【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、前記酸解離性溶解抑制基が１，３−ジオキソール骨格を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジスト層の現像中の単一工程をはじめとする水性アルカリ現像剤で現像されうる有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は少なくとも４種の異なる官能基を含むテトラポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物の提供。
【解決手段】ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましい本発明の組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させるのに有用であり、および／または平坦化、一体化もしくはビアフィル層として機能する。 （もっと読む）

【課題】スルホン酸基を導入したポリマーを含む荷電制御剤を提供すること。
【解決手段】粉粒体の荷電状態を制御する荷電制御剤用のポリマーとして化学式（19）に示す構造のモノマーユニットを含むポリマーを用いる。


［式中、Ｒは−Ａ₂₅−ＳＯ₂Ｒ₂₅を表す。R_25w、R_25xが水素原子であり、R_25yが、CH₃基、または水素原子である。A₂₅は、置換もしくは未置換のベンゼン環或いはナフタレン環構造である。Ｒ₂₅は、ＯＨである。］ （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂膜組成物を提供する。
【解決手段】式（４Ａ）の含フッ素モノマーと式（４Ｂ）のエステル系モノマーとを反応させて得た共重合体に式（５）のイソシアネート基を有する反応性化合物を反応させることにより得られる、反応性含フッ素オリゴマーを含む硬化性樹脂組成物。ＣＨ_２＝ＣＲ^５−ＣＯＯーＲ^１ーＯーＲｆ（４Ａ）ＣＨ_２＝ＣＲ^６−ＣＯＯーＲ^２−ＯＨ（４Ｂ）


式中、Ｒ^１〜３は官能基を有しても良い長鎖の二価飽和脂肪族基、Ｒ^４〜６はＨ又はメチル基、Ｒｆは式（２）
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【課題】簡便かつ効率的に、分子量分布が狭い芳香族ビニル化合物重合体を得ることができる芳香族ビニル化合物重合体の製造方法、該方法により製造された芳香族ビニル化合物重合体、ゴム組成物およびタイヤの提供。
【解決手段】飽和炭化水素溶媒、脂環式炭化水素溶媒および芳香族炭化水素溶媒よりなる群から選ばれる１種以上からなる溶媒中に、下記一般式（Ｉ）、


の単独重合体、もしくは一般式（Ｉ）と一般式（Ｉ）の置換基自由度として、ヒドロキシル基をさらに加えたものとの共重合体を添加し、さらに、フリーデルクラフツ触媒を開始剤として使用し、開始剤を滴下し始めた後、開始剤を滴下した始めた温度ｔ℃に対し、ｔ℃未満（ｔ−６）℃以上の温度範囲で、滴下を終了させ、その後、アルコール溶媒で精製する芳香族ビニル化合物重合体の製造方法、該製造方法により製造された芳香族ビニル化合物重合体、ゴム組成物およびタイヤである。 （もっと読む）

【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】現像残渣に優れ、かつアウトガス特性に優れたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される化合物、（Ｂ）フェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基（ｃ）を有する、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂、を含むことを特徴とする、ポジ型レジスト組成物。（式中、Ａｒは、芳香族環を表し、Ｃｙ基以外に更に置換基を有してもよい。ｎは、２以上の整数を表す。Ｃｙは、置換もしくは無置換のアルキル基を有する基、又は置換もしくは無置換の環状脂肪族基を有する基を表し、複数のＣｙは同一でも異なっていてもよい。Ｍ^＋は、有機オニウムイオンを表す。）
【化１】
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【課題】
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜８の２価の炭化水素基を表す。Ｒ^５は、単結合、炭素数１〜４の２価の炭化水素基又はカルボニル基を表す。Ｒ^６は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】重合溶液から回収した炭化水素化合物溶媒を重合溶媒に再使用する共役ジエン系重合体の製造方法であって、回収した炭化水素化合物溶媒中のビニル結合含有量調整剤をより高割合で除去した共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属触媒を重合開始剤として用いて、共役ジエンと必要に応じて他の単量体とを炭化水素化合物溶媒中で重合する共役ジエン系重合体の製造方法であって、ルイス塩基性化合物を用いて重合を行った重合溶液から炭化水素化合物溶媒を分離精製し、該炭化水素化合物溶媒を重合溶媒として重合反応器に再供給する工程を有し、該工程において、ルイス塩基性化合物を、炭化水素化合物溶媒から抽出蒸留によって除去する共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性、および基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体を少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、
前記（Ａ）重合性単量体が、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を少なくとも２つ含有し、かつ、該含フッ素基の少なくとも２つは、炭素数２以上の連結基により隔てられている化合物であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】成形時に金型からの離型性に優れることに由来して、離型時に変形、浮き、剥がれや割れといった不具合を出さず、離型性に優れた硬化性樹脂組成物に使用される多官能ビニル芳香族共重合体、硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光学物品を提供する。
【解決手段】ジビニル芳香族化合物（ａ）、モノビニル芳香族化合物（ｂ）を共重合して得られ、有機溶媒に可溶である多官能ビニル芳香族共重合体あって、その共重合体の末端に下記式（１）で表される芳香族系エーテル化合物（ｃ）由来の末端を有し、モノビニル芳香族化合物（ｂ）としてビニルナフタレン又はビニルビフェニルを５０％以上含むビニル芳香族化合物を使用して得られる共重合体、及びこの共重合体と（メタ）アクリレート化合物を含む硬化性樹脂組成物。
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【課題】長期耐光性、透明性、屈折率などの光学特性、誘電率などの電気特性、更には長期耐熱性などの機械物性に優れたアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供すること。
【解決手段】特定のアダマンタン骨格、重合性基、及びこれらを結合する特定構造を有する結合基を含有するアダマンタン誘導体である。 （もっと読む）

