【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性およびパターン倒れの改善を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｃ）下記一般式（ＺＩ−３）、（ＺI−４）又は（ＺＩ−５）で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、樹脂（Ａ）が酸の作用により分解する基を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有し、該酸分解性の基が分解して脱離する基が環構造を有し、該環構造が極性基を置換基として有し、もしくは、該環構造が極性原子を環構造内に含み、且つ、前記脱離基が脱離して生成する化合物のｌｏｇＰ値が０以上２．８未満であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）、及び露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基である。］。
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【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ＩＴＯスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、（ｉｉ）一般式（１）で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。 （もっと読む）

【課題】感光性、基板との密着性、現像性、耐熱性、透明性等の各種物性に優れるとともに、画像形成性及び表面平滑性にも優れ、未露光部の残渣や地汚れ等がなく、かつ膜厚が充分に低減された硬化物（硬化膜）を与えることができるネガ型レジスト組成物を提供する。また、このようなネガ型レジスト組成物を用いてなるカラーフィルター及びその製造方法、並びに、該カラーフィルターを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリレート系重合体、重合性単量体及び光重合開始剤を含むネガ型レジスト組成物であって、該（メタ）アクリレート系重合体は、全単量体成分１００質量％に対し、特定構造からなる３級炭素含有（メタ）アクリレート系単量体を３０〜８０質量％含む単量体成分を重合してなる重合体。 （もっと読む）

【課題】解像性、焦点深度（ＤＯＦ）特性に優れ、真円性に優れた矩形性の高いホールパターンを与えることのできるポジ型レジスト組成物、及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１−１）で示される繰り返し単位と、下記一般式（１−２）で示される繰り返し単位と、酸不安定基を有する繰り返し単位とを含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）塩基性化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）及び活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を含む、パターン形成方法。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】微量吐出法のみにより、高い撥液性を有する硬化膜を基材上に形成でき、並びに、隣接するパターンが硬化前に接触しても、混じり合わずにパターン形状が維持される撥液剤を提供する。
【解決手段】（ａ１）炭素数１〜８のフルオロアルキル基（炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよい）を有するα位置換アクリレート１００重量部、（ａ２）エポキシ基含有モノマー５〜６０重量部および（ａ３）−(Ｒ^１Ｏ）_ｎＲ^２で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー１０〜１００重量部を繰返し単位とするフッ素系ポリマー（Ａ）を含有する硬化性インク組成物用撥液剤。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、（２）上記レジスト膜に露光する工程、及び（３）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有する。
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【課題】環境衛生上の問題が少なく、硬度、密着性、耐薬品性に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】活性エネルギー線の遮断下で、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸から選ばれるカルボキシル基含有不飽和モノマー(a)、重合性不飽和基を有する光増感剤(ｂ)、反応性官能基を含有する不飽和モノマー(ｃ)、及びこれらと共重合可能な他の不飽和モノマー(ｄ)の混合物を共重合する。この共重合体に(c)と反応可能な炭素−炭素不飽和二重結合を含有する化合物(ｅ)を付加反応させ、1分子中に2つ以上の炭素−炭素不飽和二重結合、1つ以上の活性エネルギー線によりラジカルを発生する光増感性官能基、1つ以上のカルボキシル基を含有するポリマー化合物(A)を得る。次にポリマー化合物(A)中のカルボキシル基を塩基で中和する。この場合、上記(ｃ)化合物と (ｅ)の化合物を特定の組合せとする。
さらにポリマー化合物(A)に上記多官能不飽和モノマーまたはオリゴマー(Ｂ)を混合したものも含まれる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐スクラッチ性と高い屈折率とを両立できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を下記式（１）


（式中、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂは非ラジカル重合性置換基、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはアルキレン基、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂは水素原子又はメチル基、Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂは非ラジカル重合性置換基、ｋ１およびｋ２は、それぞれ０〜４の整数、ｍ１およびｍ２はそれぞれ０以上の整数、ｎ１およびｎ２はそれぞれ１〜４の整数、ｐ１およびｐ２はそれぞれ０〜４の整数を示す。ただし、ｎ１＋ｐ１≦５、ｎ２＋ｐ２≦５である。）
において、ｍ１＋ｍ２の平均値を、８．５〜１７に調整した多官能性（メタ）アクリレートとフェノキシベンジル（メタ）アクリレートとで構成する。 （もっと読む）

【課題】スピンコート法の実施条件を変更することにより、膜厚が大きく異なる樹脂膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）２０℃、１気圧での飽和蒸気圧が３．０ｍｍＨｇ以下のエチレングリコール系有機溶媒を含む有機溶媒類を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度な化学増幅型レジストとして有用な新規な酸分解性をもつ重合性単量体、これを用いて重合または共重合された重合体、およびそれを用いたレジストおよびそのパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性単量体、およびその重合体。


（式（１）中、Ｒ^２〜Ｒ^１４は、水素、炭化水素基。） （もっと読む）

【課題】光学特性に優れ、且つ、高温環境下でも極めて優れた形状保持性を有する硬化物を形成することができるウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物として下記ラジカル硬化性化合物（Ａ）を含有することを特徴とする。
ラジカル硬化性化合物（Ａ）：下記式（１）で表される化合物。式中、Ｒ¹は、単結合、水素原子の１個又は２個が炭素数１〜５のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基、スルホニル基、硫黄原子、又は酸素原子を示し、Ｒ²、Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。Ｘ、Ｘ’は、同一又は異なって、硫黄原子又は酸素原子を示す。Ｒ、Ｒ’は、同一又は異なって、炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｎ、ｎ’は、同一又は異なって、０又は１を示す。
【化１】
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【課題】環境依存性の少ない現像剤担持体及び現像装置の提供。
【解決手段】基体及び樹脂層を有し、該樹脂層はアクリル樹脂を含有しており、該アクリル樹脂は下記式（１）で示されるユニット（１）及び下記式（２）で示されるユニット（２）を有している現像剤担持体。式（１）中、Ｒ_１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ_２は、炭素数１以上４以下のアルキレン基を示す。「＊」は、式（２）中の「＊＊」との結合部を示す。式（２）中、Ｒ_３は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ_４は、炭素数１以上４以下のアルキレン基を示し、Ｒ_５、Ｒ_６及びＲ_７は、炭素数１以上１８以下のアルキル基を示し、Ａ⁻は、アニオンを示す。
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【課題】ＫｒＦ光、電子線及びＥＵＶ光を用い、高解像かつ高エッチング耐性を有し、更に現像残渣欠陥が低減されたネガ型のパターンを形成可能なパターン形成方法、その方法に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含有し、且つ、芳香族基を含有する、酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像することによりネガ型パターンを形成する工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）で表される構成単位と、式（ａ２）で表される構成単位と、式（ａ３）で表される構成単位及び／又は式（ａ４）で表される構成単位とを有する共重合体、（成分Ｂ）発生酸のｐＫａが４以下である光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び露光ラチチュードに優れ、パターンサイズの現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位（ａ１）を樹脂（Ｐ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％以上有する樹脂（Ｐ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）膜を露光する工程、及び（ウ）露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
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【課題】高感度であり、保存安定性及び硬化膜の透明性に優れ、現像寛容度が広い感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、及び、溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ａｒ¹はｏ−アリーレン基又はｏ−ヘテロアリーレン基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表す。２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。
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