【課題】高耐久で、現像効率が安定し、かつ、カブリ及び弾性層が含有する低分子量染み出しの発生を抑制する表面層を有する現像ローラであって、耐圧縮永久歪性にも優れた現像ローラの提供。
【解決手段】現像ローラの表面層が、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を含有するポリシロキサンを含有し、かつ、ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニット及びＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する。該ポリシロキサン中の前記第１のユニットのモル数をｘ［ｍｏｌ］とし、前記第２のユニットのモル数をｙ［ｍｏｌ］とし、前記第３のユニットのモル数をｚ［ｍｏｌ］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である。 （もっと読む）

本発明はイオン性有機シリコン化合物を含む水性溶液で無機質表面を処理する方法に関する。驚くべきことに、本発明まではシランを安定化するために少量で使用されていた水溶性のイオン性有機シリコン化合物の無機質表面への適用が、優れた疎水性を有する処理表面を提供することが見いだされた。本発明は、無機物の基体の表面処理の際に、はっ水性を与えるための主または単独の成分としてイオン性有機シリコン化合物をもっぱら利用する。本発明の方法は、本質的に少なくとも１つのイオン性有機シリコン化合物からなる水性溶液を無機質表面へ適用することにより、表面に対して水抵抗性を付与することを含む。処理後に、処理された表面は長期間のはっ水特性を有することにより特徴づけられる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、可撓性、靭性、電気特性を改善する熱硬化性重合体組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）で表されるシルセスキオキサン骨格を繰り返し単位として有する化合物の少なくとも１つである第１成分と、オキシラニル、オキシラニレンまたは３、４−エポキシシクロヘキシルを有するかご型構造のシルセスキオキサン誘導体の少なくとも１つである第２成分と、硬化剤である第３成分とを必須成分として含有する熱硬化性重合体組成物：


ここに、Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｄはアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、またはオキシラニル、オキシラニレンもしくは３、４−エポキシシクロヘキシルを有する基である。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）


（但し、Ｒ¹は炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基で各々同一又は異なっていてもよい。ｋは１〜１０の整数、ｍ、ｎはそれぞれ０〜１４の整数であり、かつｍ＋ｎは８〜１４の整数である。）
で表されるトリオルガノシリル基で保護したアミノ基含有シルセスキオキサン。
【効果】本発明によれば、トリアルキルシリル基保護アミノ基を有するトリアルコキシシランを溶媒及び塩基性触媒存在下で加水分解縮合させることにより、構造が安定なトリアルキルシリル基保護アミノ基を有するシルセスキオキサンを簡単な操作で収率よく製造できる。 （もっと読む）

【課題】透明であり、耐光性に優れ、しかも厚膜成形が可能な封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、エチルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明であり、耐光性に優れた封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、フェニルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポリマーを構成するＳｉ原子にシリルメチル基が結合した新規なポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるシラン化合物を縮合して得られるポリマー。
【化１】


（式中、Ｘ_１〜Ｘ_３は、同一または異なり、それぞれハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、またはヒドロキシ基を示し、Ｙ_１〜Ｙ_３は、同一または異なり、アルキル基、アルケニル基、またはアリール基を示す） （もっと読む）

【課題】感光性を有し、短時間で現像でき、かつ感光性組成物に由来した着色がない薄膜パターンを形成することを可能とするシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ＳｉＨ基を有する少なくとも１種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、下記式（１）で表される２個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ａ）を重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物（Ａ）が、ＳｉＨ基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。
ＳｉＨ_ｐ（Ｘ）_２（Ｒ_１）_２−ｐ・・・式（１） （もっと読む）

その加水分解性サイトの加水分解に際して、すべてが加水分解可能なアルコキシ基である加水分解性サイトを同数にて有するシランの加水分解によって生成される揮発性有機化合物と比較して、減少した量の揮発性有機化合物を生成するエポキシシランを加水分解させることを包含する、低ＶＯＣエポキシシランオリゴマーの製造方法であって、前記エポキシシランの加水分解が１．５当量未満の水を用いて行われ、加水分解反応の間に前記水が連続的に供給される、方法。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難く且つ吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（Ｒ^３Ｒ^４ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｐ(ＢＲ^５Ｒ^６ＳｉＯＳｉＯ_１．５)_ｑ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｐ−ｑ}（Ａは炭素−炭素不飽和結合を有する基、Ｂは置換又は非置換の飽和アルキル基もしくは水酸基、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６は各々独立に低級アルキル基、フェニル基、低級アリールアルキル基から選ばれた官能基、ｍは６，８，１０，１２から選ばれた数、ｎは１〜ｍ−１の整数、ｐは１〜ｍ−ｎの整数，ｑは０〜ｍ−ｎ−ｐの整数）
上記の式で表されるかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応したかご型シルセスキオキサン化合物部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難くまた吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】次のかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応したかご型シルセスキオキサン化合物部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。
（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（ＢＲ^３Ｒ^４ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｓ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｓ}
（Ｒ^５Ｒ^６ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＥＲ^７Ｒ^８ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｒ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｐ−ｑ−ｒ}
（Ａは炭素−炭素不飽和結合を有する基、Ｂ及びＥは飽和アルキル基あるいは水酸基、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８はメチル基又はフェニル基等、ｍ及びｑは６，８，１０，１２から選ばれた数、ｎは２〜ｍの整数、ｑは２〜ｐの整数、ｒは０〜ｐ−ｑの整数、ｓは０〜ｍ−ｎ） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、耐熱性、耐湿性、通信波長における透明性（低光損失性）を同時に満足する、特に、光導波路用材料として優れた、光学材料用硬化性組成物及び該組成物を硬化させて得られた部材を備えてなる光導波路を提供することにある。
【解決手段】本発明の光学材料用硬化性組成物は、必須の構成成分として、（Ａ）特定のケイ素含有重合体；（Ｂ）特定のエポキシ樹脂；及び（Ｃ）：エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

