ジメチコーンコポリオールポリマーをジメチコーンコポリオールマクロマーから合成する。マクロマー繰り返し単位を含有するポリマーは、柔軟性、潤滑性、固定性、耐湿性、撥水性、光沢、表面改質および界面活性剤特性をもたらすような、パーソナルケア、布地処方物および産業処方物を含む種々の用途に有用である。本発明のジメチコーンコポリオールマクロマーは、無水イタコン酸が異性化し、異性化生成物とヒドロキシ含有ジメチコーンコポリオールとがエステル化することによって得られる。 （もっと読む）

【課題】ポリシロキサン化合物とその製造方法、高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池を提供する。
【解決手段】本発明は、ポリシロキサン化合物とその製造方法、高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池に係り、さらに具体的には、スルホン酸基含有有機高分子シロキサン化合物及びこれを含む高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池に関する。スルホン酸基含有有機高分子シロキサン化合物により、液体との接触によるスウェリングを抑制して寸法安定性に優れるだけでなく、メタノールクロスオーバーを顕著に低下させる、もしくは、メタノールクロスオーバーの犠牲なしにイオン伝導度を高く維持することが可能な、優秀な性能の高分子電解質膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 硫黄やアミン等の硬化阻害を受け難く、白金触媒を不要とした安価な加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）水酸基及び／又は加水分解性基が結合した珪素原子を１分子中に少なくとも２個有するジオルガノポリシロキサンと、（Ｂ）金属錯体とを含む加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物である。 （もっと読む）

【課題】高温高湿または低温低湿環境において長期間の繰り返し使用によっても安定的な帯電特性を有し、かつ耐リーク性に優れた帯電部材を提供する。
【解決手段】支持体と、該支持体上に形成された導電性弾性層と、該導電性弾性層上に形成された表面層とを有する帯電部材において、該表面層が、オキシアルキレン基を有するポリシロキサンと、π共役系金属錯体とを含有する帯電部材である。 （もっと読む）

【課題】低誘電率で、かつ、優れた耐ストレス性と優れた耐クラック性とを有する半導体装置用絶縁膜を得ることができる絶縁膜形成用組成物、その絶縁膜形成用組成物から得られる半導体装置用絶縁膜および、その半導体装置用絶縁膜を利用して得られる高品質で信頼性の高い半導体装置を歩留まりよく提供する。
【解決手段】 本絶縁膜形成用組成物は、実質的に炭素とケイ素と水素とのみからなる鎖部分を主鎖とし、かつ、主鎖以外の部分に窒素を含有するポリマーを含んでなる。ポリマー中に、窒素が、式１で表される構造要素として存在することが好ましい。
【化１７】
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ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】(a) 高い乳化能を有し、かつ乳化重合させる不飽和モノマーと共重合する乳化剤として使用可能であり、(b) 有機溶媒にゴムを良好に溶解又は分散させる可溶化剤として使用可能であり、(c) 重合すると高い導電性を有する樹脂となるリン系酸エステル残基含有（メタ）アクリルアミド組成物、それを用いた重合体及びその用途、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】N-置換されていてもよい（メタ）アクリルアミド系単量体にリン系酸残基を導入し、得られたリン系酸残基含有（メタ）アクリルアミドにアルコール性水酸基含有化合物を反応させると、乳化重合させる不飽和モノマーと共重合する乳化剤として好適であり、有機溶媒にゴムを良好に溶解又は分散させる可溶化剤として好適であり、かつ重合すると高い導電性及び耐酸化性を有する樹脂となるリン系酸エステル残基含有（メタ）アクリルアミド組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】有機修飾シロキサンの調製方法の提供。
【解決手段】シロキサンを末端不飽和エステルでヒドロシリル化することにより、有機エステルで修飾されたシロキサンを調製する方法、触媒として、加水分解酵素群からの、リパーゼ、エステラーゼ、またはプロテアーゼ、好ましくはリパーゼ、より好ましくはカンジダ アンタークチカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼＢである酵素が使用され、末端不飽和エステルを調製する方法。 （もっと読む）

【課題】 新規な含フッ素オルガノポリシロキサン、およびその製造方法を提供することにあり、また、本発明の他の目的は、このような含フッ素オルガノポリシロキサンを含有し、均質で透明性を有し、表面潤滑性に優れた皮膜を形成する有機ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：
【化１】


｛式中、Ｒ¹はフッ素原子含有有機基もしくはフッ素原子を有さない一価炭化水素基、但し、少なくとも１個のＲ¹はフッ素原子含有有機基、Ｚは、前記Ｒ¹、一般式(Ｉ)：−[Ｒ²−(ＳiＲ¹₂)_a]_b−Ｑ（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｒ²はアルキレン基、Ｑはポリスチレン系残基、ａは０または１であり、ｂは０または１である）で表される基、水酸基、水素原子、およびアルコキシ基からなる群より選択される基、但し、Ｚの少なくとも一つは前記一般式(Ｉ)で表される基、ｍは１以上の整数である｝で表される含フッ素オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有ポリマーおよびそのポリマーから形成される光導波路の提供。
【解決手段】式Ｓｉ（ＯＲ^１）_３の第一反応物質および式Ｒ^２Ｏ（Ｒ^３_２Ｓｉ−Ｏ）_ＸＯＲ^４の第二反応物を含むケイ素含有反応物質の縮合生成物を含むポリマーが提供される。また、光導波路の形成において使用するのに好適な当該ポリマーを含む組成物、並びに当該ポリマーから形成される光導波路も提供される。これらのポリマー、組成物および光導波路は、電気的および光学的機能性を有するプリント配線基板の形成における特定の用途を有している。 （もっと読む）

