【課題】紫外光においても劣化の少ない光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士、または一般式（１）と一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂、ＸＳｉ（Ｒ₁）_n（ＯＲ₂）_3-n （１）（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₁はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又はＣ２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ₂はＣ１〜４のアルキル基を示す。nは０〜２の整数。）Ｘ_k（Ｒ₃）_mＳｉ（ＯＲ₄）_4-(k+m) （２）（式中、Ｒ₃はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を表す。k、mは０〜３の整数、且つk+mは０〜３。Ｒ₄はＣ１〜４のアルキル基を表す。）（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤を含有することを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体基板に対する密着性が高い絶縁膜を形成し得る絶縁膜形成用塗布液を提供すること。ほか
【解決手段】 以下の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有する絶縁膜形成用塗布液。ほか
成分（Ａ）：非極性であり、かつ分子内に炭素−炭素二重結合を２個以上有するか、炭素−炭素三重結合を２個以上有するか、もしくは炭素−炭素二重結合を少なくとも１個と炭素−炭素三重結合を少なくとも１個有する熱反応性化合物、または該熱反応性化合物を重合して得られるポリマー。
成分（Ｂ）：式（１）〜（３）で示されるシラン化合物からなる群から選ばれる化合物を重縮合して得られる重合体。


（式中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ³はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ⁴はアルキル基、アシル基またはアリール基を表し、Ｘは２価の基を表し、ｍは２または３を表す。） （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化の少ない光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士、または一般式（１）と一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂。
ＸＳｉ（Ｒ₁）_n（ＯＲ₂）_3-n （１）
（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₁はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又はＣ２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ₂はＣ１〜４のアルキル基を示す。nは０〜２の整数を示す。）
Ｘ_k（Ｒ₃）_mＳｉ（ＯＲ₄）_4-(k+m) （２）
（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₃はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を表す。k、mは０〜３の整数を示し、且つk+mは０〜３である。Ｒ₄はＣ１〜４のアルキル基を表す。）
及び（Ｂ）カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

固体樹脂に対して弗素含有率約５〜７５質量％を有する、多孔質及び非孔質基材の永久的表面処理のための液状弗素含有組成物が記載されており、これは、差し当たりａ）ペルフルオロアルキル−成分（Ａ）を製造し、ｂ）反応の前、間及び後に、工程ａ）からのペルフルオロアルキル−成分（Ａ）約５〜１００質量部を、溶剤−成分（Ｋ）約０〜１００質量部中に溶解させ、ｃ_１）場合により、工程ａ）又はｂ）からのペルフルオロアルキル−成分（Ａ）を、アミノアルキルアルコキシシラン−成分（Ｅ）（ｉ）及び／又はアミノシラン−成分（Ｅ）（ｉｉ）約０〜５０質量部の存在下に、水約１〜５０質量部を用いて（部分的に）加水分解又はシラノール化し、ｃ_２）このアミノ官能性付加生成物を、酸−成分（Ｌ）約５〜５０質量部を用いて第４級化（直接中和）し、ｃ_３）場合により遊離アルコール及び／又は溶剤−成分（Ｋ）を除去し、ｄ_１）工程ｃ）からの反応生成物を、引き続き又は同時に水約５０〜１０００質量部中に溶かし、かつオリゴマー化し、ｄ_２）場合により遊離アルコール及び／又は溶剤−成分（Ｋ）を除去し、ｅ）この際、場合により工程ａ）及び／又はｂ）及び／又はｃ）及び／又はｄ）の間又は後に、任意の方法で、配合−成分（Ｍ）約０〜５０質量部を添加し、かつ／又は官能化−成分（Ｎ）約０〜５０質量部を添加する及び／又は共に反応させることによって得られている。このようにして、鉱物質及び非鉱物質基材の永久的な撥油性、撥水性及び汚れ拒絶性表面処理又は変性のための、水蒸気通過性の被覆系が入手されている。更に、本発明による液状弗素含有組成物は、技術水準に相応する生成物と比べて、同じかつ低い弗素含有率で、明らかに良好な使用技術的特性を有している。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含むことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。 （もっと読む）

本発明は、新規なシラン、シロキサン、またはポリシロキサンメロシアニンスルホン誘導体、並びにそれらの長期のUVフィルターとしての化粧品的な使用に関する。本発明は、有効量の少なくとも1つのシラン、シロキサン、若しくはポリシロキサンメロシアニンスルホン誘導体またはそれらの誘導体の混合物を含む、局所的な使用、特に皮膚及び/または毛髪の光保護のための化粧品組成物にも関する。
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【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性（結晶性）および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは炭素数１〜１５の１価脂肪族炭化水素基；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エポキシシリカハイブリッド体を用いた反応性シリコーン組成物であって、従来のシリコーン化合物よりも安定性に優れる反応性シリコーン組成物の提供。
【解決手段】エポキシ基および／または酸無水物基を有するアルコキシシランを６０モル％以上含む加水分解性ケイ素含有基含有化合物に、加水分解縮合をさせ、生成したアルコールをエポキシ基含有化合物の存在下で留去させて得られる、エポキシ基および／または酸無水物基を有する反応性シリコーン組成物。 （もっと読む）

向上した接着力と耐クラッキング性とを有するアンダーフィル組成物は、エポキシ樹脂を、二官能性シロキサン無水物エポキシ硬化剤及び任意の試薬と組み合わせて含んでいる。幾つかの実施形態では、エポキシ樹脂は、粒径約１〜約５００ｎｍの官能化コロイダルシリカ充填材を含んでいる。二官能性シロキサン無水物エポキシ硬化剤は、場合により、液状無水物エポキシ硬化剤と組み合わせることができる。硬化触媒、ヒドロキシル含有モノマー、接着力促進剤、難燃剤及び消泡剤を組成物に添加してもよい。本発明の別の実施形態は本発明のアンダーフィル組成物を含んでなるパッケージされ固体素子を含む。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）

組成物は、珪素原子及び酸素原子を含むポリマー網目構造物、可撓性結合基及び末端基を含む、前記ポリマー網目構造物内の複数の珪素原子に結合された第一の有機側鎖を含み、前記末端基が孤立電子対を提供する１個以上の原子を含む。組成物はプロトン伝導性膜の形成に使用しうる。例証となる実施例においては、前記ポリマー網目構造物は有機−無機ハイブリッド網目構造物であり、前記末端基は含窒素複素環を含みうる。
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