【課題】圧電性や焦電性を持つ有機圧電材料として、特に、配向性が高く、かつ熱的に安定な有機圧電材料及びそれを用いた超音波探触子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を、少なくとも１種類以上含む化合物を含有し、かつそのガラス転移温度が１００℃以上、１３０℃以下であることを特徴とする有機圧電材料。


〔式中、Ｑは高分子主鎖を表す。Ａ_１はアルキレン基、オキシアルキレン基を表し、Ａ_１、Ａ_２はメソゲン基を表す。Ｙはウレア基、チオウレア基、ウレタン基、チオウレタン基、アミド基、チオアミド基、カーボネート基、スルホンアミド基、スルホンジアミド基から選ばれる２価の連結基を表す。Ｚは、炭素数１〜２５の脂肪族基、芳香族基及び複素環基から選ばれる基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】従来のレジスト材料を上回る現像特性、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れた耐熱パターン形状保持性を示す可溶性多官能ビニル芳香族共重合体及びレジスト組成物、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物を得る。
【解決手段】ジビニル芳香族化合物由来の構造単位（ａ）及びモノビニル芳香族化合物由来の構造単位（ｂ）を含む共重合体であって、その末端に平均して1分子あたり１個以上の下記式（１）で表されるカテコール系化合物由来の末端基を有し、数平均分子量が５００〜１０，０００であり、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類等の有機溶媒に可溶である多官能ビニル芳香族共重合体、及びこの多官能ビニル芳香族共重合体と酸発生剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト組成物。式（１）において、Ｒ₂は水素原子又は酸不安定基であり、Ｒ₂中の５〜５０モル％は酸不安定基である。
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【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物と
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

【課題】配向欠陥や液晶層のはじきがなく、光学補償フィルムを液晶セルに粘着剤を用いて貼合した場合のリワーク性に優れる光学補償フィルムを提供する。
【解決手段】光学異方性層が実質的に垂直配向した棒状液晶の配向を固定化した液晶層であり、該液晶層中に下記一般式（１）等で表されるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも一種を含有し、且つ該透明支持体と光学異方性層の間に中間層を有し、該中間層を形成する中間層塗布組成物が炭素数１〜１０であるアルコールを溶剤の３０体積％以上含有する。
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【課題】沸点が低く、環境上問題とならない水を溶媒として使用でき、リン酸鉄リチウムを均一に分散させることができ、耐電解液性にも優れた樹脂バインダーを用いて、正極集合体上にＬｉＦｅＰＯ4と導電材とを含む正極合剤層を積層したリチウムイオン二次電池の提供。
【解決手段】ＬｉＦｅＰＯ_４と導電材と樹脂バインダーとしての炭化水素ビニルエーテル変性ポリビニルアルコールとを含む混合物からなる正極合剤層が正極集電体上に積層されてなる正極と、負極と、セパレーターと、リチウム塩の支持電解質を含む非水溶媒と、を有するリチウムイオン二次電池を提供する。 （もっと読む）