【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】 ５００量体より大きな高分子量のポリアセチレンを分子量制御して高収率で得ることができるポリアセチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】 モノマー溶液と触媒溶液を混合してポリアセチレンを製造する方法であって、触媒溶液とモノマー溶液を、前記触媒溶液と前記モノマー溶液の界面で接触させて混合溶液を得る工程を有し、かつ前記触媒溶液と前記モノマー溶液が接触した界面におけるモノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）が、触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）よりも大きいポリアセチレンの製造方法。（１）モノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）とは、触媒溶液と接触するモノマー溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を表す。（２）触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）とは、モノマー溶液と接触する触媒溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を指す。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】オルガノボランとビニル芳香族化合物とを含む重合開始剤系を提供すること。
【解決手段】この重合開始剤系は、２液型の硬化性結合性組成物、特に、硬化してアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物、さらに特に、硬化して低表面エネルギー基材を結合しうるアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物を調製するのに特に有用である。オルガノボランと、少なくとも１種の重合性モノマーと、少なくとも１種のビニル芳香族化合物とを含む結合性組成物も記載される。 （もっと読む）

【課題】イオン伝導性、耐熱性、機械的強度に優れ、乾湿寸法変化が低減された複合化高分子電解質膜を提供する。
【解決手段】耐炎化ポリアクリロニトリルを有する複合化高分子電解質膜であって、前記複合高分子電解質膜の製造方法は、下記工程を有する。（１）電解紡糸法でポリアクリロニトリルの不織布を得る工程。（２）ポリアクリロニトリルの不織布をポリアクリロニトリルの軟化点以上で加圧プレスした後に、酸素を有するガス中で２００℃以上、３００℃以下で加熱処理する工程。（４）高分子電解質を該不織布の空隙に充填する工程。 （もっと読む）

【課題】
ホフマン反応をさせた後、変性後の高分子相と水相とに分離するポリアミジン系高分子水溶液の濃縮を簡便で効率の良い操作によって行なうことを提供する。
【解決手段】
高分子水溶液の濃縮方法に関するものであり、（メタ）アクリルアミドと（メタ）アクリルニトリルの共重合物を、次亜ハロゲン酸アルカリ、あるいはこれを形成し得る物質、及び苛性アルカリによってホフマン反応をさせた後、酸を添加し水溶液のｐＨを中性以下に調整しアミジン化反応をさせた後、酸を添加し前記水溶液のｐＨを４〜６に調整し、変性後の高分子相と水相とに分離することにより濃縮を簡便で効率良く達成することができる。
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【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】長期の使用に対しても液晶の配向性能が維持されるような長期の耐久性を有する液晶表示素子を得るための液晶配向剤を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体を含有し、前記繰り返し単位が、窒素原子に隣接する２つの炭素原子がそれぞれ下記式（Ｓ）で表される置換基２個を有している環状アミン構造、又は水酸基に対してオルト位の炭素原子のうち少なくとも１つの炭素原子が下記式（Ｓ）で表される置換基を有しているフェノール構造を有する。
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【課題】色度特性に優れ、コントラストが高く、しかも耐熱性、耐溶剤性の良好なカラーフィルタを製造することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）と、架橋性官能基を有する繰り返し単位（３）を含み、前記繰り返し単位（２）の共重合割合が、前記繰り返し単位（１）及び前記繰り返し単位（３）を除く全繰り返し単位中９０質量％以上である共重合体、（Ｃ）架橋剤、を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。
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【課題】重合性官能基を有する新規重合性単量体と、それを熱重合等で得られる塗布型の有機デバイス用材料、特に正孔注入輸送層を均一に形成できる正孔注入輸送材料として好適な重合体を提供する。
【解決手段】Ｚが下記式（２）で表わされる基であり、重合性官能基を含む基が、Ｌ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｐ及びＱの少なくとも１つに結合する下記式（１）で表わされる重合性単量体。
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【課題】低燃費性及び耐摩耗性を高次元で両立できるとともに、ウェットグリップ性能にも優れたタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを含むゴム成分と、シリカと、下記一般式（Ｉ）；
Ｒ^２０−Ｓ−Ｓ−Ａ−Ｓ−Ｓ−Ｒ^２１ （Ｉ）
（式（Ｉ）において、Ａは炭素数２〜１０のアルキレン基、Ｒ^２０及びＲ^２１は、同一若しくは異なって、チッ素原子を含む１価の有機基を表す。）
で表される化合物とを含有し、上記ゴム成分１００質量％中、上記変性スチレンブタジエンゴムの含有量が５質量％以上であるタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 帯電防止性等の基本性能が良好なコーティング膜を得ることができる樹脂改質剤を提供すること。
【解決手段】 下記式（Ｉ）で表される活性エネルギー線硬化性を有する樹脂改質剤。
【化１】


（但し、式中、Ｒ¹は炭素数８〜２２の炭化水素基、Ｂ^＋は重合性不飽和基を有するアンモニウムイオン（Ｃ）を示す。） （もっと読む）

【課題】高い外部取り出し量子効率を示し、発光寿命が長く、且つ、駆動電圧の低い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陰極と陽極との間に、少なくとも有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも１つの層Ａが、特定一般式で表される化学構造を繰り返し単位として有する重合度が２〜２０の範囲内である低重合体を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れるレジストパターンが製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含むレジスト組成物。
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【課題】得られるパターンのマスクエラーエンハンスメントファクターが良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】樹脂、酸発生剤及び式（Ｉ）で表される化合物を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ａ^１は、単結合又は炭素数１〜２のアルキレン基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数３〜２０の炭化水素基を表すか、或いはＲ^６及びＲ^７は、互いに結合して炭素数２〜１２の複素環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】
常温乾燥型又は比較的低温での焼付け乾燥型の水性塗料組成物に使用したときに、形成される塗膜の耐水性を向上させることのできる変性ビニル系樹脂、及び該樹脂を用いた水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】
カルボキシル基とケトン性カルボニル基とを有する変性ビニル系樹脂であって、該変性ビニル系樹脂が、１級アミノ基、２級アミノ基及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基とケトン性カルボニル基とを有する化合物（Ａ）と、酸無水物基含有ビニル系樹脂（Ｂ）とを反応させることにより得られたものであることを特徴とする変性ビニル系樹脂、及びヒドラジン誘導体とを含む水性塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】安価で、活性が高く、環境に優しく、かつ、ラジカル開始剤を必要としないリビングラジカル重合方法を提供する。
【解決手段】反応容器の気相中の酸素の量を適切な範囲に制御することにより、触媒を使用しなくてもリビングラジカル重合方法を行うことができる。ラジカル反応性不飽和結合を有するモノマーをラジカル重合反応させて、分子量分布の狭いポリマーを得ることができ、リビングラジカル重合のコストを劇的に低減することができる。本発明は、従来の触媒における毒性、低溶解性、着色・臭いなどの弊害を排除し、従来のリビングラジカル重合方法に比べて格段に環境に優しく経済性に優れる。 （もっと読む）