【課題】タイヤの転がり抵抗を低減して低燃費化を図ることができるゴム組成物をベースゴムに用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】踏面側に配されるキャップゴム９と、その内周側に配されるベースゴム８とからなるトレッドゴム６を備えた空気入りタイヤ１において、前記ベースゴム８が、有機リチウム触媒を用いて重合され、その分子末端が変性剤で変性されたブタジエンゴム又はスチレンブタジエンゴムを１５〜５０重量部含んでなるジエン系ゴム成分１００重量部に対し、窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）が２０〜４０ｍ^２／ｇ、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸油量が５０〜１５０ｃｍ^３／１００ｇであるカーボンブラックを２０〜５０重量部含有するゴム組成物からなり、前記ゴム組成物の７０℃で測定した損失正接（ｔａｎδ）が０．０５未満である。 （もっと読む）

【課題】新規な、含フッ素化合物および含フッ素重合体を提供する。
【解決手段】下記化合物（１）、下記化合物（２）またはその塩、および、化合物（１）を重合させて得られた重合体（ただし、Ｘは水素原子またはフッ素原子であり２個のＸは同一であってもよく異なっていてもよい。ｍおよびｎはそれぞれ独立に０〜３の整数でありｍとｎの和は１〜４の整数である。Ｙは水素原子または炭素数１〜１２の１価飽和炭化水素基であり３個のＹは同一であってもよく異なっていてもよい。Ｚは水素原子または−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｑ−ＮＨＳＯ_２−Ｒ^Ｆである。Ｚ^Ｎは水素原子または−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｑ−ＮＨ_２である。Ｑは炭素数２〜６の２価飽和炭化水素基である。Ｒ^Ｆは炭素数１〜１２の１価含フッ素飽和炭化水素基または炭素数２〜１２のエーテル性酸素原子を含む１価含フッ素飽和炭化水素基である。）。
【化１】
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【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、ＰＥＢ温度依存性が小さく、パターン倒れも少なく、良好なプロファイルを示し、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水樹脂（Ｃ）が重合開始剤とチオール化合物誘導体とを使用して重合することにより得られる疎水性樹脂、および、（Ｄ）溶剤、を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 分子量および分子量分布の制御されたポリマーを製造するための環状オレフィン系ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを、触媒存在下、イオン液体中で重合する環状オレフィン系ポリマーの製造方法により達成される。前記イオン液体は、アニオン成分として、イミド結合を有するアニオンを含むものである前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法は、マイクロ波を照射して重合するものである。 （もっと読む）

【課題】プラスチゾルの設計自由度を確保しつつ、脱泡性の良いプラスチゾルを与える塩化ビニル系樹脂、これを用いたプラスチゾル組成物を提供する
【解決手段】塩化ビニル系樹脂の粒子形分布において、少なくとも０．９μｍ以上１．３μｍ未満に１つの極大値を示し、且つ３μｍ以上６μｍ未満に少なくとも１つの極大値を示し、且つ２μｍ以上の粒子の重量分率が、２５重量％以上５０重量％未満であり、Ｋ値が７０．０以上７４．５未満の範囲である塩化ビニル系樹脂、更に上記した塩化ビニル系樹脂を含有し、ブルックフィールド型粘度計で測定した、２５℃Ｖ３０で測定したプラスチゾル粘度が３００ｍＰa・ｓ以下であることを特徴とするプラスチゾル組成物により達成される。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供する。
【解決手段】樹脂と２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する五価のリン化合物と、を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できる樹脂、及びレジスト組成物、ならびに半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）


で表されるモノマー単位を有するフォトレジスト用高分子化合物。 更に、前記高分子化合物が、重合温度に制御された溶媒中へモノマー溶液及び重合開始剤溶液を添加しながら重合することを特徴とする前記記載のフォトレジスト用高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】皮膜が適度な硬さと柔軟性を有し、かつ、粘着性が少ない両性重合体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】 一般式（１）で示される構成単位を有する両性重合体（Ａ）である。
【化１０】


式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基又はエチル基、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキレン基、Ｒ³及びＲ⁵は炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁴は炭素数１〜３のアルキレン基、Ｑは酸素原子又は−ＮＨ−、Ｚは−ＣＯＯ又は−ＳＯ₃である。 （もっと読む）

【課題】低発熱性、耐摩耗性およびウェットグリップ性に優れる組成物を与え、しかも、その生産性が良好である共役ジエン重合体組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン単量体または共役ジエン単量体と芳香族ビニル単量体とを含有する単量体混合物を、不活性溶媒中で重合開始剤により重合して得られた活性末端を有する重合体を含有する溶液に、（Ａ）特定のカップリング剤を添加し、カップリング重合体を生成させる工程と、（Ｂ）変性剤を添加し、変性重合体を生成させる工程と、を含んでなる共役ジエン重合体組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、アルカリ現像液で十分な解像性が得られ、ＰＣＴ試験での表面の変色及び配線板上の銅と樹脂との界面でのふくれがなく、且つ、ブリードアウトの問題が十分に低減されたリン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】特定の化学式で表わされる繰り返し単位を有する樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ性能、フォーカス余裕度が改良され、かつ良好な露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の３級エステル構造を有する酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】疎水性物質に対する非選択的吸着を抑制した親水性の高い高分子共連続体を提供すること。
【解決手段】少なくとも２個以上の重合可能な基及び少なくとも３個以上の水酸基を分子内に有し、分子内に−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−で示される繰り返し単位を少なくとも３個以上含む水溶性架橋剤を光又は熱を用いたラジカル重合することにより得られる多孔性高分子共連続体であり、該多孔性高分子共連続体に目的物質を含む試料を接触させることを含む、目的物質を分離、分析、除去又は精製する方法。 （もっと読む）

【課題】硬化性組成物として用いる場合に、単独での重合もしくは他の重合性化合物（アクリレート、メタアクリレート、スチレン等）との共重合において高い重合性を有するヘテロ環含有重合性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）(a)分子内に少なくとも一つのヘテロ環と少なくとも一つのビニル基を有する化合物と、(b)分子内に少なくとも一つの水酸基を有するアクリレート化合物またはアクリルアミド化合物とを反応させて得られるヘテロ環含有重合性化合物と、（Ｂ)重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性組成物により上記目的が達成される。 （もっと読む）

【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有することを特徴とする。
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反応性ポリマーを準備する工程と、反応性ポリマーを複素環ニトリル化合物と反応させる工程とを含む、官能化ポリマーの製造方法である。
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【課題】増感色素として有用な、新規な重合性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を表す。Ｘ^１は、エチレン性二重結合を少なくとも１つ有する一価の置換基を表す。ｎは０または1を表す。
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【課題】耐シートアタック性と印刷性と貯蔵安定性とに優れる無機微粒子分散ペースト組成物を製造することができるバインダー樹脂、及び、無機微粒子分散ペースト組成物の提供。
【解決手段】有機溶剤と無機微粒子と併用することにより耐シートアタック性と印刷性と貯蔵安定性とに優れる無機微粒子分散ペースト組成物を作製することができるバインダー樹脂であって、４つ又は３つの（メタ）アクリレート構造有する分岐ポリマーを有し、かつ、ポリスチレン換算による重量平均分子量が１万以上であるバインダー樹脂。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト材料などとして有用な、分子量が揃ったポリマーを提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ−１）


で表される繰り返し単位の少なくとも一種を含有し、数（又は重量）平均分子量が５，０００以下、好ましくは２，０００〜４，０００であることを特徴とする(メタ)アクリレート系コポリマー。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）