（IV−ｉ）〜（IV−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１１９】
【化１９】
【０１２０】
本発明においては、下記構造式（IV−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１２１】
【化２０】
【０１２２】
（ｅ）一般式（Ｖ）で表される熱拡散性染料
【０１２３】
【化２１】
【０１２４】
（式中、Ｒ５１及びＲ５２はそれぞれ、置換又は無置換の脂肪族基を表し、Ｒ５３は置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ５３は同じでも異なってもよい。Ｒ５５、Ｒ５６はアルキル基を表す。但し、Ｒ５５、Ｒ５６の少なくとも１つは２級アルキル基を表す。）
【０１２５】
一般式（Ｖ）において、Ｒ５１およびＲ５２は置換または無置換の脂肪族基を表し、Ｒ５１およびＲ５２は同じでも異なっていてもよい。脂肪族基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基などを挙げることができ、これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ドデシル基、および１−ヘキシルノニル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、およびアダマンチル基等）、およびアルケニル基（例えば２−プロピレン基、オレイル基等）、アリール基（例えばフェニル基、オルト−トリル基、オルト−アニシル基、１−ナフチル基、９−アントラニル基等）、複素環基（例えば２−テトラヒドロフリル基、２−チオフェニル基、４−イミダゾリル基、および２−ピリジル基等）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基（例えばアセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル基等のアリールカルボニル基等）、オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基、および２−ピリジルオキシカルボニル基、１−フェニルピラゾリル−５−オキシカルボニル基などの複素環オキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノカルボニル基等のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、１−ナフチルカルバモイル基等のアリールカルバモイル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、２−エトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ基等）、複素環オキシ基（例えば４−ピリジルオキシ基、２−ヘキサヒドロピラニルオキシ基等）、カルボニルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン基、Ｎ−フェニルウレタン基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレタン基等のアリールウレタン基）、スルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｎ−ドデカンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基）、アミノ基（例えばジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基等のアルキルアミノ基、アニリノ基、ｐ−ｔ−オクチルアニリノ基等のアリールアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキサデシルスルホニルアミノ基等のアルキルスルホニルアミノ基、ｐ−トルエンスルホニルアミノ基、ペンタフルオロベンゼンスルホニルアミノ等のアリールスルホニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイルアミノ基等のアルキルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基等のアリールスルファモイルアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ミリストイルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等アリールカルボニルアミノ基）、ウレイド基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノウレイド基等のアルキルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレイド基等のアリールウレイド基）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、およびｐ−トルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノスルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等のアリールスルファモイル基）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、および複素環チオ基（例えば１−フェニルテトラゾール−５−チオ基、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾール−２−チオ基等）等が挙げられる。
【０１２６】
シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。また、アルキニル基の例としては、１−プロピン、２−ブチン、１−ヘキシン等が挙げられる。
【０１２７】
Ｒ５１、Ｒ５２で非芳香族性の環状構造（例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等）を形成するのも好ましい。
【０１２８】
Ｒ５３は置換基を表し、置換基の例としては、上記Ｒ５１、Ｒ５２の置換基の例が挙げられる。上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＲ５３は同じでも異なっていてもよい。
【０１２９】
Ｒ５５およびＲ５６はアルキル基を表し、その例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。Ｒ５５、Ｒ５６の少なくとも１つは２級アルキル基を表し、２級のアルキル基の例としてはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。Ｒ５５、Ｒ５６の２級アルキル基として最も好ましい置換基はイソプロピル基である。Ｒ５６の２級アルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。Ｒ５５とＲ５６は同じでも良いし、異なっていても良い。
【０１３０】
本発明においては、一般式（Ｖ）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（Ｖ−ｉ）〜（Ｖ−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
本発明においては、下記構造式（Ｖ−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１３３】
【化２３】
【０１３４】
Ｂ．印画物
次に、本発明の印画物について説明する。本発明の印画物は、上記保護層転写シートを用いたことを特徴とするものである。すなわち、本発明の印画物は、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、熱拡散性染料を転写し、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成し、その後、上記保護層転写シートを用いて保護層を形成してなるものである。
【０１３５】
本発明においては、上記保護層転写シートを用いることにより、上述した性質を有する保護層を備えた印画物を得ることができ、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性にも優れた印画物を得ることができる。
【０１３６】
本発明の印画物における保護層、熱転写受像シート、熱拡散性染料については、上記「Ａ．保護層転写シート」における記載と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１３７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１３８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本実施例において、「部」とは、特に断りがない限り重量部を意味するものである。
［実施例１〜１１および比較例１〜１７］
実施例１〜１１および比較例１〜１７においては、図３に示すように、基材１と、基材１の一方の表面に形成された背面層４と、基材１の他方の表面に形成された保護層形成用層２とを有し、さらに、保護層形成用層２は、表面に接着層５を有する。なお、実施例１〜１１および比較例１〜１７においては、接着層５に紫外線吸収性重合体が含有される。
【０１３９】
基材シートとして、厚さ４．５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用い、この表面上に、予め下記組成に調製した背面層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ２になるように塗布し、背面層を形成した。
（背面層塗工液）
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製）１３．６部
ポリイソシアネート硬化剤（タケネートＤ２１８ 武田薬品工業（株）製） ０．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．５部
トルエン ４２．５部
【０１４０】
次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面に、下記組成に調製した保護層形成用層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し保護層形成用層を形成した。なお、上記保護層形成用層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。
（保護層形成用層塗工液）
アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製ＢＲ−８７） ２０部
トルエン ４０部
メチルエチルケトン ４０部
【０１４１】
