【課題】 レーザー発光量が十分に高く且つ十分に長寿命の色素レーザーを提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｘは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Ｒ^１は低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Ｒ^２は低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する色素レーザー素子と、励起用光源と、共振機とを備えることを特徴とする色素レーザー。 （もっと読む）

【課題】
ＡｒＦ露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
（Ａ）オキセタニル基を含有するシルセスキオキサン単位、（Ｂ）炭化水素基を含有するシルセスキオキサン単位を含むことを特徴とするシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】低屈折率且つ高硬度なシリケート成分を含むコーティング層が形成され、下層となる層との密着力に優れ、良好な耐擦傷性を有する反射防止積層体を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基材フィルムの一面側に他の層を介して内部にナノポーラス構造を有する低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、前記ナノポーラス構造を有する低屈折率組成物が、少なくとも、（Ａ）１分子中に３個以上の電離放射線で硬化する官能基を有するモノマーと、（Ｂ）シリケート化合物とを含有するバインダー成分、および、（Ｃ）塗工液に調製するための液状媒体中に分散させることが可能で且つ平均粒子径５ｎｍ〜３００ｎｍの微粒子を含み、該他の層が、水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接接合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含むことを特徴とする反射防止積層体。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率で機械的強度の高い絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２つ以上のアセチレン基を持つ下記一般式（３）で表される化合物（Ａ）と、少なくとも２つ以上のヒドロシリル基をもつポリシロキサン（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とするポリマー。
【化１】


一般式（３）中、
Ｒ^４は、炭素原子１０個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基を表す。
Ｒ^５は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはシリル基を表す。
ｒは２〜２０の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化が少なく、耐湿性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ基含有アルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂（Ａ）、；一般式（３）で表されるエポキシ樹脂の芳香環を核水素化して得られる水素化エポキシ樹脂（Ｂ）、


（式中、Ｒ^５は同一であっても異なっていてもよく水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは１〜４の整数、ｎは平均値で１〜６の正数を示す。）；及びカチオン重合開始剤（Ｃ）を含有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化が少なく、耐湿性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ基含有アルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂（Ａ）、一般式（３）で表されるエポキシ樹脂の芳香環を核水素化して得られる水素化エポキシ樹脂（Ｂ）、


硬化剤（Ｃ）及び硬化促進剤（Ｄ）を含有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】重合体が有機溶媒可溶性及び良好な成膜性を有し、かつ成膜後に焼成した膜が有機溶媒に不溶であり、かつ耐クラック性を満たすようなかご状シルセスキオキサン重合体を提供すること。
【解決手段】本発明のかご状シルセスキオキサン重合体は、かご状シルセスキオキサン構造が少なくとも２箇所で他のかご状シルセスキオキサン構造と結合しているシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造は、環状構造を含む官能基を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐ＵＶ性、耐熱衝撃性に優れた、光素子に好適なトランスファー成形封止用組成物を提供する。
【解決手段】Ｒ_１Ｓｉ（ＯＲ）_３（複数のＲは各々独立してメチル基またはエチル基を、Ｒ１はアルキル基、又は、フェニル基を表す。）で表されるトリアルコキシシラン（Ａ）と、Ｒ_２Ｓｉ（ＯＲ）_３（複数のＲは各々独立してメチル基またはエチル基を、Ｒ２は反応性環状エーテル基を含有する置換基を表す。）で表されるトリアルコキシシラン（Ｂ）とを共加水分解、共縮合することによって得られるラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体、及び硬化剤からなりＢステージ化されてなる光半導体封止用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 エンジニアリングプラスチックなどの樹脂の溶融成形における流動性を向上又は改善する。
【解決手段】 樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（チオ）エーテル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリイミド系樹脂、超高分子量ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱可塑性樹脂）に、ポリシラン化合物で構成された改質剤を添加する。前記ポリシラン化合物は、例えば、ポリアルキルアリールシラン（ポリメチルフェニルシランなど）、ポリジアリールシラン（ポリジフェニルシランなど）などであってもよい。前記改質剤は、樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１〜５０重量部程度の割合で樹脂に添加できる。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）若しくはポリヘドラルオリゴメリックシリケート（ＰＯＳ）のための合成プロセスは、オレフィン基とアルキル若しくは芳香族基両方を含むシラノール及びシロキサイド分子を製造する。オレフィン担持ＰＯＳＳシラノール/シロキサイドは、更なるシラノール/シロキサイドを誘導する能力を保持しつつ、種々の化学物質に誘導体化される。 （もっと読む）

