【課題】光造形法を用いて金属造形物を製造するための組成物であって、良好な導電性及び高精度の立体形状を有する造形物を、容易に製造しうる光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】光硬化性組成物は、（Ａ）エチレン性不飽和基を３個以上有するモノマー、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）動的光散乱法による数平均粒子径が０．５〜３μｍである金属微粒子を含む。（Ｃ）成分の配合割合は、光硬化性組成物の全量を１００質量％として６０〜９５質量％である。（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の各々の配合割合は、（Ｃ）成分を除く光硬化性組成物の全量を１００質量％として、７０〜９５質量％、及び０．０１〜１０質量％である。組成物１は、光造形法における硬化物層６，７の材料として用いられ、立体造形物となる。立体造形物を焼成すれば、金属造形物が得られる。 （もっと読む）

【課題】新規な垂直配向膜を提供する。
【解決手段】分子中に、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有する高分子化合物を含有することを特徴とする配向膜である。式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に、置換基を表し、ｎ¹、ｎ²及びｎ³は０〜４であり、それぞれが０のとき各ベンゼン環は無置換であり；Ｒ⁴は、水素原子又はメチル基を表し；Ｘは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は水素原子又はメチル基）、−Ｓ−、−ＳＯ₂−及びアルキレン基の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；ｍは、１〜３であり；ならびにＺは置換もしくは無置換のアルキル基を表す。
（もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、低誘電率、かつ機械強度に優れた樹脂膜を形成し得る樹脂組成物を提供すること。また、本発明の別の目的は、低誘電率、かつ耐熱性および機械特性に優れた樹脂膜およびその樹脂膜を有する半導体装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の樹脂組成物は、樹脂膜を形成するために用いる樹脂組成物であって、前記樹脂組成物は、カゴ型構造を有する化合物を含み、前記カゴ型構造を有する化合物は、該カゴ型構造を有する化合物を製膜して陽電子消滅寿命測定法で測定して得られる空孔サイズに対応した陽電子消滅寿命の第１ピークトップが、１０ｎｓ以上の領域にあることを特徴とする。また、本発明の樹脂膜は、上記に記載の樹脂組成物の硬化物で構成されていることを特徴とする。また、本発明の半導体装置は、上記に記載の樹脂膜を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つのフッ素化された単位を含む重合体の、平滑剤またはへこみ防止剤を提供する。
【解決手段】式Ｉで表される、少なくとも一つのフッ素化された単位を含む重合体の、平滑剤またはへこみ防止剤としての使用。


［式中、Ｒ^１はＣ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−、ＡＣ_ｎＦ_２ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−等の基、Ｒ^２は、Ｈ、金属部分、（アルキル）アンモニウム部分、アルキル基、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−等の基、Ｒ^３及びＲ^４は独立して、Ｈ、アルキル基又はフェニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、アルカリ中でも性能劣化の少ないガス電極を提供することである。
【解決手段】本発明は、必須成分として、ポリマー電解質、触媒、及び炭素材料、好ましくは架橋剤から構成されるガス電極であって、該ポリマー電解質が、一般式（１）で表されるイミダゾリウム残基を有することを特徴とするガス電極であり、本発明のガス電極を用いれば、性能劣化の少ない空気電池や燃料電池を提供できる。
【化１】


式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４およびＲ_５は、水素原子または１価の有機基、Ｘ⁻は、対アニオンを表す。 （もっと読む）

【課題】スルホン酸基やホスホン酸基を有する水溶性の化学修飾フラーレンを用いてプロトン伝導膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】スルホン酸基ＳＯ_３Ｍ及び／又はホスホン酸基ＰＯ（ＯＭ）_２が結合し、有機化合物が実質的に結合していない化学修飾フラーレンを、（Ａ）ポリマーに含まれた芳香族環に対する化学修飾フラーレンのフリーデルクラフツ反応か、（Ｂ）ポリマーに含まれたスルフィン酸塩の化学修飾フラーレンに対する求核的付加反応か、（Ｃ）ポリマーに含まれたイミノ基ＮＨの金属塩の化学修飾フラーレンに対する求核的付加反応かにより、マトリックスポリマーに化学的に結合する方法。（ここで、ＭはＨ，アルカリ金属イオン，Ｃ_１〜Ｃ_５のアルキル基又はフェニル基） （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、並びに、前記絶縁膜を有する電子デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】分子内に、一般式（１）で表される部分構造を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と絶縁膜用樹脂またはその前駆体（Ｂ）とを含有する絶縁膜形成用組成物。


一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に任意の置換基を表し、任意のＲ^１〜Ｒ^６がそれぞれ互いに連結して環構造を形成していてもよい。同一炭素上の置換基（Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６）が２つ合わせて二重結合を表してもよい。） （もっと読む）

【課題】ＩＰＳ方式の液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられる位相差フィルムであって、光学特性の安定性に優れた位相差フィルムを提供すること。
【解決手段】セルロース誘導体からなる透明基板、および、上記透明基板上に形成され、屈折率異方性を有する棒状化合物を含有し、さらに面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘ_１と、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙ_１と、厚み方向の屈折率ｎｚ_１の間に、ｎｘ_１＞ｎｙ_１≧ｎｚ_１の関係が成立する光学異方性層を有する光学異方性フィルムと、上記光学異方性フィルム上に形成され、ホメオトロピック配向を形成した液晶材料を含有し、さらに面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ_２、ｎｙ_２と、厚み方向の屈折率ｎｚ_２との間にｎｘ_２≦ｎｙ_２＜ｎｚ_２の関係が成立する位相差層と、を有する位相差フィルムである。 （もっと読む）

