【課題】表面平滑性、非タック性（表面ベトツキ抑制）、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して得られるオーバープリント及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カチオン重合性基を有する含ケイ素ポリマー、（Ｂ）光カチオン重合開始剤、及び、（Ｃ）カチオン重合性化合物、を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用したオーバープリント、及び、その製造方法。 （もっと読む）

本発明は、トリブロックポリマーを含む、新規のポリマーを、そのポリマーおよびそのようなポリマーを含む化合物を調製する方法と共に提供する。ポリマーは、少なくとも３つのブロック、ポリ（スチレン）を含む第１のブロック、ポリ（エチレン）およびポリ（ブチレン）のランダム配置を含む第２のブロック、ならびに機能化されたポリ（イソプレン）を含む第３のブロックを含む。機能化されたポリ（イソプレン）ブロックの単位は、水酸基および本明細書中で定義されるような、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６またはこれらの組み合わせを含む１つ以上のエーテル結合側鎖を含み得る。そのポリマーは、たとえば海洋船舶に対する防汚コーティングを与えるために用いられ得る。
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【課題】エチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物を２種類以上配合した共重合体加溶媒分解物組成物を提供する。
【解決手段】エチレン−ビニルエステル共重合（Ａ’）及び、一般式（２）に示される化合物に由来する構造単位を含有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体（Ｂ’）を同一系内で加溶媒分解し製造する。


［一般式（２）において、Ｒ⁷とＲ⁸は結合して５員環を形成してもよい］ （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、特に電子線、Ｘ線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線使用時における真空中ＰＥＤ特性、ラインエッジラフネスおよびパターン形状を同時に満足し、またＥＵＶ光使用時における感度、溶解コントラストに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する、星型ポリマーまたはハイパーブランチドポリマー、（Ｂ）特定の活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】空気保持性及びビード部の耐久性に優れ、軽量化が可能な重荷重用タイヤを提供する。
【解決手段】タイヤ内面が空気遮断層６で覆われた重荷重用タイヤにおいて、前記空気遮断層６は、厚さが1mm以下で、ビード部のトゥ先端Ｐからタイヤ内面に沿う方向10mm以下の領域に端部８が位置し、且つ20℃、65％RHにおける酸素透過量が3.0×10^-12cm³・cm／cm²・sec・cmHg以下である樹脂組成物（Ａ）からなる層を少なくとも含んでなり、前記樹脂組成物（Ａ）が、エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ｂ）を反応させて得られる変性エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ｃ）からなるマトリクス中に、23℃におけるヤング率が前記変性エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ｃ）より小さい柔軟樹脂（Ｄ）を分散させてなることを特徴とする重荷重用タイヤである。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、フレーバー成分の非吸着性、低温でのヒートシール性及び耐溶剤性に優れる多層構造体を提供する。
【解決手段】変性エチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ｃ）からなる表面層を有する多層構造体であって、変性エチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ｃ）は、未変性のエチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ａ）を、二重結合を有するエポキシ化合物（Ｂ）及び二重結合を有しないエポキシ化合物（Ｅ）で変性して得られたものであり、前記（Ｂ）による変性量がエチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ａ）のモノマー単位に対して０．１〜１０モル％であり、前記（Ｅ）による変性量がエチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ａ）のモノマー単位に対して０．１〜３０モル％であり、変性エチレン−ビニルアルコール系共重合体（Ｃ）の少なくとも一部が架橋されていて、表面層のゲル分率が３質量％以上である多層構造体である。 （もっと読む）

【課題】カルバゾイル基を有する化合物を含む成形体であって、十分な靭性を有する透明性に優れた成形体、および、このような成形体を形成し得る硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される構造と２個以上のラジカル重合性二重結合とを１分子中に有する化合物を含む、硬化性組成物。


