【課題】高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物を製造するのに好適な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物。［式（１）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。式（２）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは酸素原子であり；ｍは１であり；Ｙ’は、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜（２０−ｍ）の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である］。
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【課題】ポットライフが長く作業性に優れ、かつ短い熟成時間で実用粘着性能に達し、生産性に優れる粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】０〜９質量部のカルボキシル基含有モノマー、０〜９質量部のヒドロキシ基含有（メタ）アクリルモノマーおよび９９．９〜８２質量部の（メタ）アクリル酸エステルモノマーからなる（ただし、カルボキシル基含有モノマーとヒドロキシ基含有（メタ）アクリルモノマーとの合計量は０質量部ではない）単量体成分を含み、重量平均分子量が１０万〜２００万である（メタ）アクリル共重合体（Ａ）１００質量部と、前記（メタ）アクリル共重合体（Ａ）１００質量部に対して、カルボジイミド架橋剤（Ｂ）０．０５〜５質量部および下記特定の式で表されるイミダゾール化合物（Ｃ）０．０１〜０．２質量部と、を含む粘着剤組成物である。
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【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｒ^１は、ヒドロキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基を表す；ｓは、互いに独立に、１〜３の整数を表す；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】高いセット性と再整髪性を持ちながら、スプレー、ミスト、ワックス状など幅広い製剤の自由度を有する共重合体と、この共重合体を含むおよび化粧料用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるビニルモノマー（Ａ）に相当する構成単位と特定式で示される［(メタ)アクリル酸アルキルエステル又はＮ−アルキル（メタ）アクリルアミド］系のビニルモノマー（Ｂ）に相当する構成単位とを含み、３０℃未満の水に溶解せず、低温から昇温する際に−２５℃〜４０℃の間に吸熱開始点を有する共重合体。この共重合体を含む化粧料用組成物。
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【課題】赤色フィルターとの色分離能に優れた緑色のカラーフィルターを得ることができる着色感光性組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を含み、着色剤が、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料と、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料と、キノフタロン顔料とを含む着色感光性組成物。好ましくは、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料の含有量が、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料の含有量１００質量部に対して、２０質量部以上１５０質量部以下である着色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートが高く、レジスト膜への密着性に優れ、パターン倒れに強いという特性を備えたレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供することである。また、上記レジスト下層膜、さらには上記レジスト下層膜形成用組成物を用いたパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】［Ａ］環状カーボネート構造を有する重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物。さらには上記［Ａ］重合体が、下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有するレジスト下層膜形成用組成物。
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【課題】露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有するオキシム光重合開始剤ポリマーと（Ｂ）重合性化合物とを含有する光重合性組成物。下記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基、Ｒ^２は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルカルボニル基などを、Ｒ^３はアリール基、又はヘテロアリール基を示す。Ｒ^２とＲ^３は互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｘ^１は単結合か２価の有機基を示す。Ａは単結合またはカルボニル結合を示す。
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【課題】本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］下記式（２）で表される化合物を含む酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位（ａ３−０）とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】パターン形成後の他のレジスト組成物からの影響を低減できるポジ型レジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、アミド基と、水酸基又はアミノ基と置換して脱離しうる保護基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−１）、第一級若しくは第二級の水酸基又は第一級若しくは第二級のアミノ基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−２）、及びアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、分子量１，０００以下の［Ａ］含フッ素重合体の含有量が０．０２質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成しうる重合体、および該重合体を用いた硬化性樹脂組成物、および該重合体や該硬化性樹脂組成物を用いた積層体を提供する。
【解決手段】（ａ）２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステルのエーテルダイマーである特定の単量体と、（ｂ）カルボキシル基を含有する不飽和単量体と、（ｃ）水酸基を含有する不飽和単量体を必須成分として重合してなる重合体。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】本発明の有機薄膜トランジスタゲート絶縁層材料は、フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位と、電磁波もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する第１の官能基を有する繰り返し単位とを、有する高分子化合物（Ａ）、及び活性水素化合物（Ｂ）を含有する。 （もっと読む）

【課題】過酷環境安定性及び保存性に優れた荷電制御樹脂と過酷環境安定性、保存性、部材汚染、現像耐久性に優れた高画質なトナー画像を形成し得るトナーを提供すること。
【解決手段】少なくとも重合性単量体と重合性荷電制御樹脂を重合して得られる荷電制御樹脂であって、重合性荷電制御樹脂は、第４級アンモニウム塩基を官能基として有するスチレン系樹脂であり、末端に二重結合を有するマクロモノマーであることを特徴とする荷電制御樹脂。 （もっと読む）

【課題】 割れにくい強靱性と高耐摩耗、高硬度を両立させた塗膜が得られる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／または多官能アクリレートオリゴマーの合計１００重量部に対して、実質的に不飽和基を含有せず、親水性官能基を有し、重量平均分子量が５，０００〜２００，０００であるアクリルポリマーが１０〜６０重量部配合され、さらに光重合開始剤を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


の繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】非極性溶媒中において安定した分散性及び帯電特性を有し、帯電極性の異なる複数種類の粒子の存在下でも凝集が抑制された着色樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】顔料１〜３０重量％と、（メタ）アクリレート化アミン０．５〜２５重量％と、前記（メタ）アクリレート化アミン以外のビニル系単量体４５〜９８．５重量％とを含む重合性単量体組成物の重合体を含むことを特徴とする着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層１２０ａの部分に拡散させる工程。前記下層１２０ａは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層１２０ａおよび感光層を加熱することを含み、下層１２０ａ中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層１５０ｂを形成する工程。前記自己組織化層１５０ｂは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第１もしくは第２のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。 （もっと読む）