【課題】重合反応器から重合体スラリーの形態で放出され且つ先立つ分離ステップにおいて未反応モノマーの実質的に存在しない粒子状重合体から揮発性材料を分離する方法を提供する。
【解決手段】粒子状重合体をパージ容器１へ供給し、それが実質的に栓流モードにて容器を通過させ３０℃以上だが粒子が凝集を起こす程高くない温度までパージ容器中の粒子状重合体を加熱し、及び／又はこの範囲の温度に維持し、パージ容器へガスを供給し揮発性材料をそこから除去し、パージ容器から粒子状重合体を除去することからなり、パージ容器中で生じる粒子の実質的に全ての熱がパージ容器中へ供給されるガスを予熱することによって得られ、且つ重合反応器から放出された重合体スラリーは圧力を開放させることにより希釈剤が蒸発され、ポリオレフィン／ガス混合物が回収容器中に形成され、且つ濃縮容器は回収容器とパージ容器の間で使用される揮発性材料分離方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好であり、かつ基板との密着性が良好であり、更に塗布液の安定性に優れる層間絶縁膜形成用組成物を提供することである。
【解決手段】以下の成分を含む層間絶縁膜用組成物により、上記課題が解決される。
（Ａ）少なくとも一般式（１）の化合物を一種含む原料を重合して得られる重合体。


（Ｂ）溶媒。 （もっと読む）

【課題】金属元素の材料への組み込みを均質にでき、組み込むべき金属元素に特異な化学作用を開発する必要がない、金属元素がドープされたポリマー材料を調製するプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、金属元素がドープされたポリマー材料を調製するプロセスに関し、少なくとも１つのエチレン性機能を含む少なくとも１つのモノマーを重合する工程を含み、このモノマーが金属元素と錯化している。
このプロセスによって得られた材料の、触媒、または発光材料もしくは磁性材料、またはレーザーターゲット用構成要素としての使用。
（もっと読む）

【課題】優れた硬化性及び低誘電率を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、並びに、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜を提供。
【解決手段】（Ａ）ラジカル開始剤と、下記式（１）の化合物及び／又は下記式（１）の化合物を用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物。Ｒ¹は炭素と水素からなり、お互い連結し、６員環以上の環構造を形成していてもよい。
（もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、現像欠陥が少なく、対膜減り性能を持ち、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子のを有さない分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下である樹脂、および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】化学増幅系レジストにおけるかぶりや膜減り現象防止に優れた帯電防止剤、該帯電防止剤を用いた帯電防止膜及び被覆物品を提供することを目的とする。
【解決手段】水溶性導電性高分子、溶媒及び水溶性高分子を含む帯電防止剤。特定の水溶性高分子、特に、ポリビニル構造を有する特定の水溶性高分子を水溶性導電性高分子と併用することにより、安価で簡単にレジストへの塗布性を付与できる界面活性剤を用いても、塗布性を維持しながら、レジストへの影響（レジストの溶解やレジストの現像の結果生じるレジストのかぶりや膜べり現象）を抑止できる。界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。 （もっと読む）

ヒダントインヘキサアクリレートと、光開始剤系と、を含む多光子硬化性光反応性組成物。いくつかの実施形態では、多光子硬化性光反応性組成物は、ヒダントインヘキサアクリレートと光開始剤系から本質的になる。更に、ヒダントインヘキサアクリレート及び光開始剤系を含む多光子硬化性光反応性組成物の適用により基材に適用され得、多光子硬化性光反応性組成物の一部を少なくとも部分的に硬化し、少なくとも部分的に硬化された構造体を形成できる。
（もっと読む）

【課題】微粒子の捕集装置を有する気相重合反応装置を用いるオレフィン重合体の製造方法であって、前記捕集装置の内壁面でのファウリングや抜き出し口の閉塞を防止することができるオレフィン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】流動床式反応器と、該反応器の上部に設けられたガス排出口と該反応器の下部に設けられたガス導入口を連結してなるガス循環ラインと、該ガス循環ライン上に設けられた微粒子の捕集装置とを有する気相重合装置を用いるオレフィン重合体の製造方法であって、捕集装置の内壁面温度を下記の温度範囲にコントロールするオレフィン重合体の製造方法。
Ｄ＋１０ ＜ Ｔ ＜ −５．８×Ｘ＋１１０
ただし、
Ｔは、捕集装置の内壁面温度（℃）を、
Ｘは、オレフィン重合体の冷キシレン可溶部量（重量％）を、
Ｄは、循環ガスの露点（℃）を表す。 （もっと読む）

【課題】塗膜の硬度が高く、傷つきにくい表面層であり、かつプラスチック基材との密着性に優れた積層体を提供することにある。
【解決手段】
耐熱アクリル樹脂を主成分として含む基材の表面に、ケトン系溶剤と側鎖にラジカル重合（アニオン重合）可能な二重結合を有する（メタ）アクリロイル基ペンダント型重合体を含有する樹脂組成物を塗布して得られる層が形成された積層体である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、ラインエッジラフネスに優れ、且つ液浸液の水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の、アルコキシ基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、特定構造の、２つ以上の−ＣＨ₃部分を有する炭化水素基を有する繰り返し単位を有する樹脂及び（Ｄ）溶剤
を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明は、オリゴフッ素化架橋ポリマーならびに物品製造および表面コーティングでのそれの使用を特徴とする。 （もっと読む）