（式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。ＯＡは、直鎖または分岐のオキシエチレン、オキシプロピレン、およびオキシブチレンからなる群より選択される少なくとも１種のオキシアルキレン鎖を表す。ｎは、１〜１００の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの４点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアセタール構造を有する繰り返し単位と特定のアセタール構造を有する繰り返し単位とを有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】連続的に製造することができる変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】塊状のポリオレフィン樹脂（Ａ）と、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、少なくとも１種の不飽和基（ａ）と少なくとも１種の極性基（ｂ）とを有する化合物（Ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（Ｃ）０．００１〜１０重量部とを押出機（Ｉ）に供給する工程、および、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）と前記化合物（Ｂ）と前記有機過酸化物（Ｃ）とを溶融混練する工程とを含み、前記押出機（Ｉ）がコニカル型押出機、ならびに、単軸押出機および／または平行多軸押出機を備え、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）をコニカル型押出機に供給することを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、コーティング用途のための高分岐ポリマーの水性分散液およびこのポリマーを作製する方法を提供する。このポリマーは、高分子量を有してもよく、望ましくはミクロゲルの形態をとる。このポリマーおよび分散液は、限定するものではないが、２パック・コーティング、紫外線（ＵＶ）硬化性コーティング、インク、および空気乾燥コーティングを含む様々なコーティングに使用するのを適切にする、官能性、粘度、および固体含量で配合することができる。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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【課題】 耐水性および可塑剤との相溶性に優れるビニルアセタール系重合体からなる合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】 α−オレフィン単位を１〜１５モル％含有し、１，２−グリコール結合の含有量が１〜３モル％、重合度が５００〜２０００、けん化度が８０．０〜９９．９９モル％のビニルアルコール系重合体をアセタール化して得られる、アセタール化度が４５〜８０モル％のビニルアセタール系重合体からなる合わせガラス用中間膜により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】 内部可塑化された変性ポリビニルアセタール樹脂を提供すること。
【解決手段】 ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基に、炭素数２〜１２のアルキレンオキサイドが付加した構造を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を提供することによって上記課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】 従来報告されている技術では、塩素成分の遊離を抑制したイソブチレン重合体が簡便に得られていない。イソブチレン系重合体中への塩素原子の導入を容易な操作により阻止できるイソブチレン系重合体の製造方法が待ち望まれていた。
【解決手段】 重合が実質的に終了した後に特定の芳香族系化合物を添加し、重合時に使用した触媒を用いて加熱することなくワンポッドで反応させることにより、上記課題が解決される。上記特定の芳香族系化合物としては、アニソール、２−メチルアニソール、１、３−ジメトキシベンゼンなどが好ましい。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のアルカリ現像液に不溶または難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂を含有し、その内の少なくとも１種が２４８ｎｍに吸収を有する基を側鎖に有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂であり、 更に、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を、分子内に２つ以上含む感光性化合物、感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び感光性組成物を用いる。
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【課題】 一定条件下で、アニオン性置換基（例えばリン酸基）と結合する性質を有すると共に、全体として溶媒難溶性（好ましくは溶媒不溶性）を示す、アニオン性置換基（例えばリン酸基）を有する物質を捕捉することができ、且つ、容易に分離精製可能なポリマー担体の提供。
【解決手段】 所定の亜鉛錯体基が直接又はスペーサーを介して共有結合したポリマー担体。 （もっと読む）

【課題】メタクリル系樹脂が本来有していた透明性、高い表面硬度・高剛性・耐候性・耐熱性などの特長を保持しつつ、靭性の改良されたアクリル系熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メタクリル系樹脂（Ａ）とポリビニルアセタール樹脂（Ｂ）とを、せん断速度１００ｓｅｃ^-1以上のせん断をかけながら樹脂温度１４０℃以上で溶融混練し、次いで１２０℃以下の温度に冷却することによって、少なくともメタクリル系樹脂（Ａ）が連続相を形成しており、アクリル系熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度のうちメタクリル系樹脂（Ａ）に起因するガラス転移温度Ｔｇ_APが、メタクリル系樹脂（Ａ）単独でのガラス転移温度（Ｔｇ_A）とポリビニルアセタール樹脂（Ｂ）単独でのガラス転移温度（Ｔｇ_B）との間の値を示すアクリル系熱可塑性樹脂組成物を得る。該樹脂組成物を成形してフィルム状またはシート状成形体を得る。 （もっと読む）

式（IIIc）の化合物を反応させる段階を含む、式（IIIe）の化合物の合成方法、および式（XXXa）の官能性ポリマーを開示する。式（IIIc）、（IIIe）、および（XXXa）における変数は、本明細書において定義する。





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