次に、上記の保護層形成用層上に、下記表１〜３に示す組成に調製した接着層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し接着層を形成した。上記接着層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。上記のような操作を行うことにより、保護層転写シートを得た。
なお、表中の値は、各成分の重量部を示すものである。また、下記表１〜表３に示される「樹脂１」とは、下記の酸成分とジオール成分から定法により合成したガラス転移温度９２℃であるポリエステル樹脂である。
（樹脂１）
酸成分 ：テレフタル酸 ５０ｍｏｌ％
イソフタル酸 ５０ｍｏｌ％
ジオール成分：エチレングリコール １０ｍｏｌ％
テトラシクロデカングリコール ９０ｍｏｌ％
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
【表３】
【０１４５】
また、上記の表１〜表３における紫外線吸収性共重合体ＵＶＡ１ないしＵＶＡ８、および光安定化剤ＨＡＬＳ−ＡないしＨＡＬＳ−Ｅの構造式を下記に示す。
【０１４６】
【化２４】
【０１４７】
【化２５】
【０１４８】
［実施例１２〜１５および比較例１８］
実施例１２〜１５および比較例１８においては、図４に示すように、基材１と、基材１の一方の表面に形成された背面層４と、基材１の他方の表面に形成された保護層形成用層２とを有する。なお、実施例１２〜１５および比較例１８においては、保護層形成用層２に紫外線吸収性重合体が含有される。
【０１４９】
まず、上記の実施例１〜１１および比較例１〜１７と同様に、基材上に背面層を形成した。次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面に、下記表４および表５に示す組成に調製した保護層形成用層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し接着層を形成した。上記接着層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。上記のような操作を行うことにより、保護層転写シートを得た。
なお、表中の値は、各成分の重量部を示すものである。また、下記表４および表５に示される「ＢＲ−８７」とは、アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製ＢＲ−８７）である。
【０１５０】
【表４】
【０１５１】
【表５】
【０１５２】
なお、上記の表４および表５における紫外線吸収性共重合体ＵＶＡ１ないしＵＶＡ８、および光安定化剤ＨＡＬＳ−ＡないしＨＡＬＳ−Ｅの構造式は、上記に記載したものと同様である。
［評価］
実施例１〜１５および比較例１〜１８により得られた保護層転写シートの性能を確認するために、保護層が転写形成された印画物を作製した。
（Ｙ、Ｍ、Ｃ印画）
まず、コニカミノルタフォトイメージング社製のフォトキレートプリンターＲＣ６０２に用いられる、熱転写受像シートと、熱拡散性染料を有するインク層リボンとを用意した。次に、上記熱転写受像シートの受容層と、上記インク層リボンとを対向させて重ね合わせ、Ｙ，Ｍ，Ｃの順番で、サーマルヘッドを用い下記条件で熱転写記録を行い、グラデーション画像を形成した。
【０１５３】
（Ｙ、Ｍ、Ｃ印画条件）
・サーマルヘッド
・発熱体平均抵抗値：３１９５（Ω）
・主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・印加電力：０．１２（ｗ／ｄｏｔ）
・１ライン周期：５（ｍｓｅｃ．）
・印字開始温度：４０（℃）
・階調制御方法：１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長を持つ分割パルスの数を０から２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのＤｕｔｙ比を６０％固定とし、階調によって、ライン周期あたりのパルス数を０ステップでは０個、１ステップでは１７個、２ステップでは３４個と０から２５５個まで１７個毎に順次増加させることにより、０ステップから１５ステップまでの１６階調を制御した。
【０１５４】
（保護層印画）
次いで、上記のように形成したグラデーション画像上に保護層を転写形成した。上記の熱転写記録を行った印画物について、実施例および比較例の保護層転写シートを、保護層形成用層面と受像面とを対向させて重ね合わせ、下記印字条件でサーマルヘッドにより、印画面全面に保護層を形成した。
【０１５５】
（保護層印画条件）
・サーマルヘッド
・発熱体平均抵抗値：３１９５（Ω）
・主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・印字電力：０．１２（Ｗ／ｄｏｔ）
・１ライン周期：５（ｍｓｅｃ．）
・印字開始温度：４０（℃）
・印加パルス：１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長をもつ分割パルスの数を０から２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのＤｕｔｙ比を７０％固定、ライン周期あたりのパルス数を２００個固定とし、ベタ印画を行い、受容層全面に保護層を形成した。
【０１５６】
上記の操作により、保護層を備える印画物を得た。本発明においては、上記印画物に対して、耐光性評価および発色性評価を行った。
【０１５７】
（耐光性評価）
耐光性評価の条件は以下の通りである。
・照射試験器：アトラス社製Ｃｉ３５
・光源：キセノンランプ
・フィルター：内側＝ＩＲフィルター
外側＝ソーダライムガラス
・ブラックパネル温度：４５（℃）
・照射強度：１．２（Ｗ／ｍ２）―４２０（ｎｍ）での測定値
・照射エネルギー：４００（ｋＪ／ｍ２）−４２０（ｎｍ）での積算値
【０１５８】
上記耐光性条件の照射前後の画像の色相変化を色彩色差計（ＣＲ３２１、コニカミノルタ株式会社製）により測定し、照射前の光学反射濃度が１．０近傍のステップについて、下記式により色差を算出し、これを基に下記評価基準で耐光性を評価した。
色差ΔE*ab＝（（Δa*）２＋（Δb*）２）１／２
CIE1976 La*b*表色系（JIS Z8729 （1980））参照
Δa*＝a*（照射後）−a*（照射前）
Δb*＝b*（照射後）−b*（照射前）
（耐光性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜５
△：５≦色差ΔE*ab＜１０
×：色差ΔE*ab≧１０
（発色性評価）
上記印画物を１１０℃のオーブンに３分間入れ、発色性について、その前後の色相変化（色差）を測定することにより評価した。色差の算出方法は、上述の通りである。
（発色性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜３
×：色差ΔE*ab≧３
【０１５９】
（染料汚染性）
一方、実施例１〜１５および比較例１〜１８により得られた保護層転写シートの染料汚染性を評価するために、以下の操作を行った。
まず、Ｍ染料を含有する染料層と、背面層とを備えた染料リボンを２個用意し、一方の染料リボンの染料層と、他方の染料リボンの背面層とを重ね合わせ、２０Ｋｇ/ｃｍ２の荷重を加え、さらに、この状態のまま４０℃・９０％ＲＨ環境で３日間保存した。これにより、染料層中のＭ染料を、接触する背面層に移行させた。
次に、上記Ｍ染料が移行した背面層と、実施例および比較例で得られた保護層転写シートの接着層とを重ね合わせ、６０℃の環境で２日間保存した。その後、上記背面層と上記接着層とを剥離し、保護層の地汚れについて評価を行った。具体的には、上記接着層を重ね合わせる前後における保護層の色相変化（色差）を測定することにより評価した。
（汚染性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜３
△：３≦色差ΔE*ab＜５
×：色差ΔＥａｂ≧５
【０１６０】
上記の耐光性評価、汚染性評価および発色性評価の結果を、表６および表７に示す。
【０１６１】
【表６】
【０１６２】
【表７】
【０１６３】
表６および表７より明らかなように、実施例で作製された保護層転写シートは、耐光性評価、汚染性評価および発色性評価の全てにおいて、良好な結果が得られた。これに対して、比較例で作製された保護層転写シートは、耐光性評価、汚染性評価および発色性評価のいずれかにおいて、良好な結果が得られなかった。従って、本発明の保護層転写シートは、耐光性、汚染性および発色性について、総合的に優れていることが明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の保護層転写シートの一例を示す断面概略図である。
【図２】本発明の保護層転写シートの他の例を示す断面概略図である。
【図３】実施例１〜１１および比較例１〜１７における保護層転写シートの構造を説明する説明図である。
【図４】実施例１２〜１５および比較例１８における保護層転写シートの構造を説明する説明図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１ … 基板
２ … 保護層形成用層
３ … 背面層
４ … 離型層
５ … 接着層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護層転写シートおよび印画物に関し、特に耐光性等に優れた保護層を付与することができる保護層転写シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
画像を形成する種々プリント方式の一つとして、感熱により色材層中の染料が昇華拡散して受像シートに移行する感熱昇華転写がある。このような感熱昇華転写においては、加熱手段として、通常プリンタのサーマルヘッドが使用され、極めて短時間の加熱によって３色または４色の多数の加熱量が調整された色ドットを熱転写受像シートの受容層に転移させ、多色の色ドットにより原稿のフルカラーを再現するものである。この様に形成された画像は、使用する色材が染料であることから、非常に鮮明であり、かつ透明性に優れているため、得られる画像は中間色の再現性や階調性に優れ、従来のオフセット印刷やグラビア印刷による画像と同様であり、かつフルカラー写真画像に匹敵する高品質画像の形成が可能である。
【０００３】
しかしながら、上記の感熱昇華転写方式は、印加するエネルギー量によってドット単位で染料の移行量を制御できるため、階調性画像の形成に優れているが、形成された画像は通常の印刷インキによるものとは異なり、色材が顔料でなく比較的低分子量の染料であり、且つビヒクルが存在しないため耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性に劣るという欠点がある。
【０００４】
上記の欠点を改善する手段として、熱転写により色材層中の化合物と受容層中の化合物とを反応させることにより画像を形成する反応型の染料を用いた方法が提案されている。例えば、特許文献１〜４には、色材層側に含有させる化合物として熱拡散性染料を用い、受容層に含有させる化合物として金属イオン含有化合物を用い、熱転写後それらを反応させて熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成させることにより、画像を形成する方法（以下ポストキレート方式と呼ぶこともある。）が開示されている。