本発明は、式Ｘ_m−Ｍ−（ＯＲ）_n-mを有する少なくとも１つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

本発明は、ポリアンモニウム／ポリシロキサンコポリマー、これらの製造方法および使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐ＵＶ性に優れ、しかも、耐熱着色性に優れた光素子封止用樹脂組成物を提供する。
【解決の手段】 （Ｒ１−ＳｉＯ_３／２）_ａ−ｎ（Ｘ１−ＳｉＯ_３／２）_ｎ （Ｉ）
（Ｒ１は、炭素−炭素不飽和結合を含有する炭化水素基又はシリルオキシ基。Ｘ１は、Ｈ−Ｓｉ結合及び炭素−炭素不飽和結合を含有しない１価の有機基。ａは、６〜１４の偶数、ｎはａより小さい正の整数。）で表される炭素−炭素不飽和結合を含有する籠型構造体の液状のシルセスキオキサン（Ａ）と
（Ｒ２−ＳｉＯ_３／２）_ａ−ｎ（Ｘ２−ＳｉＯ_３／２）_ｎ （ＩＩ）
（Ｒ２は、水素原子を表すか又はＨ−Ｓｉ結合を含有する１価の有機基を表す。Ｘ２は、Ｈ−Ｓｉ結合及び炭素−炭素不飽和結合を含有しない１価の有機基。ａ及びｎは上記に同じ。）で表されるＨ−Ｓｉ結合を含有する籠型構造体の液状のシルセスキオキサン（Ｂ）とを樹脂成分として含有する光素子封止用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】より高い配向秩序を有する有機半導体膜を、より簡便且つ効率よく形成できる有機半導体装置形成用基板、この基板を用いる有機半導体装置、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成されたゲート電極と、該ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に形成された有機薄膜とを有する有機半導体装置製造用基板であって、前記有機薄膜が、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を、Ｘは水酸基等を、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜であることを特徴とする有機半導体装置製造用基板、この基板に、ソース電極、ドレイン電極、半導体膜および保護膜を有する有機半導体装置、並びにこの有機半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基の有する特徴を種々の固体に対して効果的に付与することのできる、複数個の含フッ素有機基を有し、且つ反応活性の高い新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 以下の式（I）で表される含フッ素有機基を有する完全縮合型構造シルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはハロゲン化シリル基を有する基であり、Ｒ¹は独立して炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから選ばれる基であって、いずれも、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）

【課題】 表示コントラストが高くかつ応答速度の速い液晶組成物、該液晶組成物を含む液晶素子、該液晶組成物に好適なシロキサンポリマー架橋体を提供すること。
【解決手段】 側鎖に液晶性基を有する高分子架橋体と低分子液晶の混合物に、二色性色素を溶解した液晶組成物であり、好適には、前記高分子架橋体が、側鎖に液晶性基を有するシロキサンポリマー架橋体の場合であり、印加電圧の周波数を大きくすることで該液晶組成物の誘電率異方性が正から負に変わる。更に、該液晶組成物を含有する液晶素子、並びに該液晶組成物に好適なシロキサンポリマー架橋体である。 （もっと読む）

【課題】実質的な硬化性低下を伴なうことなく、硬化物の非着色性を改善できる硬化性組成物を提供する
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（Ａ）、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）含有する硬化性組成物に、特定の亜リン酸系化合物（Ｄ）を含有させる。 （もっと読む）

一般式（１）［Ａ¹_zＲ¹_pＳｉＯ_(4-p-z)/2］（１）［式中、ｚ及びｐはそれぞれ０〜３の値にある整数を意味し、
Ａ¹は同一又は異なる、水素−、アルキル−、シクロアルキル−、アリール−又はアルコキシ残基であって、脂肪族の線状又は分枝した又は脂環式のアルキル残基又はアリールオキシ残基を有する残基を意味するか、又は、官能基を意味し、
これは１８個までのＣ原子を含有し、更に１個又は複数個の同一又は異なるヘテロ原子であって、Ｏ−、Ｓ、Ｓｉ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｐ又はＮ原子から選択されたヘテロ原子を含有することができる、
その際、
Ｒ¹は同一又は異なる、脂肪族又は脂環式のアルコキシ−、アリールオキシ又はヒドロキシ残基又は残基Ａ¹を意味する］
の繰り返し単位から構成され、少なくともＴ単位又はＱ単位又はこの両方が存在しなくてはならず、かつこの他にＭ単位及び／又はＤ単位が存在することができ、かつ少なくとも１ｐｐｍのＨＣｌを含有することにより特徴付けられるシリコーン樹脂。 （もっと読む）