【課題】 本発明は、短時間でＰＥＢを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長６００〜２０００ｎｍの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長６００〜２０００ｎｍの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク（ＰＥＢ）を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、耐摩耗性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるタイヤ用ゴム組成物、及び該組成物を用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及び炭素数が１〜１０のアルコキシ基置換のスチレンを共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体と、シリカと、下記式（Ａ）で表される化合物とを含むタイヤ用ゴム組成物。［


（式（Ａ）中、Ｒ^１０１及びＲ^１０３Ｒ^１０２は、同一若しくは異なってよい水素原子、分岐若しくは非分岐の炭素数１〜３０のアルキル基、分岐若しくは非分岐の炭素数２〜３０のアルケニル基、分岐若しくは非分岐の炭素数６〜３０のアリール基、又は水酸基を表し、ｒは、０〜８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得る製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の一は、所定の式（１）または（２）で表される（メタ）アクリル酸エステル（ａ）である。また、本発明の一は、前記（メタ）アクリル酸エステル（ａ）を含む単量体成分を重合して得られる重合体である。また、本発明の一は、前記重合体にエネルギーを与え、所定の式（３）で表される単量体（ａ’）構造単位を含む重合体を得る製造方法である。該製造方法により、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物の周辺部での不十分な硬化を防止できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物（Ａ）の１種又は２種以上と、１分間半減期温度が１００℃〜１６０℃の範囲にあり且つ該温度が互いに異なる２種以上の熱ラジカル重合開始剤（Ｂ）を含有する。前記ラジカル硬化性化合物（Ａ）としては、分子内に芳香環又は脂環を有する（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。前記分子内に芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステルとして、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環及びカルバゾール環からなる群より選択された少なくとも１種の芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】架橋反応を高度に制御可能な新規アクリル系共重合体の提供。
【解決手段】側鎖にアルコキシアミン骨格を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体を提供する。この（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、下記一般式（Ｉ）で示される構造単位からなるものとできる。


この（メタ）アクリル酸エステル京重合体は、加熱するとアルコキシアミン骨格の交換反応に基づいて分子鎖間に架橋構造を形成する。この架橋構造は可逆的に形成、解離を繰り返し得るため、温度および時間などの反応条件を調節することにより、架橋程度を任意に制御できる。 （もっと読む）

【課題】
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光により酸を生成する化合物と、（Ｃ）熱架橋剤と、（Ｄ）所定の構造単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合によって末端に極性官能基が導入されたジエン系重合体及びその製造方法、該ジエン系重合体を含む重合体エマルション及びゴム組成物、並びに、該ゴム組成物を含む空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】極性官能基含有チオール化合物の存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル重合して得られ、末端に極性官能基を有するジエン系重合体に関する。上記極性官能基含有チオール化合物は下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
Ｘ−Ｒ^１−ＳＨ （１）
（式中、Ｘは、エステル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基又はアルコキシシリル基を表す。Ｒ^１は、置換基を有していてもよいアルキレン基又はアリーレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能を高次元で両立できるとともに、耐摩耗性も良好なタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物をモノマーとして用いた変性スチレンブタジエンゴムと、シリカと、特定量のジエン系ゴムゲルとを含有するタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位（ａ３）と、を有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性を改善できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを含むゴム成分と、シリカと、特定のシランカップリング剤とを含有するタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高速応答が可能であり、かつ電圧保持率、残像特性及び耐光性に優れた液晶表示素子を作製することができ、均一塗布性にも優れる液晶配向剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリアミック酸、ポリイミド、（メタ）アクリル重合体、ポリシロキサン及びポリアミック酸エステルからなる群より選択される少なくとも１種の重合体を含有し、かつ上記重合体が下記式（１）で表される基を有する液晶配向剤である。上記Ｒ^３は、下記式（２）で表される基であることが好ましい。
（もっと読む）

【課題】省燃費性及び引張破断強度に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位、下記式（１）で表される化合物に基づく単量体単位、及び、下記式（２）で表される化合物に基づく単量体単位を有し、下記化合物（Ｇ）によって重合体の少なくとも一端が変性されている共役ジエン系重合体。


（Ｖ¹は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、Ｓ¹は置換シリル基を表す。）


（Ｖ²は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、Ａ²は置換アミノ基、又は、含窒素複素環基を表す。）
化合物（Ｇ）：置換基を有していてもよいアミノ基及びカルボニル基を有する化合物並びに置換基を有していてもよいアミノ基及びチオカルボニル基を有する化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立した基を表すか、またはＲ^４およびＲ^６は両者が結合して炭素数１〜３のアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表す。Ｒ^１１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】電解液への溶出成分が少ない（メタ）アクリル酸系重合体の製造方法を提供することと重合体を単離する工程おいて、得られる（メタ）アクリル酸系重合体の密着、凝集を防ぎ、さらに、ろ過効率の低下を防止すること。
【解決手段】（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）（メタ）アクリレートを不活性炭化水素系溶媒に溶解した後、高分子分散剤及び重合開始剤の存在下、水中で懸濁重合する重合工程、及び、前記重合工程後に蒸留により不活性炭化水素系溶媒を除去する蒸留工程を有する（メタ）アクリル酸系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒子径が１０ｎｍから１０μｍの範囲にある単分散性に優れたポリビスマレイミド架橋微粒子とその製造方法を与えることを目的とする。
【解決手段】下記一般式Ｉで示される繰り返し単位と一般式IIの繰り返し単位を併せ有するポリビスマレイミド架橋微粒子であり、該架橋微粒子は分散重合法により製造される。
【化１】


【化２】


（一般式ＩおよびIIにおいて、Ｑ_１は共に同一である２価の連結基を表す。） （もっと読む）

【課題】残存触媒の含有量が少ない高純度の（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体を容易に製造することが可能な（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル（メタ）アクリレート単位を有する（メタ）アクリル酸イミノ重合体を、有機溶剤および触媒存在下でニトロキシド化するニトロキシド化工程、前記ニトロキシド化工程後に蒸留および／またはデカンテーションにより前記有機溶剤を除去する工程、及び、前記有機溶剤を除去した後の反応液をろ過する工程を有する（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒子径が１０ｎｍから１０μｍの範囲にある単分散性に優れたポリマレイミド微粒子とこれの製造方法を与えること。
【解決手段】下記一般式Ｉで表される繰り返し単位を有するポリマレイミド微粒子であり、これを分散重合法により合成するポリマレイミド微粒子の製造方法。
【化１】


（一般式ＩにおいてＲ_１は置換基を有していても良いアリール基もしくは置換基を有していても良いアルキル基を表し、これらは互いに連結して１個の置換基を形成していても良い。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるとともに、得られたレジストパターンの欠陥が少なく、良好な形状が得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｅ）溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｘ^１は置換されていてもよい複素環を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）