【０００５】
上記ポストキレート方式により形成された画像は、高温及び高湿下に長時間放置しても、染料の褪色及び滲みが起こりにくく、耐光性についても従来の方法より得られる画像に比べて優れている。しかしながら、上記ポストキレート方式により形成された画像であっても、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性が不十分な場合があった。
【０００６】
上記耐久性を改善する手段として、近年、画像が形成された受容層上に、保護層を設ける方法が提案されている。上記受容層上に保護層を設けると、上述のような、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性等の物理耐性を向上させることができる。また、保護層中に、紫外線吸収剤を添加することによって、染料の変質や分解を防止することができ、耐光性を向上させることができる。
【０００７】
上述したポストキレート方式で形成された画像に保護層を設ける場合、上記画像は、通常の方式で形成された画像よりも耐光性に優れているため、保護層に紫外線吸収剤を含有させなくてもある程度十分な耐光性を実現することは可能であるが、耐光性の更なる向上を図る場合には紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。この際、保護層を熱転写する時の熱エネルギーの強さによっては、保護層中の紫外線吸収剤と、受容層中の熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体とが反応を起こす場合があり、紫外線吸収剤が金属イオンに配位することで、紫外線吸収剤の吸収領域が可視光領域までシフトし、その結果、黄色味を帯びてしまうという問題があった。
【０００８】
【特許文献１】特開昭５９−７８８９３号公報
【特許文献２】特開昭５９−１０９３９４号公報
【特許文献３】特開昭６０−２３９８号公報
【特許文献４】特開２０００−２６３８２８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ポストキレート方式等により得られた画像を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、保護層を形成する際の熱エネルギー等によって、黄色味を帯びない保護層を得ることができる保護層転写シートを提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明においては、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、上記熱拡散性染料を転写した後、上記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、基材と、上記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、上記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【００１１】
【化１】
【００１２】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シートを提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含有する紫外線吸収性共重合体を用いることにより、本発明の保護層転写シートを用いて、保護層を形成した場合に、黄色味を帯びない保護層を得ることができる。また、更なる耐光性の向上を試みる場合、上記紫外線吸収性共重合体の他に、金属イオン含有化合物との反応性の低い共重合タイプではない紫外線吸収剤を選定し適量添加してもよい。好ましい紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系が挙げられる。
【００１４】
また、上記発明においては、上記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。３１０ｎｍに満たない場合は効果が小さく、３６０ｎｍを超える場合は印画物の黄味が強くなり、印画物の見た目に不具合を生じるからである。
【００１５】
また、上記発明においては、上記保護層形成用層が、分子量１５００以上のヒンダードアミン系光安定化剤を含有することが好ましい。上記光安定化剤は、光の照射等によって生成するラジカルを捕捉し、保護層の耐光性をより向上させることができ、さらに高分子量タイプのヒンダードアミン系光安定化剤を用いることにより、保管時に保護層表面上にその安定化材のブリードも無く、保存性に優れているからである。
【００１６】
また、本発明においては、上記保護層転写シートを用いたことを特徴とする印画物を提供する。本発明においては、上記保護層転写シートを用いることにより、上述した性質を有する保護層を備えた印画物を得ることができ、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性にも優れた印画物を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明においては、耐光性等に優れた保護層を付与することができる保護層転写シートを得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の保護層転写シートおよび印画物について説明する。
【００１９】
Ａ．保護層転写シート
本発明の保護層転写シートは、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、上記熱拡散性染料を転写した後、上記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、基材と、上記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、上記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【００２０】
【化２】
【００２１】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、上記紫外線吸収性共重合体中に、上記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とするものである。本発明においては、中でも、上記紫外線吸収性モノマーが上記紫外線吸収性共重合体中に、４０〜９０ｍｏｌ％の範囲内、特に５０〜７０ｍｏｌ％の範囲内で含有されることが好ましい。
【００２２】
なお、本発明においては、上記紫外線吸収性モノマーの含有量は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴測定）分析及びＧＰＣ（ゲルパーメーションクロマトグラフィー）分析により共重合体の平均重量分子量、極大吸収波長における吸光度から求めることができる。
【００２３】
また、本発明においては、上記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内、中でも３３０〜３５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。３１０ｎｍに満たない場合は効果が小さく、３６０ｎｍを超える場合は印画物の黄味が強くなり、印画物の見た目に不具合を生じるからである。また、更なる耐光性の向上を試みる場合、上記紫外線吸収性共重合体の他に、金属イオン含有化合物との反応性の低い共重合体タイプではない紫外線吸収剤を選定し適量添加しても良い。その紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系が好ましく、添加量としては、共重合体タイプの紫外線吸収剤（上記紫外線吸収性モノマー）に対し、５０重量％以下が好ましい。
【００２４】
本発明によれば、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含有する紫外線吸収性共重合体を用いることにより、本発明の保護層転写シートを用いて、保護層を形成した場合に、黄色味を帯びない保護層を得ることができる。なお、本発明において「黄色味を帯びない」とは、後述する試験により求められる、色差（ΔE*ab）が、ΔE*ab＜３を満たすことをいう。具体的には、金属イオン含有化合物を含む受像紙に保護層を転写後、その受像紙（印画物）を１１０℃のオーブンに３分間入れ、その前後の受像紙の色相変化（色差）を下記式から求め、目視との相関を図った。
色差ΔE*ab＝（（Δa*）２＋（Δb*）２）１／２
CIE1976 La*b*表色系（JIS Z8729 （1980））参照
Δa* ＝ a*（オーブン保存後）−a*（オーブン保存前）
Δb* ＝ b*（オーブン保存後）−b*（オーブン保存前）
【００２５】
また、一般的に用いられる紫外線吸収剤を含有する保護層が黄色味を帯びる原因としては、保護層中の紫外線吸収剤と、受容相中の熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体とが反応を起こし、紫外線吸収剤が金属イオンに配位することで、紫外線吸収剤の吸収領域が可視光領域までシフトするからであると考えられる。本発明においては、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーは、Ｎ、ＯＨを有することから、一般的な紫外線吸収剤と同様に、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体と反応し、黄色味を帯びた保護層が形成されると考えられ、さらに、本発明においては、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマーを多く含む紫外線吸収性共重合体を用いるため、より黄色味を帯びた保護層が形成されると考えられる。しかしながら、本発明においては、理由は未だ定かではないが、上記紫外線吸収性共重合体を用いることにより、黄色味を帯びない保護層を得ることができ、なおかつ、上記紫外線吸収性共重合体は紫外線吸収性モノマーを多く含有していることから耐光性に優れた保護層を得ることができる。なお、上記紫外線吸収性共重合体が耐光性に優れている理由の一つとしては、モノマーの紫外線吸収剤の場合、保護層転写時に受容層中に紫外線吸収剤の拡散が起き、表面部での紫外線をカットする能力が低下してしまうことが考えられる。
【００２６】
次に、本発明の保護層転写シートについて図を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の保護層転写シートの一例を示す断面概略図である。本発明の保護層転写シートは、基材１と、基材１の一方の表面上に形成された保護層形成用層２とを備えたものである。また、本発明の保護層転写シートは、図２に示すように、基材１と保護層形成用層２との間に離型層３を備え、さらに、保護層形成用層２とは反対側の基材１の表面に背面層４を備えたものであっても良い。
以下、本発明の保護層転写シートについて詳細に説明する。
【００２７】
１．保護層形成用層
本発明に用いられる保護層形成用層について説明する。本発明に用いられる保護層形成用層は、画像が印刷された受容層上に転写されることによって、保護層となる。上記保護層形成用層は、少なくとも後述する紫外線吸収性共重合体を含有するものである。
