アミノ官能性シロキサンポリマーの粘度を安定化する方法であって、前記アミノ官能性シロキサンポリマー又は前記アミノ官能性シロキサンポリマーが生成する試薬にジアルコキシジアルキルシランを添加することを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 繊維の表面に耐久性の高い撥水性、なめらかさ、ソフトな風合いと共に吸湿性を付与する繊維の表面処理方法を提供する。
【解決手段】 ケイ素原子に直結する水酸基を２個有するシリル化ペプチドの１種以上と、加水分解によってケイ素原子に直結する水酸基が２個以上生じるシラン化合物の１種以上とを水溶液中で縮重合させて得られるシリル化ペプチド−シラン化合物共重合組成物を繊維の表面に結合させる。シリル化ペプチド−シラン化合物共重合組成物としては、反応モル比がシリル化ペプチド：シラン化合物＝１：１０〜１：１００の範囲で水溶液中で縮重合させることにより得られ、固形分濃度が７０％の時の２０℃における粘度が５００〜２０，０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあるシリル化ペプチド−シラン化合物共重合組成物が好ましい。


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【課題】一方を他方の上に連続的に塗布する2種の組成物を含む化粧用製品、具体的にはメークアップ製品を提供する。
【解決手段】本発明は、第1および第2の組成物を含む化粧用製品であって、第1の組成物が特定のシリコーンポリマーを含みかつ、第2の組成物が化粧品として許容できる媒体を含む化粧用製品に関する。本発明はまた、前記製品を含むメークアップ方法およびメークアップキットにも関する。この製品は、具体的にはリップスティック、マスカラまたはネイルエナメルである。 （もっと読む）

【課題】白金を用いることなくボラジン系モノマーとシロキサン系モノマーとを共重合させる方法を提供することを主たる課題とする。
【解決手段】第１のソースタンクにボラジン系化合物を装填し、第２のソースタンクにケイ素系化合物を装填し、これらの化合物を出発物質として、プラズマ重合法により絶縁膜を形成する。この場合において、前記第１及び第２のソースタンクから前記プラズマ重合法を実施する成膜装置に至る配管経路の一部又は全部に加熱手段を設けると共に、成膜装置に近づくほど高温となるように温度勾配を設けておくことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率でしかも機械的強度の高く、平坦性の高い絶縁膜を形成できる有機無機複合体、その製造方法およびその複合体を用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】 金属−酸素結合による架橋構造を有する有機無機複合体において、下記一般式（１）で示される化合物を有することを特徴とする有機無機複合体。


式中、Ｍは金属又はシリコン、Ｘは架橋に関与する−Ｏ−結合又はＯＨ基であり、Ｒ¹は炭素数８〜２０の炭素原子含有分子鎖基であり、Ｒ²はメチル、エチル、プロピル、又はフェニル基のいずれかの基を表し、ｎ１、ｎ２は０、１、または２のいずれかである。 （もっと読む）

【課題】 新規なポリオレフィン含有ポリシロキサンおよびその用途を提供すること。
【解決手段】 少なくとも下記一般式（１）


（１）
（式中、Ａは、炭素数２〜２０のオレフィンの重合体であり、重量平均分子量が４００〜５０００００のものを表し、Ｒは水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。）を含むポリシロキサン化合物、
並びに、その重合体を含む化粧料。 （もっと読む）

【課題】エポキシシリカハイブリッド体を用いた反応性シリコーン組成物であって、従来のシリコーン化合物よりも安定性に優れる反応性シリコーン組成物の提供。
【解決手段】エポキシ基および／または酸無水物基を有するアルコキシシランを６０モル％以上含む加水分解性ケイ素含有基含有化合物に、加水分解縮合をさせ、生成したアルコールをエポキシ基含有化合物の存在下で留去させて得られる、エポキシ基および／または酸無水物基を有する反応性シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウェハー、ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ或いはレンズなどの基体上に、透明であって、しかも、低反射率で且つ低誘電率であるとともに、械的強度や基板に対する密着性に優れた薄膜を形成するための膜形成用組成物及び膜の形成方法に関する。
【解決手段】 粒子表面に存在するシラノール基が、疎水性基を有する表面改質剤で処理されたシリカ粒子と、ポリシラン化合物とを含有することを特徴とする膜形成用組成物とする。また、この膜形成用組成物を、基体上に塗布した後に、熱処理及び／又は光処理することを特徴とする膜形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】 酸やアルカリの存在下でも加水分解性の乏しい連結基でタウリン残基を結合した新規なタウリン変性オルガノポリシロキサン、およびこのような新規なタウリン変性オルガノポリシロキサンを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 オルガノポリシロキサン中のケイ素原子にタウリン残基を少なくとも１個結合するタウリン変性オルガノポリシロキサン、および（Ａ）タウリン、分子中の窒素原子結合水素原子１個を炭素数１〜４０の一価炭化水素基で置換したタウリン誘導体、またはこれらの塩と、（Ｂ）エポキシ基含有オルガノポリシロキサンとを反応させることを特徴とする、オルガノポリシロキサン中のケイ素原子にタウリン残基を少なくとも１個結合するタウリン変性オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】総合的な画像品質を改良することによって、定着器部材の寿命を延ばすような、定着器離型剤を提供する。
【解決手段】基材１と、外側ポリマー層３と、前記外側ポリマー層の上の離型剤物質コーティングと、を含み、前記離型剤物質コーティングは、アミノ−官能基を有するＴ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質を含み、前記Ｔ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質は、次の化学式で表される。
【化１】