この発明は、有機ポリマーおよび無機ポリマーからなるハイブリッド薄膜、ハイブリッド薄膜の製造方法、ならびにそのハイブリッド薄膜のポリマー電解薄膜燃料電池内における使用に関する。本発明に係るハイブリッド薄膜は少なくとも１つの塩基性有機ポリマーと少なくとも１つの無機ポリマーとから形成される。それらのポリマーは分子レベルで混合される。前記無機ポリマーは、薄膜形成中に少なくとも１つの前駆物質モノマーから形成される。本発明に係るハイブリッド薄膜は、ドーピング剤に対して高い吸収能力を有し、ドーピングされていてもいなくても高い機械的および温度安定性を有し、またドーピングされた形態においては長期的に高い陽子伝導能力を有することを特徴とする。
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【課題】 高い増粘性を発揮し、化粧料やトイレタリー製品に使用した場合、良好な使用感を有し、増粘、乳化安定性に優れた化合物の提供。
【解決手段】 構造（１）を有するアミノ酸のＣ末端に、アミノ基を有する１価の炭化水素基、並びにＸ₃Ｓｉ−（Ｘはアルコキシ基）を有するシラン化合物が反応し、上記アミノ酸のＮ末端に、分子中に特定の官能基を有する１価の炭化水素基、並びにＺ₃Ｓｉ−（Ｚはアルコキシ基）を有するシラン化合物が反応してなるジシラン化合物を、加水分解後、縮合して得られる重合体、この重合体からなる増粘剤及びこの重合体を含有する化粧料。
【化１】


［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、Ｈ、Ｃ_1-22のアルキル基等、ｎは１〜１００００の数を示す。］ （もっと読む）

アリールホスホン酸で置換されたオリゴマー状およびポリマー状のシロキサン
本発明は、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、その製造方法、シリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、ポリ−ホスホン酸基及び／又は少なくとも一種のシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンを含む少なくとも一種の本発明のオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンと、少なくとも一種の他のポリマーを含む混合物、少なくとも一種の本発明のホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又は少なくとも一種の本発明のシリルポリホスホネート基及び／又はアルキルポリホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンまたは本発明に係る混合物を含む膜、フィルムまたは複合化物、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又はシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、または本発明の混合物のいろいろな利用に関する。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子等に形成されているパターン形状を隠すために好適な着色層を形成するための着色シリカ系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 着色シリカ系被膜形成用組成物は、シロキサンポリマーと、着色剤と、溶媒とを含む。このシロキサンポリマーとしては、ラダー型シロキサンポリマーが好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】炭酸カルシウム合成触媒及びこれを用いた炭酸カルシウムの合成方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子を中心原子とする複数の４面体が配列した４面体シート、及び金属原子を中心原子とする複数の８面体が配列し前記４面体シートと酸素原子を介して結合している８面体シートを含み、一般式（１）： （Ｒ^１_ｎＳｉＯ_{（４−ｎ）／２}）_ｘＭ_２／ＺＯ（Ｈ_２Ｏ）_ｗ ・・・（１）［式中、Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の有機基を示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｘは０．５〜２の数値を示し、Ｍはそれぞれ独立に金属原子又はそのイオンを示し、Ｚは２又は３を示し、ｗは０〜２の数値を示し、Ｒ^１の少なくとも一部は亜鉛イオンと錯形成しうる含窒素官能基を有する錯形成性有機基である。］で表される組成を有する層状ポリマーにおける錯形成性有機基の少なくとも一部が亜鉛イオンと錯形成している、Ｚｎ錯体含有層状ポリマー。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン、リン、窒素等の原子を実質的に含有せず、高い難燃化効果を広い成形条件で安定的に発現するポリシロキサン化合物、及びこれを用いて難燃化された難燃性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】重量平均分子量が３００，０００以上であり、少なくともＳｉＯ_４／２単位を８５モル％以上含むポリシロキサン化合物であって、反応温度２０乃至７０℃、酸触媒量０．０５乃至１．５重量％の条件により、水系で乳化剤を用いて体積平均粒子径が０．０１〜５μｍの粒子状に合成されることを特徴とする、粒子状ポリシロキサン化合物、並びにそれを含有する難燃性樹脂組成物。 （もっと読む）

化学基本構造：式（Ｉ）を有する、ゾル−ゲルプロセスによって製造される多分岐有機／無機ハイブリッドポリマーをベースとする光防護添加物及びその製造方法。式中、Ｒ₁〜Ｒ₄は水素、置換されていない飽和若しくは不飽和Ｃ₁〜Ｃ₂₄アルキル、置換された飽和若しくは不飽和アルキル、置換された若しくは置換されていないアリール、ハロゲン、ヒドロキシル、置換された若しくは置換されていないアミン、脂肪族若しくは芳香族カルボニル等の基の中から選択されるか、又は、Ｒ₁〜Ｒ₄は酸類、アルコール類、フェノール類、アミン類、アルデヒド類若しくはエポキシド類等の１種以上の化学組成物の縮合生成物若しくは付加生成物の中から選択される。Ｒ₁〜Ｒ₄は存在する芳香族環とともにフェニルより大きい環構造を形成する置換された若しくは置換されていない芳香族環構造を形成してもよく、Ｍ、Ｚは、酸素、窒素及び硫黄の元素中から選択される。本発明は更に、このような添加物、このような添加物を含む熱可塑性材料、並びにこれらの製品の使用に関する。
式（Ｉ）：

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