【００２８】
（１）紫外線吸収性共重合体
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合体は、下記一般式（１）
【００２９】
【化３】
【００３０】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとを共重合させてなるものである。
【００３１】
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合体は、上記紫外線吸収性モノマーと、上記アクリル系モノマーとを共重合させてなるものであれば、特に限定されるものではないが、具体的には、上記材料のランダム共重合体、グラフト共重合体等を挙げることができる。
【００３２】
また、本発明に用いられる上記紫外線吸収性共重合体の重量平均分子量としては、所望の保護層形成用層を得ることができれば特に限定されるものではないが具体的には、５０００〜２５００００の範囲内、中でも、９０００〜４００００の範囲内であることが好ましい。
【００３３】
また、本発明に用いられる上記紫外線吸収性共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、所望の保護層形成用層を得ることができれば特に限定されるものではないが具体的には４０〜１０５℃の範囲内、中でも４５〜９５℃の範囲内であることが好ましい。
【００３４】
次に、本発明に用いられるアクリル系モノマーについて説明する。本発明に用いられるアクリル系モノマーの分子量としては、所望の紫外線吸収性共重合体を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には５０００〜２５００００の範囲内、中でも９０００〜４００００の範囲内であることが好ましい。
【００３５】
このようなアクリル系モノマーとしては、具体的には、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ラウリルトリデシルアクリレート、ラウリルトリデシルメタアクリレート、トリデシルアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルステアリルアクリレート、セチルステアリルメタアクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ターシャリーブチルアミノエチルアクリレート、ターシャリーブチルアミノエチルメタアクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、エチレンジアクリレート、エチレンジメタアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、デカエチレングリコールジアクリレート、デカエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタデカエチレングリコールジアクリレート、ペンタデカエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジアクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジメタアクリレート、ブチレンジアクリレート、ブチレンジメタアクリレート、アリルアクリレート、アリルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオ一ルジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリピロピレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールペンタメタアクリレート、ホスファゼンヘキサアクリレート、ホスファゼンヘキサメタアクリレート等を挙げることができる。
本発明においては、上記アクリル系モノマーの中でも、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、メチルメタアクリレート、アクリル酸、アクリロニトリルが好ましい。
【００３６】
（２）その他の成分
本発明に用いられる保護層形成用層は、上記紫外線吸収性共重合体のほかに、上記一般式（１）で表される紫外線吸収性モノマー以外の紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、充填材等を含有していても良い。
上記紫外線吸収剤としては、黄色味を帯びない保護層を得ることができる限り特に限定されるものではないが、具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系等の紫外線吸収剤を挙げることができるが、中でも、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。このようなベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、特に限定されるものではないが、具体的には、下記一般式（２）および一般式（３）
【００３７】
【化４】
【００３８】
で表されるもの等を挙げることができる。上記紫外線吸収剤の使用量は、黄色味を帯びない保護層を得ることができれば特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。
【００３９】
また、本発明に用いられる光安定化剤は、光の照射等によって生成するラジカルを捕捉し、保護層の耐光性をより向上させるために用いられるものである。上記光安定化剤の分子量は、特に限定されるものではないが、具体的には１５００以上であることが好ましく、中でも、１５００〜４０００の範囲内であることが好ましい。また、このような光安定化剤としては、特に限定されるものではないが、具体的には、ヒンダードアミン系、フェノール系、ホスファイト系等の光安定化剤を挙げることができ、中でも、ヒンダードアミン系光安定化剤が好ましい。上記光安定化剤の使用量は、上記紫外線吸収性共重合体等の機能を阻害しない限り特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。
【００４０】
（３）保護層形成用層
本発明に用いられる保護層形成用層の厚みは、所望の耐久性等を得ることができれば特に限定されるものではないが、具体的には０．１〜１０μｍの範囲内、中でも０．５〜５μｍの範囲内であることが好ましい。
【００４１】
また、本発明に用いられる保護層形成用層は、単層構造であっても良く、複層構造であっても良い。保護層形成用層が複層構造である場合、その層構成としては、２層以上であれば特に限定されるものではなく、任意の層構成をとることができる。また、保護層形成用層は、表面に接着層を有していても良い。この場合、保護層形成用層および接着層を含めて、本発明における保護層形成用層とみなすことができる。従って、保護層形成用層が表面に接着層を有する場合、上記の紫外線吸収性共重合体は、保護層形成用層および接着層の少なくとも一方に含まれていれば良い。なお保護層形成用樹脂としては、特に限定されるものではなく、一般的な保護層転写シートに用いる材料と同様の材料を用いることができる。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、ノルボルネン樹脂等を挙げることができ、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物等を必要に応じて加えることができる。
【００４２】
また、本発明に用いられる保護層形成用層の製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、保護層形成用層を構成する材料を含有する塗工液を作製し、後述する基材に塗布する方法が挙げられる。この際の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、ロールコート法等を挙げることができる。
【００４３】
２．基材
次に本発明に用いられる基材について説明する。本発明においては、上記基材上に、上記保護層形成用層が形成される。このような基材の具体例としては、グラシン紙、コンデンサー紙、パラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸或いは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものなどが挙げられ、中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレートが好ましい。
【００４４】
上記基材の厚さは、強度、熱伝導性、耐熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択することが出来るが、通常は１〜１００μｍ程度のものが好ましく用いられる。また、上記基材は、その表面にプライマー処理や、コロナ処理を施すことが好ましい。
【００４５】
３．背面層および離型層
本発明の保護層転写シートは、背面層および離型層の少なくとも一方を備えるものであっても良い。例えば図２に示すように、背面層３は、保護層形成用層２とは反対側の基材１表面に設けられるものであり、サーマルヘッド等の加熱デバイスと基材との熱融着を防止し、また走行を滑らかに行う等の目的で設けられる。同じく図２に示すように、離型層４は、基材１と保護層形成用層２との間に設けられるものであり、保護層形成用層２の熱転写時の離型性を向上させるために設けられるものである。このような背面層および離型層は、特に限定されるものではなく、例えば、特開２００１−３４７７５９号公報に記載されたもの等を挙げることができる。
【００４６】
４．熱転写受像シート
次に、保護層転写シートの保護形成用層が転写される熱転写受像シートについて説明する。上記熱転写受像シートは、通常、支持体と、上記支持体上に形成された受容層とを有するものであり、上記受容層は、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有するものである。
【００４７】
上記熱転写受像シートにおいては、上記受容層に上記熱拡散性染料が転写された際に、上記熱拡散性染料が、上記金属イオン含有化合物と反応し、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体となり、画像を形成する。このようにして形成された画像は、高温及び高湿下に長時間放置しても、染料の褪色及び滲みが起こりにくく、従来の感熱昇華転写に比べて優れた耐光性を示す。上記方法により形成された画像、および受容層の表面を保護する保護層を形成するために、本発明の保護層転写シートが用いられる。
【００４８】
（１）受容層
上記熱転写受像シートに用いられる受容層は、通常、上記金属イオン含有化合物およびバインダー樹脂を含有するものである。
【００４９】
（ａ）金属イオン含有化合物
上記熱転写受像シートの受容層に用いられる金属イオン含有化合物は、後述する熱拡散性染料と反応し、受容層中で熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成する。
