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珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にC;C、Hのみの炭化水素基 (5,052) | その次位のCが脂肪鎖(脂環)の炭化水素 (3,988) | 飽和脂肪族基、アルキル (2,917)

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本発明の化粧品組成物は、1)ポリエーテル置換された構造単位と、2)エポキシまたはオキシランの構造単位とを含有する、シリコーン共重合体、三元重合体および多元重合体を含有し、これがアクリラート種と反応して、ポリエーテル置換された構造単位とアクリラート架橋とを含有する架橋されたシリコーンを生成する。本発明の架橋された重合体は自己乳化性であり、そして水膨潤性または油膨潤性のどちらかでありうる。 (もっと読む)


【課題】β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の製造方法であって、ゲル化されていない生成物を得る製造方法を提供する。
【解決手段】β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の製造方法において、第一工程で(1)1つの第一級アミノ基を有する、SiC結合した有機基少なくとも1つを有する有機ケイ素化合物と、(2)式−O−C(=O)−で示される基を有する有機エステル化合物、有利には環状の有機カーボネート又はラクトンとを反応させ、そして第二工程で第一工程で(1)と(2)から得られた反応生成物を、引き続き(3)ジケテン又はジケテン誘導体と反応させる。 (もっと読む)


【課題】シリコーンゲルの耐フラックス性を向上させる方法及び該方法に用いる耐フラックス性シリコーンゲル組成物の提供。
【解決手段】(A)ジオルガノビニルシロキシ末端封鎖オルガノポリシロキサン、(B)非官能性オルガノポリシロキサン、(C)1分子中に平均3個以上のケイ素原子結合の水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び(D)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなり、半田フラックスが存在する箇所に適用し硬化させるのに用いられる硬化性シリコーンゲル組成物。該組成物を使用するシリコーンゲルの耐半田性向上方法、及び耐半田性に優れるシリコーンゲルの形成方法。 (もっと読む)


【課題】透明であり、耐光性に優れ、しかも厚膜成形が可能な封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、エチルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明であり、耐光性に優れた封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、フェニルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、同一の又は異なる(有機)ケイ素化合物Pが有する少なくとも1個の≡SiOH単位と少なくとも1個の≡SiOR単位(ここで、Rは水素又は随意に1個以上のヘテロ原子を有するC1〜C20炭化水素基である)とを有効量の少なくとも1種の触媒Cの存在下で縮合させる方法であって、前記触媒Cがカルベンであることを特徴とする、前記方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、他の性質を低減させずに、架橋密度および弾性率が減少したコンタクトレンズおよび/または生物医学用具が得られる、2つの重合性ビニル部分の代わりに1つの重合性ビニル部分を持つ親水性ジカチオンシロキサンプレポリマーに関する。 (もっと読む)


【課題】比誘電率が低く、かつ、CMP耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物と、(B)下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物を、(C)塩基性化合物の存在下で共縮合することを含む。
【化1】


・・・・・(1) (もっと読む)


【課題】新規なSi含有膜形成材料、殊にPECVD装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるSi含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物(具体的例示:2,4,6−トリシクロプロピル−2,4,6−トリメチルシクロトリシロキサン)を含有するSi含有膜形成材料を用いてPECVD法によりSi含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 (もっと読む)


【課題】吸湿性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができる絶縁膜形成用組成物、ポリマーおよびその製造方法、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のシランモノマーと、(B)加水分解性基含有カルボシランとを共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。
【化1】


・・・・・(1) (もっと読む)


【課題】水吸着性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のシランモノマーと、(B)加水分解性基含有シランモノマーと、(C)加水分解性基含有カルボシランとを、塩基性触媒の存在下で共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。
【化1】


・・・・・(1) (もっと読む)


【課題】誘電率やヤング率等の膜特性の観点において優れた絶縁膜を得るための膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物および/またはその重合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜およびその製造方法。
【化1】


一般式(I)中、R1はそれぞれ独立して、同一でも異なっていてもよく、R1のうち2〜4個が重合可能な基を表し、その他のR1はアルキル基またはシクロアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】幅広い紫外線領域で硬化性、深部硬化性が良好な紫外線硬化型オルガノポリシロキサンゲル組成物及び光ピックアップ用ダンピング材を提供。
【解決手段】(A)(A-1)式(I):
【化1】


