【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１及びＬ^２は２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは２価の脂肪族環を表し、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｒ^２は水素原子、アルキル基等を表す；ｓは０〜３の整数；ｔは０〜２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。
【解決手段】炭素数１〜４のフッ素化アルキル基及び水酸基で置換されたアルキル基を有する繰返し単位（ＨＯ−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−）、炭素数１〜４のフッ素化アルキル基を有するスルホンアミド基を有する繰返し単位（Ｒ^３−ＳＯ_２−ＮＨ−）、およびカルボキシル基を有する繰返し単位から選ばれる少なくとも１つの繰返し単位（Ｉ）と、スルホ基を有する繰返し単位（ＩＩ）とを含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である共重合体。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）塩化ビニル単量体 ６０〜９５質量％、
（Ｂ）脂肪酸ビニル単量体 ２〜１５質量％、
（Ｃ）エポキシ基含有ビニル単量体 ０．２５〜１．５質量％、
（Ｄ）ヒドロキシル基含有ビニル単量体 ２〜３０質量％
を共重合するに際し、重合中に（Ａ）塩化ビニル単量体及び（Ｄ）ヒドロキシル基含有ビニル単量体のそれぞれ一部を上記の使用量範囲内でそれぞれ追加仕込みすることを特徴とする塩化ビニル系樹脂の製造方法。
【効果】本発明によれば、熱安定性、有機溶剤への溶解性に優れ、白色顔料へ使用可能な塩化ビニル系樹脂が得られる。 （もっと読む）

【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは、２価の脂肪族環、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置換されていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は、脂肪族炭化水素基；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する第１樹脂と、（Ｂ）フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含み且つ前記第１樹脂とは異なった第２樹脂と、（Ｃ）カチオン部に窒素原子を含み且つ活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩とを含有している。 （もっと読む）

【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ−０）で表される構成単位（ａ０）、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式（ａ−０）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し；ａは０〜２の整数であり；ｂは１〜３の整数であり；ｃは１〜２の整数であり；ａ＋ｂは２以上の整数である。
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【課題】 ｐＨが３〜８であるラテックスおよび重合中に発生するスケールが少ないラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル−カルボン酸ビニルエステル共重合体１００重量部に対して、スルホン酸塩又は硫酸エステル塩を有する有機化合物０．２０〜１０．０重量部及び高級脂肪酸塩０．０５〜３．０重量部を含有し、ｐＨ３〜８であることを特徴とする塩化ビニル系共重合体ラテックス、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムとの密着性が良好であり、且つ糊残りせずに剥がすことが可能な保護フィルム付の反射防止フィルム積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種のシリコーン（メタ）アクリレートと、少なくとも１種の２官能（メタ）アクリレートとを含むことを特徴とする、モスアイ構造を有する反射防止フィルムの保護フィルム用（メタ）アクリレート系重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム積層体及びその積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高濃度界面活性剤を含み、適度の粘性と透明性を有する液体洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する洗剤組成物。第１の成分は１４〜５０重量％の界面活性剤である。第２の成分は４０〜６５重量％の（メタ）アクリル酸Ｃ_１−Ｃ_１８アルキルおよび２５〜５５重量％のＣ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマーの重合残基を有するポリマー０．０５〜４重量％である。 （もっと読む）

【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）を有する光酸発生剤化合物：


式中、Ｇは式（ＩＩ）を有し：


式（ＩＩ）において、ＸはＳもしくはＩであり、各Ｒ^０は等しくＸに結合されており、かつ独立してＣ_１−３０アルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_３−３０シクロアルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_６−３０アリール基；または前述の少なくとも１種を含む組み合わせである；ａは２もしくは３である；並びに式（Ｉ）におけるＺはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。式（ａ５−１）中、Ｘは単結合又は２価の連結基であり、Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでよい環状のアルキレン基を表す。
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【課題】 光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（Ｉ）中、ｎは２以上の整数を表し、Ｘは炭化水素基を表す。）
【化１】
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【課題】フォトレジストコポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式を有するコポリマー


式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ、Ｃ_１−６アルキルもしくはＣ_４−６アリール、Ｒ_６はフッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ａｒは単環式、多環式もしくは縮合多環式Ｃ_６−２０アリール基；Ｒ_７およびＲ_８は−ＯＲ_１１もしくは−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＲ_１１基、Ｒ_１１はＨ、フッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ｒ_９はＦ、Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０フルオロアルキル、Ｃ_１−１０アルコキシ、もしくはＣ_１−１０フルオロアルコキシ基；Ｒ_１０はカチオン結合Ｃ_{１０−４０}光酸発生剤含有基ある。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（ＥＩ）で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。


Ｒ_Ｅ１、Ｒ_Ｅ２及びＲ_Ｅ３は各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_Ｅ１とＲ_Ｅ２は結合して環を形成していても良い。Ｒ_Ｅ４及びＲ_Ｅ５は各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_Ｅ６及びＲ_Ｅ７は各々独立に、水素原子又は一価の有機基を表す。Ｂ_ｃ１は単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ_Ｅ４、Ｒ_Ｅ５、Ｒ_Ｅ６、Ｒ_Ｅ７及びＢ_Ｃ１はそれぞれ結合して環を形成していても良い。＊は前記樹脂（Ａ）の主鎖又は側鎖連結の結合手。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 膨潤率に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 樹脂（Ａ）および感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、樹脂（Ａ）の少なくとも１種が、一般式（１）で表される、酸解離性基により保護された酸基を有する構造単位（Ａ１）を含み、かつ、架橋性基を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。
一般式（１）
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【課題】ＧＨｚ帯域において優れた誘電特性、耐つぶれ性及び耐熱性を実現し得る伝送ケーブル用絶縁電線及び伝送ケーブルを提供すること。
【解決手段】導体１と、導体１を被覆する絶縁層２とを備える絶縁電線５であって、絶縁層２が、１２５〜１４５℃の融点を有するプロピレン系共重合体を含み、プロピレン系共重合体が、融点−結晶化ピーク温度＝３０〜４０℃を満たし、絶縁層２の厚さが０．３ｍｍ以下であり、プロピレン系共重合体が、３８〜６０％の結晶化度を有する伝送ケーブル用絶縁電線５。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光においてレジスト膜の露光部から酸が液浸液に溶出することを低減し、ウォーターマーク欠陥及び現像欠陥を抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び、
（Ｄ）２種以上の溶剤からなり、沸点が２００℃以上の溶剤を含有する混合溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れると共に、耐熱保管性および低温定着性に優れかつトナー飛散防止性に優れるトナーを与えるトナーの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の樹脂および着色剤を含有するコア層を有し、該コア層上にシェル層を有するコアシェル型トナーを製造するトナーの製造方法であって、該第一の樹脂および該着色剤を含有するコア粒子を含有するコア樹脂分散液と、ビニルトリアリールイミダゾール基を有する第二の樹脂および第三のポリエステル樹脂を含有するシェル層用粒子を含有するシェル樹脂分散液とを混合して、該コア粒子を、該シェル層用粒子で覆いシェル層Ａを形成するシェル化工程、および該層Ａを、酸化剤を含有する酸化剤溶液で処理し、該第二の樹脂を架橋する架橋工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 （もっと読む）