上記金属イオン含有化合物の受容層における含有量としては、特に限定されるものではないが、後述するバインダー樹脂に対して５〜８０重量％が好ましく、１０〜７０重量％がより好ましい。
【００５０】
上記熱転写受像シートの受容層に用いられる金属イオン含有化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属イオンの無機または有機の塩、および金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩および錯体が好ましい。金属としては、周期律表の第Ｉ〜ＶＩＩＩ族に属する１価及び多価の金属が挙げられるが、中でもＡｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｔｉ及びＺｎが好ましく、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｃｏ及びＺｎがより好ましく、特にＮｉが好ましい。このような金属イオン含有化合物の具体例としては、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｃｒ２＋、Ｃｏ２＋およびＺｎ２＋と酢酸やステアリン酸等の脂肪族との塩、あるいは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩等が挙げられる。また、下記一般式（５）で表される錯体は特に好ましく用いることができる。
【００５１】
一般式（５） ［Ｍ（Ｑ１）１（Ｑ２）ｍ（Ｑ３）ｎ］ｐ＋（Ｙ−）ｐ
【００５２】
但し、上記式中、Ｍは金属イオン、好ましくはＮｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｃｒ２＋、Ｃｏ２＋、Ｚｎ２＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３は各々Ｍで表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表し、互いに同じであっても異なっていても良い。これらの配位化合物としては、例えばキレート科学５（上野景平著、南江堂、１９７５年）に記載されている配位化合物から選択することができる。Ｙは有機アニオン基を表し、具体的にはテトラフェニルホウ素アニオンやアルキルベンゼンスルホン酸アニオン等を挙げることができる。ｌは１、２又は３の整数を表し、ｍは１、２又は０を表し、ｎは１又は０を表すが、これらは上記一般式で表される錯体が４座配位か、６座配位かによって決定されるか、あるいはＱ１、Ｑ２、Ｑ３の配位子の数によって決定される。Ｐは０、１又は２を表す。Ｐ＝０は、Ｑで表される配位化合物がアニオン性化合物であり、Ｑで表されるアニオン性化合物とＭで表される金属カチオンとが電気的に中和された状態であることを意味する。
【００５３】
アニオン性化合物としては下記一般式（６）で表される化合物が好ましい。
【００５４】
【化５】
【００５５】
式中Ｒ１、Ｒ３は各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、水素原子を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、後述する一般式（Ｉ）におけるＲ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていても良い。
【００５６】
本発明においては、特に、上記金属イオン含有化合物が、下記構造式で表される化合物であることが好ましい。
【００５７】
【化６】
【００５８】
（ｂ）バインダー樹脂
上記熱転写受像シートの受容層に用いられるバインダー樹脂としては、色素が染着しやすいものであれば特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン化樹脂；塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂などのハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリウレタン；ポリカーボネート；アクリル樹脂；アイオノマー；セルロース誘導体等を用いることができ、これらの中でもハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合樹脂、ポリエステル系樹脂およびビニル系樹脂が好ましい。なお、上記バインダー樹脂は、単体で用いても良く、混合物で用いても良い。
【００５９】
（２）支持体
上記熱転写受像シートに用いられる支持体は、上記受容層を保持するという役割を有するとともに、熱転写時には熱が加えられるため、過熱された状態でも取り扱い上支障のない程度の機械的強度を有することが好ましい。
【００６０】
このような支持体の材料としては特に限定されず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、壁紙、裏打用紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、板紙等、セルロース繊維紙、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等のフィルムが挙げられ、また、これらの合成樹脂に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色不透明フィルムあるいは発泡させた発泡シートも使用できる。さらに、上記支持体の任意の組み合わせによる積層体も使用できる。
【００６１】
上記支持体と上記受容層との接着強度を大きくする等の目的で、支持体の表面に各種プライマー処理やコロナ放電処理を施すのが好ましい。
【００６２】
（３）熱拡散性染料
次に、上記金属イオン含有化合物と反応する熱拡散性染料について説明する。上記熱拡散性染料は通常、インクシートのインク層の中に含まれ、上記インク層と上記受容層とを対向するように重ね合わせ、サーマルヘッド等で加熱することによって、上記熱拡散性染料を上記熱転写受像シートの受容層に転写する。
本発明における、上記インクシートのインク層としては、色素が熱拡散しやすく、かつ、保存時色素がブリードしたり、熱転写時受像シートと熱融着する、等の不具合が発生するものでなければ、特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、アクリル系樹脂及びその誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロース等のセルロース及びその誘導体が挙げられる。
【００６３】
本発明における上記熱拡散性染料としては、上述した金属イオン含有化合物とキレート反応可能なものであれば、特に限定されるものではなく、一般的なシアン染料、マゼンダ染料、イエロー染料等を使用することができる。中でも、本発明においては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される熱拡散性染料であることが好ましい。
【００６４】
（ａ）一般式（Ｉ）で表される熱拡散性染料
【００６５】
【化７】
【００６６】
（式中、Ｒ１１は置換基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表し、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。）
【００６７】
上記Ｒ１１で表される置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えばフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。
【００６８】
これらの置換基は、同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
【００６９】
Ｒ１１としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基、及びアルコキシカルボニル基が好ましく、アルキル基が特に好ましい。一般式（Ｉ）において、Ｒ１２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ１２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記Ｒ１１おけるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基と同様の基を挙げることができる。
【００７０】
Ｒ１２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていてもよい。
Ｒ１２としては、アルキル基が好ましい。
【００７１】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表す。Ｒ１３及びＲ１４が表す置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに同様の置換基によって置換されていてもよい。Ｒ１３及びＲ１４としては、水素原子、アルキル基及びアリール基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
【００７２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１おけるアルキル基及びアリール基と同様の基を挙げることができる。
【００７３】
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていてもよい。
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８としては、水素原子が好ましい。
【００７４】
一般式（Ｉ）において、Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。
【００７５】
このような複素環の具体例として、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、チアゾール環、オキサゾール環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等の各環を挙げることができる。好ましくは、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環であり、特に好ましくは、ピリジン環である。これらの環は置換基を有していてもよく、置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができる。
【００７６】
本発明においては、一般式（Ｉ）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（Ｉ−ｉ）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【００７７】
【化８】
【００７８】
本発明においては、下記構造式（Ｉ−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【００７９】
【化９】