化学式中、Ｒ_３は、好ましくは、ジオルガノシロキサン基以外のものである。Ｔ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質は、アミノプロピルメチルシロキシ基、またはＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシロキシ基によって与えられるアミノ官能性を有してもよい。また、Ｔ−タイプのアミノ官能性シロキサン離型剤物質は、トリアルキルシロキシ末端基を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】低粘度、低応力性、密着性に優れた硬化物を与え、半導体封止材、アンダーフィル材等の電気・電子デバイス材料に適するエポキシ化合物及び熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物と、一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、加水分解縮合させることにより得られるエポキシ化合物。
ＸＳｉ（ＯＲ^１）_３ （１）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）
Ｘ_ａＲ^２_２−ａＳｉ（ＯＲ^３）_２（２）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^２はＣ１〜Ｃ１０のアルキル基等を、また、ａは０または１の整数を表す。）
本発明の熱硬化性樹脂組成物は上記エポキシ化合物と硬化剤を含有する。 （もっと読む）

直鎖ポリシロキサン、及びより詳細にはＮ−カルバゾリルアルキル基及び（ジアリールアミノ）フェニル基を含有する直鎖ポリシロキサン。また、本発明は、直鎖ポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、及び直鎖ポリシロキサン又は硬化ポリシロキサンを含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）に関する。
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個別被覆ナノ構造の製造用リガンド組成物と、被覆ナノ構造自体及び前記ナノ構造を含むデバイスを提供する。ナノ構造上の堆積後シェル形成方法及びナノ構造の可逆的変性方法も提供する。本発明のリガンド及び被覆ナノ構造は細密充填ナノ構造組成物に特に有用であり、量子閉じ込めの改善及び／又はナノ構造間のクロストーク低減を図ることができる。 （もっと読む）

アルコキシシラン又はシロキサンとオルガノヒドロシラン又はシロキサンとの新規なシリコーン縮合反応及びそのための触媒が記載され権利請求される。 （もっと読む）

第１の方法において、分岐ポリシランは、ウルツ型カップリング反応によってジハロシランとトリハロシランとの混合物をアルカリ金属カップリング剤と有機系液体媒質中で反応させることにより調製される。反応混合物はテトラハロシランを含まない。分岐ポリシランを反応混合物から回収する。第２の方法において、キャップされた分岐ポリシランは、上記と同じウルツ型カップリング反応によって調製され、反応混合物へのキャップ剤の添加を伴う。キャップ剤は、モノハロシラン、モノアルコキシシラン又はトリアルコキシシランであることができる。キャップされた分岐ポリシランを反応混合物から回収する。分岐ポリシランは、有機系液体媒質に可溶性である。 （もっと読む）

２−ピロリドン−４カルボキシル置換ポリシロキサンの性質は、シロキサンのカルボキシル置換ピロリドンモノマーの存在量を増加させることによって、劇的に変化し、前記変化は、アミドポリシロキサンが約３００〜３，０００ダルトンの重さおよび平均分子量で１，０００〜６０，０００ダルトン相当の酸を有すると、洗剤と水への溶解度が高まり、油中水型エマルジョンを形成する能力を持ち、したがって、高められた電解性およびシリコーンおよび/又は炭化水素との親和性およびクリーニング特性を有する広範な配合物での有用性を与える。 （もっと読む）

ポリカルボシラン官能性付加支持体は、表面オキシド基または表面ヒドロキシル基を包含する表面を有する支持体と、それに共有結合したポリカルボシラン層を含むことができる。該ポリカルボシラン層は、連続ポリカルボシラン基のウェブを包含することができ、ここで、該ポリカルボシラン基の炭素結合シラン部分はアルキレン部分である。場合により、追加の一つまたは複数のポリカルボシラン層を、該ポリカルボシラン層に適用することができる。 （もっと読む）

本発明のポリマーの製造方法は、１種以上の（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランのうち少なくとも１種が、以下のポリカルボシラン（Ｉ）である。
（Ｉ）下記一般式（１）で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量５００以上のポリカルボシラン（Ｉ）：
Ｒ^１_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^２_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

例えば半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜を提供する。
本発明のポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランが、以下のポリマー（Ｉ）である。
（Ｉ）（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種とを、有機溶媒中でアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下にて反応させて得られるポリマー（Ｉ）：
Ｒ^１_ｋＣＸ_４−ｋ ・・・・・（１）
Ｒ^２_ｋＳｉＹ_４−ｋ ・・・・・（２）
Ｒ^３_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^４_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（３）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。
Ｓｉ（ＯＲ）₄で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ¹Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ²ＣＨ₂ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０〜１８０℃で加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０〜４５０℃で熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。 （もっと読む）