【課題】分枝したおよび架橋したオルガノポリシランの濾過可能性を改善すること。
【解決手段】 前記課題はハロゲンシラン（Ｐ）をアルカリ金属およびアルカリ土類金属から選択される元素金属と反応させ、この際、この反応混合物を反応の終了直後に少なくとも５０℃で、少なくとも３０秒間、ポリケイ酸、ケイ酸塩およびアルミノケイ酸塩から選択される鉱物（Ｍ）で処理する、架橋または分枝したオルガノポリシラン（Ｐ）の製法により解決する。 （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）官能基を有するシラン化合物と、（Ｂ）ケトン系溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】
高分子材料改質剤や化粧品原料等として有用な、ポリシロキサン架橋構造体から成る新規の有機シリコーン微粒子を提供する。
【解決手段】
ポリシロキサン架橋構造体から成る有機シリコーン微粒子を、全体として円形リング形状を呈し、外径の平均値が０．０５〜１５μｍ、内径の平均値が０．０１〜１０μｍ、且つ外径の平均値と内径の平均値との差が０．０４〜５μｍの範囲内にあるものとした。 （もっと読む）

【課題】 安定性が良好なオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び平衡化反応時間の短いオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）環状オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）両末端ヒドロキシル基封鎖ジオルガノポリシロキサン、
（Ｃ）両末端トリアルキルシロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサン
を含有し、（Ａ），（Ｂ）成分の割合が質量比で（Ａ）／（Ｂ）＝１０／９０〜８０／２０、（Ｃ）成分の配合量が（Ａ），（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０．０５〜５質量部、２５℃の粘度が５０ｍｍ²／ｓ以下であるポリシロキサン混合物を乳化重合してなるオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び上記ポリシロキサン混合物を（Ｄ）界面活性剤を添加した（Ｅ）水中に乳化分散させ、このエマルジョン中で上記ポリシロキサン混合物を酸性又はアルカリ性触媒の存在下で重合するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）：リン原子と窒素原子との両方を含有する化合物よりなる群の中から選択されたガス発生剤又はリン含有化合物と窒素含有化合物との混合物からなるガス発生剤と、
（Ｂ）：（ｉ）式（１）
（Ｒ¹）_a（ＯＲ²）_bＳｉＯ_(4-a-b)/2 （１）
（Ｒ¹はアルキル基、Ｒ²はアルキル基、ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３、０．９＜ａ＋ｂ≦４）
で示される有機ケイ素化合物と、
（ｉｉ）式（２）
Ｒ³Ｒ⁴ＮＲ⁵−ＳｉＲ⁶_n（ＯＲ²）_3-n （２）
（Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ⁵は２価炭化水素基、Ｒ⁶はアルキル基、ｎは０又は１）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物と
を有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
からなる難燃性添加剤。
【効果】 本発明の難燃性添加剤は、熱可塑性樹脂などに使用した場合に、優れた耐吸湿性、分散性を有するものである。 （もっと読む）

【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 （Ａ）ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有するポリカルボシラン化合物と、（Ｂ）有機溶媒とを含む表面疎水化用組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化の少ない光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士、または一般式（１）と一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂、ＸＳｉ（Ｒ₁）_n（ＯＲ₂）_3-n （１）（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₁はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又はＣ２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ₂はＣ１〜４のアルキル基を示す。nは０〜２の整数。）Ｘ_k（Ｒ₃）_mＳｉ（ＯＲ₄）_4-(k+m) （２）（式中、Ｒ₃はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を表す。k、mは０〜３の整数、且つk+mは０〜３。Ｒ₄はＣ１〜４のアルキル基を表す。）（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤を含有することを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】 シラノール部位を有するかご状オリゴシロキサンと下記一般式（１）で表されるオルガノアシロキシシランとを反応させることを特徴とするかご状オリゴシロキサンの修飾方法。
【化１】


（式中、Ｒ¹は置換又は非置換の炭素数１〜４０の１価炭化水素基あるいは水素原子であり、同一分子における複数のＲ¹は互いに異なっていてもよい。Ｒ²は置換又は非置換の炭素数１〜２０の１価炭化水素基を表す。ｎは０〜３の整数を表す。）
【効果】 本発明の方法により、かご状オリゴシロキサンの修飾を温和な条件下で行うことができるため副反応が抑制され、高収率である。また、様々な官能基を導入することができるため汎用性が高く、副生成物が少なく、反応の後処理が簡便である。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表されるかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子を含有する炭素数１〜４０の重合性基を表す。Ｒ¹は同一でも異なってもよく、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜２０のオルガノキシ基、ハロゲン原子の中から選ばれる基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４０の非重合性一価炭化水素基を表し、同一ケイ素原子に結合したＲは互いに同一でも異なっていてもよい。）
【効果】 本発明により、溶媒や他の重合性モノマーとの相溶性を改善した新規なかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法が提供される。また本発明の製造方法によれば、かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマーが一段階で高純度かつ高収率で得られる。 （もっと読む）