【００８０】
（ｂ）一般式（II）で表される熱拡散性染料
【００８１】
【化１０】
【００８２】
（式中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表し、Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ２１とＲ２２の炭素数の総和は３以上である。Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）
【００８３】
一般式（II）中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。
上記Ｒ２１として、好ましくは、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。アルキル基の中でも、更に好ましくは、分岐アルキル基であり、分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。
本発明においては、Ｒ１１が嵩高くなることにより、色素の耐光性が向上する。
【００８４】
Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表す。
上記Ｒ２２として、好ましくは、アルキル基、アシル基、カルバモイル基であり、更に好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００８５】
Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。好ましくは、アルキル基であり、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。
【００８６】
上記Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、好ましくは、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−である。
【００８７】
Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基としては、上述した一般式（Ｉ）における置換基と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００８８】
上記置換基として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００８９】
Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。
置換基としては上記Ｒ２４、Ｒ２５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
【００９０】
好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
【００９１】
Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。好ましくは、６員環を形成するのに必要な原子群である。例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられるが、好ましくは、ベンゼン環である。
【００９２】
本発明においては、一般式（II）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（II−ｉ）〜（II−iv）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【００９３】
【化１１】
【００９４】
本発明においては、下記構造式（II−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【００９５】
【化１２】
【００９６】
（ｃ）一般式（III）で表される熱拡散性染料
【００９７】
【化１３】
【００９８】
（式中、Ｙ３１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、Ｚ３１、Ｚ３２は−ＣＲ３２＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ３１は下記一般式（III-a）で表される基を表し、Ｘ３１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ３１は置換または無置換のアルキル基を表し、ｎは０以上の整数を表す。Ｒ３２は水素原子または置換基を表す。）ここで、σｐとは電子的パラメーターを示し、J.Med.Chem.16,1207(1973) 及びJ.Med.Chem.20,304(1977)に記載された方法により算出することができる。
【００９９】
【化１４】
（式中、Ｂ３１は複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【０１００】
一般式（III）において、Ｙ３１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、好ましくは０．３≦σｐ≦０．８、更に好ましくは０．４≦σｐ≦０．７の置換基を表す。σｐ＜０．２の場合、吸収波長がブロードになり好ましくなく、σｐ＞０．９の場合は製造時の色素化が低収率で好ましくない。具体的な置換基としてはアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【０１０１】
Ｌ３１は一般式（III-a）で表される基を表し、複素環を形成するのに必要な非金属原子群Ｂ３１を含む。一般式（III-a）で表される基としては、２−ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、３−ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、２−ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えば、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【０１０２】
Ｘ３１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【０１０３】
Ｒ３１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ３２は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【０１０４】
本発明においては、一般式（III）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（III−ｉ）〜（III−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１０５】
【化１５】
【０１０６】
本発明においては、下記構造式（III−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１０７】
【化１６】
【０１０８】
（ｄ）一般式（IV）で表される熱拡散性染料
【０１０９】
【化１７】
【０１１０】
（式中、Ｙ４１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、Ｚ４１、Ｚ４２は−ＣＲ４３＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ４１は一般式（IV-a）、（IV-b）で表される基を表し、Ｘ４１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表し、Ｒ４３は水素原子または置換基を表し、ｎは０以上の整数を表す。）
【０１１１】
【化１８】
【０１１２】
（式中、Ｒ４２は水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、Ｒｂは置換基を表し、ｐは０〜４の整数を表し、Ｂは−ＣＲ４２＝と共に複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【０１１３】
一般式（IV）において、Ｙ４１は０．２≦σｐ≦０．９の置換基を表し、好ましくは０．３≦σｐ≦０．８、さらに好ましくは０．４≦σｐ≦０．７の置換基を表す。σｐ＜０．２の場合、吸収波長がブロードになり好ましくなく、σｐ＞０．９の場合は製造時の色素化が低収率で好ましくない。
【０１１４】
Ｌ４１は一般式（IV-a）、（IV-b）で表される基を表し、一般式（IV-a）で表される−ＣＲ４２＝およびＢ４１と共に複素環を形成した基としては、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等が挙げられる。Ｒ４２は水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、メルカプト基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えばハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【０１１５】
Ｘ４１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【０１１６】
Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ４３は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【０１１７】
Ｒｂで表される置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）等が挙げられる。
【０１１８】
本発明においては、一般式（IV）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（IV−ｉ）〜（IV−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１１９】
【化１９】
【０１２０】
本発明においては、下記構造式（IV−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１２１】
【化２０】
【０１２２】
（ｅ）一般式（Ｖ）で表される熱拡散性染料
【０１２３】
【化２１】
【０１２４】
（式中、Ｒ５１及びＲ５２はそれぞれ、置換又は無置換の脂肪族基を表し、Ｒ５３は置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ５３は同じでも異なってもよい。Ｒ５５、Ｒ５６はアルキル基を表す。但し、Ｒ５５、Ｒ５６の少なくとも１つは２級アルキル基を表す。）
【０１２５】
