【課題】塗膜の硬度が高く、傷つきにくい表面層であり、かつプラスチック基材との密着性に優れた積層体を提供することにある。
【解決手段】
耐熱アクリル樹脂を主成分として含む基材の表面に、ケトン系溶剤と側鎖にラジカル重合（アニオン重合）可能な二重結合を有する（メタ）アクリロイル基ペンダント型重合体を含有する樹脂組成物を塗布して得られる層が形成された積層体である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、ラインエッジラフネスに優れ、且つ液浸液の水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の、アルコキシ基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、特定構造の、２つ以上の−ＣＨ₃部分を有する炭化水素基を有する繰り返し単位を有する樹脂及び（Ｄ）溶剤
を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明は、オリゴフッ素化架橋ポリマーならびに物品製造および表面コーティングでのそれの使用を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透明性等の光学特性に優れ、且つ、高温における成形加工時の揮発ガスの発生量を抑制した、成形加工性に優れるイミド樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】 ヘリウム雰囲気下、２８０℃、３０分間加熱した時に発生する揮発ガスの発生量が樹脂１ｇ当たり７００μｇ以下、特に沸点が１５０℃以上の揮発ガス発生の発生量が樹脂１ｇ当たり５００μｇ以下であるイミド樹脂は、成形加工時の揮発ガスの発生量を抑制した、成形加工性に優れるイミド樹脂である。 （もっと読む）

【課題】 従来の吸水性樹脂は、患部からの浸出液を吸収するものの吸水ゲル表面のベトつきがあることや、吸水性樹脂の粒径など感触に問題がある。ケガや病気による患部からの浸出液を速やかに吸収するとともに、サラサラな感触を維持し、患部の治癒に優れた効果を与えることが出来る医薬品製剤用吸水性樹脂を提供する。
【解決手段】 吸水性樹脂（Ａ）を表面架橋剤（Ｃ）で表面架橋した微粒子からなる医薬品製剤用吸水性樹脂（Ｂ）。 （もっと読む）

【課題】反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相法重合プロセスにおいて、プロピレン系重合体、特に低結晶性プロピレン系重合体を連続的に製造する際に、重合体の流動性を良い状態にし、安定運転を阻害する塊状ポリマーを低減して、プロピレン系重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相法重合プロセスによるプロピレン系重合体を連続的に製造する方法であって、
該重合プロセスの反応器へ供給する気化プロピレンのリサイクルガスの温度は、液化プロピレンの温度より＋３℃以上で、且つ重合温度より＋２０℃以下であることを特徴とするプロピレン系重合体の気相連続製造方法などを提供した。 （もっと読む）

【課題】 ブレンド系凝集剤は適用範囲が狭まり、または架橋性高分子からなる凝集剤の単独処方では添加量が増大しコスト上昇がする。本発明はこれらの点を解決する汚泥脱水処方を開発する。
【解決手段】 （ａ）高カチオン性であり比較的低分子量の重合系水溶性高分子、（ｂ）ポリアミジン、（ｃ）アミン／エピハロヒンドリン縮合物、および（ｄ）無機凝集剤から選択される一種以上を汚泥に添加、混合した後、（ｅ）架橋性イオン性水溶性高分子を添加し、混合した後、脱水することによって達成できる。
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【解決手段】酸によってアルカリに可溶になる繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料により基板上にレジスト膜を形成し、加熱処理後に露光し、現像して第１のレジストパターンを形成し、この上にヒドロキシ基を有する架橋性の高分子化合物を含む溶液からなるパターン表面コート材を塗布し、架橋して該高分子化合物の架橋膜で覆い、その上に第２のポジ型レジスト材料を塗布し、露光し、現像して第２のレジストパターンを形成するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジレジストパターン間のスペース部分にパターンを形成するダブルパターニング方法であって、パターン表面コート材を塗布し、第１レジストパターンがレジスト溶媒と現像液に溶解するのを防止することによって、第１のパターン間のスペースに第２のパターンを形成することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率な材料、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる構造を有する化合物に金属塩を包接させた包接化合物。


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜２０の２価の有機基、ケトン基、−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−、−Ｃ_６Ｈ_４−（ＣＨ_２）_ｉ−（ｉは１〜２０の整数を示す。）、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−（Ｒ^ｘ）_ｉ−（Ｒ^ｘはアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、ｉは１〜２０の整数を示す。）、−ＣＯ_２−、又は−ＣＯ_２−ＣＨ_２−を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ水素、ハロゲン、重水素、又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｍ_１は炭素数２〜５０のエチレン性不飽和結合を有する単量体由来の基を表し、ｍは０〜１０００の整数を示し、ｎは１〜１０００の整数を示す。Ａは環状化合物を有する基を表わす。） （もっと読む）

【課題】分散性の良好な、環状構造を有するオレフィン系樹脂およびヘテロ化合物からなる組成物を提供する。
【解決手段】下式で表される繰り返し単位を含む重合体と、含窒素複素環化合物を含む樹脂組成物。
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【課題】 低誘電性であり、かつ塗膜形成後の経時によって一旦上昇した誘電率を加熱処理によって回復させる能力（k値回復性）を良化させた絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 (A)少なくとも一種の有機ポリマーまたは２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする。
【化１】