【課題】硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】上記課題は、不飽和エラストマーと反応できる、化学的に保護された硫黄基を含む、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを含んでなる組成物により解決する。特定の条件下で、硫黄基は、不飽和エラストマーと反応してもよい。前記硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンが更にフィラー表面とカップリングできる官能基を含むことが好ましい。本発明は、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを製造・使用する方法に関する実施形態を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ポッティング成型が可能であり、無色透明で耐久性に優れ、しかも、はんだリフローやヒートサイクルに対してクラックを生じにくい光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ当量が１５０〜６００ｇ／モルでありかつガラス転移温度が−８０℃〜１５０℃であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンおよび（Ｂ）エポキシ当量が６００ｇ／モルを超えそして１，６００ｇ／モル以下でありかつガラス転移温度が−５０℃以下であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを含有する光半導体封止用組成物。 （もっと読む）

【課題】
有機溶媒との相溶性が高く、また、シラノール基が極めて少なく、分子量分布が狭い低分子ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法の提供。
【解決手段】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜２０，０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜３．０の範囲で占められ、式〔１〕及び式〔２〕
で表される繰り返し単位、並びに式〔３〕で表される末端基を有し、上記式〔１〕中の３つの酸素原子が結合したケイ素原子が７０ｍｏｌ％以上、上記式〔２〕中の２つの酸素原子と１つの水酸基が結合したケイ素原子が３０ｍｏｌ％以下であり、上記式〔３〕中の１つの酸素原子と２つの水酸基が結合したケイ素原子が１ｍｏｌ％以下で構成されてなることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサン。 （もっと読む）

分岐ポリグリコール及び分岐ポリエーテル官能性有機ポリシロキサン、ヒドロシリル化反応によって有機水素シロキサンと不飽和基を有する分岐ポリグリコールを反応させることによる分岐ポリエーテル官能性有機ポリシロキサンの製造方法、並びに分岐ポリエーテル官能性有機ポリシロキサン及びバインダーを含む被覆組成物が開示される。これらの組成物から得られる被覆は、類似しているが非分岐のポリエーテル官能性有機ポリシロキサンを含む被覆と比較して、より親水性であり、改良された汚れ除去特性を有していた。 （もっと読む）

室温硬化性ポリマーを作製する方法。反応物質は、シロキサン末端ポリマー及びシラノールを含む。反応物質を混合し、重合を、空気中で室温で進行させる。このポリマーにより、１種又は複数の治療化合物が得られる。このように、制御薬物放出（局所又は全身送達のため）がなされることが望ましい医療機器を、治療化合物を含有する本発明のポリマーでコーティングすることができる。好ましい実施形態では、ポリ（ＭＰＣ_ｗ：ＬＡＭ_ｘ：ＨＰＭＡ_ｙ：ＴＳＭＡ_ｚ）ポリマー（但しｗ、ｘ、ｙ及びｚは、このポリマーを調製するための供給材料に使用されるモノマーのモル比を表し；ＭＰＣは、２−メタクリオイルオキシエチルホスホリルコリン単位を表し；ＬＭＡは、メタクリル酸ラウリル単位を表し、ＨＭＰＡは、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル単位を表し、ＴＳＭＡは、メタクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル単位を表す。）を、ポリジメチルシロキサンと反応させる。別の好ましい実施形態では、デキサメタゾンなどの治療化合物をポリマーに組み込む。 （もっと読む）

【課題】ゼータ電位を任意の値に制御し得る、電気泳動を利用した表示素子に使用する表示用粒子として有用なアンモニウムシラン変性ケイ素含有微粒子、該微粒子を含む表示液及びその表示液を使用した電気泳動型表示素子を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有微粒子と、たとえばオクタデシルジメチル（３−トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライドとを反応させて得られたアンモニウムシラン変性ケイ素含有微粒子。これを用いた電気泳動表示装置用表示液及びそれを含む電気泳動型表示素子。 （もっと読む）

【課題】ポッティング成型が可能であり、無色透明で耐久性に優れ、しかも、はんだリフローやヒートサイクルに対してクラックを生じにくい光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ当量が１５０〜６００ｇ／モルでありかつガラス転移温度が−８０℃〜１５０℃であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンおよび（Ｂ）エポキシ当量が６００ｇ／モルを超えそして１，６００ｇ／モル以下でありかつガラス転移温度が−５０℃以下であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンならびに（Ｃ）シクロヘキサントリカルボン酸および／またはその無水物を含有する光半導体封止用組成物。 （もっと読む）

ポリジオルガノシロキサンポリオキサミド、線状、ブロックコポリマー類及び当該コポリマー類の製造方法を提供する。前記コポリマー類の製造方法は、ジアミンをオキサリルアミノ基を有するポリジオルガノシロキサン前駆体と反応させることを伴う。前記ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドブロックコポリマー類は、（ＡＢ）_ｎ型である。 （もっと読む）

コンポジットフィルムは、第１フィルム及び当該第１フィルムに近接した第２フィルムを包含する。第１フィルムは、光透過材料を包含する。一実施形態では、第２フィルムは、ポリジオルガノシロキサンポリアミドブロックコポリマーを包含する。別の実施形態では、第２フィルムは、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドブロックコポリマーを包含する。
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