一般式（Ｖ）において、Ｒ５１およびＲ５２は置換または無置換の脂肪族基を表し、Ｒ５１およびＲ５２は同じでも異なっていてもよい。脂肪族基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基などを挙げることができ、これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ドデシル基、および１−ヘキシルノニル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、およびアダマンチル基等）、およびアルケニル基（例えば２−プロピレン基、オレイル基等）、アリール基（例えばフェニル基、オルト−トリル基、オルト−アニシル基、１−ナフチル基、９−アントラニル基等）、複素環基（例えば２−テトラヒドロフリル基、２−チオフェニル基、４−イミダゾリル基、および２−ピリジル基等）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基（例えばアセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル基等のアリールカルボニル基等）、オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基、および２−ピリジルオキシカルボニル基、１−フェニルピラゾリル−５−オキシカルボニル基などの複素環オキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノカルボニル基等のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、１−ナフチルカルバモイル基等のアリールカルバモイル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、２−エトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ基等）、複素環オキシ基（例えば４−ピリジルオキシ基、２−ヘキサヒドロピラニルオキシ基等）、カルボニルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン基、Ｎ−フェニルウレタン基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレタン基等のアリールウレタン基）、スルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｎ−ドデカンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基）、アミノ基（例えばジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基等のアルキルアミノ基、アニリノ基、ｐ−ｔ−オクチルアニリノ基等のアリールアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキサデシルスルホニルアミノ基等のアルキルスルホニルアミノ基、ｐ−トルエンスルホニルアミノ基、ペンタフルオロベンゼンスルホニルアミノ等のアリールスルホニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイルアミノ基等のアルキルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基等のアリールスルファモイルアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ミリストイルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等アリールカルボニルアミノ基）、ウレイド基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノウレイド基等のアルキルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレイド基等のアリールウレイド基）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、およびｐ−トルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノスルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等のアリールスルファモイル基）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、および複素環チオ基（例えば１−フェニルテトラゾール−５−チオ基、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾール−２−チオ基等）等が挙げられる。
【０１２６】
シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。また、アルキニル基の例としては、１−プロピン、２−ブチン、１−ヘキシン等が挙げられる。
【０１２７】
Ｒ５１、Ｒ５２で非芳香族性の環状構造（例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等）を形成するのも好ましい。
【０１２８】
Ｒ５３は置換基を表し、置換基の例としては、上記Ｒ５１、Ｒ５２の置換基の例が挙げられる。上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＲ５３は同じでも異なっていてもよい。
【０１２９】
Ｒ５５およびＲ５６はアルキル基を表し、その例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。Ｒ５５、Ｒ５６の少なくとも１つは２級アルキル基を表し、２級のアルキル基の例としてはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。Ｒ５５、Ｒ５６の２級アルキル基として最も好ましい置換基はイソプロピル基である。Ｒ５６の２級アルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。Ｒ５５とＲ５６は同じでも良いし、異なっていても良い。
【０１３０】
本発明においては、一般式（Ｖ）で表される熱拡散性染料の中でも、一般式（Ｖ−ｉ）〜（Ｖ−iii）で表される熱拡散性染料が好ましい。
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
本発明においては、下記構造式（Ｖ−１）で表される化合物が好適に用いられる。
【０１３３】
【化２３】
【０１３４】
Ｂ．印画物
次に、本発明の印画物について説明する。本発明の印画物は、上記保護層転写シートを用いたことを特徴とするものである。すなわち、本発明の印画物は、キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、熱拡散性染料を転写し、熱拡散性染料−金属イオン含有化合物複合体を形成し、その後、上記保護層転写シートを用いて保護層を形成してなるものである。
【０１３５】
本発明においては、上記保護層転写シートを用いることにより、上述した性質を有する保護層を備えた印画物を得ることができ、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性にも優れた印画物を得ることができる。
【０１３６】
本発明の印画物における保護層、熱転写受像シート、熱拡散性染料については、上記「Ａ．保護層転写シート」における記載と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１３７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１３８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本実施例において、「部」とは、特に断りがない限り重量部を意味するものである。
［実施例１〜１１および比較例１〜１７］
実施例１〜１１および比較例１〜１７においては、図３に示すように、基材１と、基材１の一方の表面に形成された背面層４と、基材１の他方の表面に形成された保護層形成用層２とを有し、さらに、保護層形成用層２は、表面に接着層５を有する。なお、実施例１〜１１および比較例１〜１７においては、接着層５に紫外線吸収性重合体が含有される。
【０１３９】
基材シートとして、厚さ４．５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用い、この表面上に、予め下記組成に調製した背面層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ２になるように塗布し、背面層を形成した。
（背面層塗工液）
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製）１３．６部
ポリイソシアネート硬化剤（タケネートＤ２１８ 武田薬品工業（株）製） ０．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．５部
トルエン ４２．５部
【０１４０】
次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面に、下記組成に調製した保護層形成用層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し保護層形成用層を形成した。なお、上記保護層形成用層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。
（保護層形成用層塗工液）
アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製ＢＲ−８７） ２０部
トルエン ４０部
メチルエチルケトン ４０部
【０１４１】
次に、上記の保護層形成用層上に、下記表１〜３に示す組成に調製した接着層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し接着層を形成した。上記接着層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。上記のような操作を行うことにより、保護層転写シートを得た。
なお、表中の値は、各成分の重量部を示すものである。また、下記表１〜表３に示される「樹脂１」とは、下記の酸成分とジオール成分から定法により合成したガラス転移温度９２℃であるポリエステル樹脂である。
（樹脂１）
酸成分 ：テレフタル酸 ５０ｍｏｌ％
イソフタル酸 ５０ｍｏｌ％
ジオール成分：エチレングリコール １０ｍｏｌ％
テトラシクロデカングリコール ９０ｍｏｌ％
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
【表３】
【０１４５】
また、上記の表１〜表３における紫外線吸収性共重合体ＵＶＡ１ないしＵＶＡ８、および光安定化剤ＨＡＬＳ−ＡないしＨＡＬＳ−Ｅの構造式を下記に示す。
【０１４６】
【化２４】
【０１４７】
【化２５】
【０１４８】
［実施例１２〜１５および比較例１８］
実施例１２〜１５および比較例１８においては、図４に示すように、基材１と、基材１の一方の表面に形成された背面層４と、基材１の他方の表面に形成された保護層形成用層２とを有する。なお、実施例１２〜１５および比較例１８においては、保護層形成用層２に紫外線吸収性重合体が含有される。
【０１４９】