加水分解反応器、ＨＣｌ精製器、洗浄手段、及び分離器を有するループシステムにおいて、クロロシランが加水分解されて加水分解物にされる。方法のステップは、（ｉ）外部供給源から加水分解反応器へクロロシランを供給すること、（ｉｉ）外部供給源から洗浄手段へ水を供給すること、（ｉｉｉ）少なくとも１０重量パーセントのＨＣｌである高濃度塩酸を、洗浄手段と加水分解反応器との間で、外部供給源から加水分解反応器へ供給すること、（ｉｖ）無水塩化水素をＨＣｌ精製器から除去すること、（ｖ）加水分解物を洗浄手段から除去すること、及び（ｖｉ）０．１重量パーセントから１０重量パーセント未満のＨＣｌである低濃度塩酸をループシステムから除去することを含む。
（もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化の少ない光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士、または一般式（１）と一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂。
ＸＳｉ（Ｒ₁）_n（ＯＲ₂）_3-n （１）
（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₁はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又はＣ２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ₂はＣ１〜４のアルキル基を示す。nは０〜２の整数を示す。）
Ｘ_k（Ｒ₃）_mＳｉ（ＯＲ₄）_4-(k+m) （２）
（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₃はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を表す。k、mは０〜３の整数を示し、且つk+mは０〜３である。Ｒ₄はＣ１〜４のアルキル基を表す。）
及び（Ｂ）カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、式Ｒ^１_ａＲ^２_ｂＲ^３_ｃＲ^４_ｄＲ^５_ｅＲ^６_ｆＲ^７_ｇＲ^８_ｈＳｉ_８Ｏ_１２（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８＝同じ又は異なり、置換された又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基又は水素；ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＝８）及び構造１の完全に縮合したオリゴマーのシルセスキオキサンの製造方法、並び完全には縮合していないシルセスキオキサン、官能化されたシルセスキオキサン、触媒及び前記触媒の出発化合物の合成のための並びにポリマーの合成及び改質のための、前記シルセスキオキサンの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】白金系、スズ系などの金属系の硬化触媒を使用することなく、球状のシリコーンエラストマー微粒子を製造する方法を提供。また、経時的に臭気を発生させない化粧料を提供。
【解決手段】本発明の球状シリコーンエラストマー微粒子は、シリコーンエラストマーを主成分とする平均粒子径が０．１〜５００μｍの球状微粒子である。この微粒子の製造方法は、（ａ）１分子中に少なくとも２個のシラノール基を有するポリオルガノシロキサンと、（ｂ）一般式：Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３で表されるオルガノトリアルコキシシランとを、金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて得られた架橋性ポリオルガノシロキサンを、（ｃ）界面活性剤の存在下に水中に乳化し、かつ金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて架橋する。本発明の化粧料は、（Ａ）球状シリコーンエラストマー微粒子と、（Ｂ）ポリエーテル化合物、および（Ｃ）水を含有する。 （もっと読む）

オキサホスフォリン化合物の性能が付与された、新規なリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物、特にポリエステル樹脂またはポリカーボネート樹脂組成物や、コーティング用組成物であって、分子中に、ケイ素原子に結合した下記一般式（１）で表されるリン含有基（Ｘ基）を有することを特徴とするリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物やコーティング用組成物などが提供される。
一般式（１）：

（もっと読む）

【化１】


式（Ｉ）のヒドロカルビルシリル不飽和カルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでｎは０〜１０００のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。この方法は式（ＩＩ）の不飽和カルボン酸と式（ＩＩＩ）のヒドロカルビルシリル化合物との反応を包含し、該反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
（もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：下記一般式（８）；
ＳｉＸ_４ …（８）
（式中、Ｘは加水分解性基を示す。）
で表される化合物、一般式（８）で表される化合物の多量体、及び／又は一般式（８）で表される化合物の部分縮合物を必須成分として加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び
（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【課題】 速硬化性、接着性に優れ、かつ流動性、粘度安定性、保存安定性の良好な室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（１）〜（４）で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる１種又は２種以上：１００質量部、
【化１】


〔Ｒはメチル基又はエチル基、Ｒ¹は一価炭化水素基、Ｙはアルキレン基、Ｚはアルケニル基、ｐは１０以上の整数、ｑは１以上の整数、ｎは０又は１、Ｒ²は下記式
【化２】


（Ｒ、Ｒ¹、Ｙ、ｎは上記の通り）で示される加水分解性基を含む分岐鎖。〕
（Ｂ）（ｉ）チタンキレート触媒及び／又は下記一般式（５）
【化３】


（Ｒ³は一価炭化水素基）
で示されるオルガノキシチタンと、（ｉｉ）シランカップリング剤とを混合し、熟成を施してなる熟成触媒：０．５〜１５質量部
を必須成分としてなることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）