（R₁はメチル基等を表し、x₁は0〜95mol%, x₂は5〜100mol%、x₁+ x₂ = 100mol%であり、R₂, R₃はアルキル基等を、R₄はメチル基等を表し、X₃は5〜100mol%, x₄は0〜95mol%、x₃ +
x₄ = 100mol%であり、Rfはフルオロアルキル基を表し、x₅は0〜95mol%, yは5〜100mol%、x₅ + x₆ = 100mol%である。） （もっと読む）

【課題】破断強度の高い延伸フィルム、アイゾット衝撃強度，熱変形温度，長期耐熱における破断強度が高く、高温下での断続的あるいは連続的な使用によって表面光沢か低下しない成形体を形成しうるシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体（ＳＰＳ）を提供する。
【解決手段】スチレン系重合体を、押出機により造粒する際に、該重合体粉末に対して水又はアルコール類を供給し、脱揮処理して、該重合体中に残留する未反応モノマー等の揮発成分を除去することにより得られた、ラセミダイアッドで７５％以上のシンジオタクティシティを有する重量平均分子量１×１０⁴〜２×１０⁶のスチレン系重合体であって、該重合体を１，２，４−トリクロロベンゼンに溶解後、冷却して得られたゲルから塩化メチレンで抽出された抽出物の重量分率が１０重量％以下であることを特徴とするシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体及びこのＳＰＳからなる成形体である。 （もっと読む）

本発明は、以下の構造式（１）によって表されるモノマー又はモノマーの混合物を含む歯科用組成物に関する。式中、_１，_２Ｒは、独立して、Ｈ、アルキル（例えば、ＣＨ_３Ｃ_２Ｈ_５）、及びフェニルから選択され、_３，４Ｒは、独立して、Ｈ、アルキル（例えば、ＣＨ_３）、及びハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）から選択され、_５Ｒは、独立して、Ｈ、アルキル（例えば、ＣＨ_３）から選択され、ｍ、ｎ＝１、２、及びｘ＋ｙ＝２〜１０であり、但し、ｍ＝ｎ＝２である場合、ｘ＋ｙ＝２を超え、ｍ＝ｎ＝１である場合、ｘ＋ｙ＝４〜１０である。本発明はまた、モノマー又はモノマーの混合物の製造プロセス、及びそれらの特に歯科用組成物としての使用に関する。
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【課題】ラジカル重合性基を持つアントラセン化合物を重合可能な組成物として提供すること及びその工業的に有用な重合方法を提供すること並びに光学材料として有用な重合物を提供すること。
【解決手段】少なくとも、ラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物、ジエノフィル及びラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物、及び当該ラジカル重合性組成物においてラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物とジエノフィルを反応させたのちラジカル重合させる重合方法。 （もっと読む）

【課題】極性基を有する環状構造を有する重合体、および重合体を加熱することによるその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１種類の下式で表される繰り返し単位を含む重合体、それを架橋してなる重合体、およびそれらの製造方法。（Ｚ^１およびＺ^２は各々独立に、水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基などを表し、Ｚ^１とＺ^２は互いに結合してもよく、ｍは０または１を表し、ｎは０〜２０の整数を表す。）
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【課題】新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を用いた液浸露光用として好適な疎水性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】新規な含フッ素化合物；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、新規な含フッ素化合物（Ｆ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物；当該液浸露光用ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたアニオン交換体の製造方法、及び前記アニオン交換体の製造に有用な臭化高分子化合物の高効率な製造方法を提供する。
【解決手段】臭化高分子化合物の製造方法であって、下記式（２）で表される構成単位を有する不飽和二重結合含有高分子化合物と臭化水素とを非極性溶媒の存在下反応させる工程を有する。
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水との共沸混合物を有する極性非プロトン性有機溶媒（ＰＡＯＳ）、およびＰＡＯＳと混和性で、水と非混和性であり、かつ相分離剤（ＰＳＡ）として作用し、その沸点が水／ＰＡＯＳ共沸混合物の沸点未満である非極性有機化合物を含むポリマーの溶液中に、水蒸気および場合によって液体の水を注入することによってポリマーを回収する方法であり、注入される水蒸気の量が、ストリッピングによるＰＳＡの実質的な除去および共沸蒸留によるＰＡＯＳの実質的な除去をもたらすのに十分であり、水の総量がポリマーの沈殿を生じさせるのに十分である方法であって、ポリマー溶液が、少なくともポリマーの沈殿の間にアルコールも含むことを特徴とする、方法。 （もっと読む）

【課題】 ペースト塩ビを発泡加工する際、白色度が高く、発泡性及びゾル粘度特性に優れ、かつ、常に安定した白色度を有する発泡体が得られるように経時変化が抑制されたペースト塩ビ、その製造方法、これを用いたペースト塩ビゾル及び発泡成形体を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）、下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも１種を１００〜３０００ｐｐｍ含有するペースト加工用塩化ビニル系樹脂、及びその製造方法。
Ｍ_２ＳＯ_３ （１）
（但し、Ｍはアルカリ金属から選ばれた一種以上を表す。）
Ｍ_２Ｓ_２Ｏ_３ （２）
（但し、Ｍはアルカリ金属から選ばれた一種以上を表す。） （もっと読む）

【課題】低露光量の光照射により液晶配向能を付与することのできる液晶配向剤を提供する。
【解決手段】液晶配向剤は、式（Ｉ）


で表される構造を有し且つガラス転移温度が５０℃以下のポリマーを含有する。 （もっと読む）