まず、上記の実施例１〜１１および比較例１〜１７と同様に、基材上に背面層を形成した。次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面に、下記表４および表５に示す組成に調製した保護層形成用層塗工液を、バーコーターにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布し接着層を形成した。上記接着層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。上記のような操作を行うことにより、保護層転写シートを得た。
なお、表中の値は、各成分の重量部を示すものである。また、下記表４および表５に示される「ＢＲ−８７」とは、アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製ＢＲ−８７）である。
【０１５０】
【表４】
【０１５１】
【表５】
【０１５２】
なお、上記の表４および表５における紫外線吸収性共重合体ＵＶＡ１ないしＵＶＡ８、および光安定化剤ＨＡＬＳ−ＡないしＨＡＬＳ−Ｅの構造式は、上記に記載したものと同様である。
［評価］
実施例１〜１５および比較例１〜１８により得られた保護層転写シートの性能を確認するために、保護層が転写形成された印画物を作製した。
（Ｙ、Ｍ、Ｃ印画）
まず、コニカミノルタフォトイメージング社製のフォトキレートプリンターＲＣ６０２に用いられる、熱転写受像シートと、熱拡散性染料を有するインク層リボンとを用意した。次に、上記熱転写受像シートの受容層と、上記インク層リボンとを対向させて重ね合わせ、Ｙ，Ｍ，Ｃの順番で、サーマルヘッドを用い下記条件で熱転写記録を行い、グラデーション画像を形成した。
【０１５３】
（Ｙ、Ｍ、Ｃ印画条件）
・サーマルヘッド
・発熱体平均抵抗値：３１９５（Ω）
・主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・印加電力：０．１２（ｗ／ｄｏｔ）
・１ライン周期：５（ｍｓｅｃ．）
・印字開始温度：４０（℃）
・階調制御方法：１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長を持つ分割パルスの数を０から２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのＤｕｔｙ比を６０％固定とし、階調によって、ライン周期あたりのパルス数を０ステップでは０個、１ステップでは１７個、２ステップでは３４個と０から２５５個まで１７個毎に順次増加させることにより、０ステップから１５ステップまでの１６階調を制御した。
【０１５４】
（保護層印画）
次いで、上記のように形成したグラデーション画像上に保護層を転写形成した。上記の熱転写記録を行った印画物について、実施例および比較例の保護層転写シートを、保護層形成用層面と受像面とを対向させて重ね合わせ、下記印字条件でサーマルヘッドにより、印画面全面に保護層を形成した。
【０１５５】
（保護層印画条件）
・サーマルヘッド
・発熱体平均抵抗値：３１９５（Ω）
・主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ・印字電力：０．１２（Ｗ／ｄｏｔ）
・１ライン周期：５（ｍｓｅｃ．）
・印字開始温度：４０（℃）
・印加パルス：１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長をもつ分割パルスの数を０から２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのＤｕｔｙ比を７０％固定、ライン周期あたりのパルス数を２００個固定とし、ベタ印画を行い、受容層全面に保護層を形成した。
【０１５６】
上記の操作により、保護層を備える印画物を得た。本発明においては、上記印画物に対して、耐光性評価および発色性評価を行った。
【０１５７】
（耐光性評価）
耐光性評価の条件は以下の通りである。
・照射試験器：アトラス社製Ｃｉ３５
・光源：キセノンランプ
・フィルター：内側＝ＩＲフィルター
外側＝ソーダライムガラス
・ブラックパネル温度：４５（℃）
・照射強度：１．２（Ｗ／ｍ２）―４２０（ｎｍ）での測定値
・照射エネルギー：４００（ｋＪ／ｍ２）−４２０（ｎｍ）での積算値
【０１５８】
上記耐光性条件の照射前後の画像の色相変化を色彩色差計（ＣＲ３２１、コニカミノルタ株式会社製）により測定し、照射前の光学反射濃度が１．０近傍のステップについて、下記式により色差を算出し、これを基に下記評価基準で耐光性を評価した。
色差ΔE*ab＝（（Δa*）２＋（Δb*）２）１／２
CIE1976 La*b*表色系（JIS Z8729 （1980））参照
Δa*＝a*（照射後）−a*（照射前）
Δb*＝b*（照射後）−b*（照射前）
（耐光性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜５
△：５≦色差ΔE*ab＜１０
×：色差ΔE*ab≧１０
（発色性評価）
上記印画物を１１０℃のオーブンに３分間入れ、発色性について、その前後の色相変化（色差）を測定することにより評価した。色差の算出方法は、上述の通りである。
（発色性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜３
×：色差ΔE*ab≧３
【０１５９】
（染料汚染性）
一方、実施例１〜１５および比較例１〜１８により得られた保護層転写シートの染料汚染性を評価するために、以下の操作を行った。
まず、Ｍ染料を含有する染料層と、背面層とを備えた染料リボンを２個用意し、一方の染料リボンの染料層と、他方の染料リボンの背面層とを重ね合わせ、２０Ｋｇ/ｃｍ２の荷重を加え、さらに、この状態のまま４０℃・９０％ＲＨ環境で３日間保存した。これにより、染料層中のＭ染料を、接触する背面層に移行させた。
次に、上記Ｍ染料が移行した背面層と、実施例および比較例で得られた保護層転写シートの接着層とを重ね合わせ、６０℃の環境で２日間保存した。その後、上記背面層と上記接着層とを剥離し、保護層の地汚れについて評価を行った。具体的には、上記接着層を重ね合わせる前後における保護層の色相変化（色差）を測定することにより評価した。
（汚染性の評価基準）
○：色差ΔE*ab＜３
△：３≦色差ΔE*ab＜５
×：色差ΔＥａｂ≧５
【０１６０】
上記の耐光性評価、汚染性評価および発色性評価の結果を、表６および表７に示す。
【０１６１】
【表６】
【０１６２】
【表７】
【０１６３】
表６および表７より明らかなように、実施例で作製された保護層転写シートは、耐光性評価、汚染性評価および発色性評価の全てにおいて、良好な結果が得られた。これに対して、比較例で作製された保護層転写シートは、耐光性評価、汚染性評価および発色性評価のいずれかにおいて、良好な結果が得られなかった。従って、本発明の保護層転写シートは、耐光性、汚染性および発色性について、総合的に優れていることが明らかになった。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の保護層転写シートの一例を示す断面概略図である。
【図２】本発明の保護層転写シートの他の例を示す断面概略図である。
【図３】実施例１〜１１および比較例１〜１７における保護層転写シートの構造を説明する説明図である。
【図４】実施例１２〜１５および比較例１８における保護層転写シートの構造を説明する説明図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１ … 基板
２ … 保護層形成用層
３ … 背面層
４ … 離型層
５ … 接着層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、前記熱拡散性染料を転写した後、前記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、
基材と、前記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、前記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【化１】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、
前記紫外線吸収性共重合体中に、前記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シート。
【請求項２】
前記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の保護層転写シート。
【請求項３】
前記保護層形成用層が、分子量１５００以上のヒンダードアミン系光安定化剤を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の保護層転写シート。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の保護層転写シートを用いたことを特徴とする印画物。
【請求項１】
キレート化可能な熱拡散性染料と反応し得る金属イオン含有化合物を含有する受容層を備えた熱転写受像シートに、前記熱拡散性染料を転写した後、前記受容層の表面を保護する保護層を形成するために用いられる保護層転写シートであって、
基材と、前記基材上に形成された保護層形成用層とを備え、前記保護層形成用層が、下記一般式（１）
【化１】
で表される紫外線吸収性モノマーと、アクリル系モノマーとが共重合してなる紫外線吸収性共重合体を含有し、
前記紫外線吸収性共重合体中に、前記紫外線吸収性モノマーが４０ｍｏｌ％以上含有されることを特徴とする保護層転写シート。
【請求項２】
前記紫外線吸収性共重合体の吸収極大波長が３１０〜３６０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の保護層転写シート。
【請求項３】
前記保護層形成用層が、分子量１５００以上のヒンダードアミン系光安定化剤を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の保護層転写シート。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の保護層転写シートを用いたことを特徴とする印画物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００７−９０７８２（Ｐ２００７−９０７８２Ａ）
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２８５６８６（Ｐ２００５−２８５６８６）
【出願日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【出願人】（３０３０５０１５９）コニカミノルタフォトイメージング株式会社 (1,066)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【出願人】（３０３０５０１５９）コニカミノルタフォトイメージング株式会社 (1,066)
【Ｆターム（参考）】
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