〔ここで、Rは水素原子またはメチル基、R〜Rは水素原子または非置換もしくは置換の一価炭化水素基であり、aは1−3の整数、bは1または2の整数である〕
の基を有するオルガノポリシロキサン、または該オルガノポリシロキサンと(A-2)式(I)の基を有しないオルガノポリシロキサンとの混合物からなり、(A)成分のオルガノポリシロキサン1分子当りの式(I)の基の平均数が0.3〜1.6個であるオルガノポリシロキサン 100質量部、および
(B) 光開始剤 0.01〜10質量部
を含有してなることを特徴とする紫外線硬化型ゲル組成物、及びその硬化物からなる光ピックアップ用ダンピング材。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難くまた吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】次のかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応した部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。
(ARSiOSiO1.5(BRSiOSiO1.5(HOSiO1.5m−n−s
(RHSiOSiO1.5(ERSiOSiO1.5(HOSiO1.5p−q−r
(Aは炭素−炭素不飽和結合を有する鎖状炭化水素基、B及びEは飽和アルキル基あるいは水酸基、R,R,R,R,R,R,R,Rはメチル基又はフェニル基等、m及びqは6,8,10,12から選ばれた数、nは2〜mの整数、qは2〜pの整数、rは0〜p−qの整数、sは0〜m−n) (もっと読む)


その分子中に少なくとも2個のSiH含有シクロシロキサン環を有する有機水素シロキサン、その分子中に少なくとも2個の脂肪族不飽和基を有する化合物または化合物の混合物、およびヒドロシリル化触媒の反応からのシリコーンポリエーテルエラストマーを含有するゲル組成物が開示される。該シリコーンポリエーテルエラストマー反応生成物は、それ自体がゲル組成物である場合があり、または場合によっては、分散媒中に含有されゲルを形成することができる。該ゲル組成物は、パーソナルまたはヘルスケア活性剤をさらに含むことができる。 (もっと読む)


【課題】発光素子封止剤等、特に透明性が求められる用途に用いることが可能な優れた色調を有すると共に、保存安定性が改善された変性シリコーンを、工業的に効率よく、安定的に、再現性よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】
ヒドロシリル化触媒および溶媒の存在下において、オルガノハイドロジェンシリコーン中のSiH単位とビニル化合物とをヒドロシリル化反応させる変性シリコーンの製造方法において、前記ヒドロシリル化反応を完結させる前に、分子内に1個以上のビニル基を有するケイ素化合物を添加する変性シリコーンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物9を、加水分解性有機基12と、非加水分解性有機基10が同一のケイ素11に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 (もっと読む)


【課題】分散安定性および経時安定性に優れたポリオルガノシロキサンの水性コロイド分散液を、制約条件がより少ない簡易な方法によって得る。
【解決手段】本発明のポリオルガノシロキサンコロイド分散液の製造方法は、(A)一般式:RSi(OR4−a………(1)(式中、Rは置換または非置換の1価の炭化水素基を示し、Rは置換または非置換のアルキル基を示す。aは0,1,2または3である。)で表されるオルガノアルコキシシランを、酸性水中で加水分解してオルガノシラノールおよび/またはその部分縮合物の水/アルコール溶液を得る工程と、(B)前記オルガノシラノールおよび/またはその部分縮合物の水/アルコール溶液に、アニオン性界面活性剤またはPVA系分散剤の存在下でアルカリ水溶液を添加し、pH9〜12の塩基性水中で縮合反応させる工程を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】繰り返し使用しても優れた耐磨耗性を維持し得る帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】オキシアルキレン基を有するポリシロキサンと、1nm以上500nm以下の平均粒子径を有する無機微粒子とを含有する材料からなる表面層を有する帯電部材。 (もっと読む)


【課題】温度変化、湿度変化など環境変動に対する安定性の向上を図ることが可能で、光透過率の高い光学素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ7は、体積換算平均粒子径が2〜100nmである無機微粒子と有機材料からなる有機無機複合材料を成型したものであり、前記無機微粒子が、一般式Si−R(Rは非極性置換基を表す。)で表される有機官能基を、少なくとも粒子中心部に有する。 (もっと読む)


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