【課題】硬化による体積収縮が少なく、さらに、とり扱い易さの観点から非硬化状態では低粘度であり、硬化後には高硬度であり、吸水率の少ない硬化樹脂を与える組成物、硬化時の体積収縮が少なく、高硬度であり、吸水率の少ない硬化樹脂およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と
（ｂ）ラジカル重合開始剤と
（ｃ）水素原子に結合したケイ素原子を１分子中に１個以上有する有機ケイ素化合物
とを含む硬化性樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

組成物の製造方法が提供される。この方法は、ｉ）ａ）シリカ、ｂ）アンモニウムではない非揮発性カチオンおよびｃ）水を含有して成る粒子分散液を生じさせ、ｉｉ）式Ｒ_１−（Ｒ_２−Ｏ）_３−Ｓｉ［式中、Ｒ_１は、置換アルキルおよび非置換アルキルから成る群より選択され、そしてＲ_２は、メチル、エチル、プロピルおよびブチルから成る群より選択されるが、Ｒ_１の置換アルキルはアミノアルキルではない］で表される少なくとも１種の有機シリルカップリング剤を添加して、ｉｉｉ）前記有機シリルカップリング剤と前記粒子分散液を反応させることでシルセスキオキサンおよびアルコールを含有して成る混合物を生じさせ、そしてｉｖ）前記アルコールを前記混合物から真空蒸留で最終的アルコール濃度が総混合物の約１重量％以下になるように除去することを含んで成る。更にシルセスキオキサン、非揮発性カチオンおよびアルコールが入っている水性分散液を含有して成る組成物および前記組成物の使用方法も提供される。 （もっと読む）

アミノアルコキシ変性シルセスキオキサン（アミノＡＭＳ）、及び／または、メルカプトシランまたはブロックメルカプトシランを含むアミノｃｏ−ＡＭＳ化合物は、めっき金属ワイヤまたはめっきされていない金属ワイヤのゴムストックへの接着性を向上させる優れた接着剤である。アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ接着剤は、全ての種類のゴムについて使用でき、コバルト、樹脂、高濃度の硫黄など（これらに限定されない）の、特別な接着性添加剤をゴム加硫物に添加する必要がない。特に、ワイヤをゴムへ結合させる接着剤としてのアミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物の使用は、強化材の接着性能を向上させ、時間の経過による分解、特に熱老化及び／又は熱−酸化老化の、特に水存在下での腐食に対して耐性を有する、十分な結合を得ることができる。また、アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物を含有する加硫ゴム組成物は、埋め込まれた被覆されていないスチールの、湿度老化後の接着性を、アミノアルコキシ変性シルセスキオキサンを含有しない加硫ゴム組成物と比べて、向上させた。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および加工耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ^１_ｂ（Ｒ^２Ｏ）_３−ｂＳｉ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＲ^３）_３−ｃＲ^４_ｃ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示す。） （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および薬液耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１、下記一般式（２）で表される化合物２、および加水分解性ポリカルボシランを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ・・・・・（１）
（式中、Ｒは炭素数１〜２のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示し、ａは１〜２の整数を示し、Ｒ^１は炭素数１〜３のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示す。）
Ｒ^２_ｂ（Ｒ^３Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^６）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｃＲ^５_ｃ・・・・・（２）
（式中、Ｒ^２〜Ｒ^５は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示し、Ｒ^６はフェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である。）を示し、ｄは０または１を示す。） （もっと読む）

【課題】 ポリシロキサンはＳｉ−Ｏ結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示す臭素化又は塩素化ベンゼンを有機基として持った加水分解性シランを提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１は式（２）：
【化２】


（式（２）中、Ｒ^４〜Ｒ^８は臭素原子、塩素原子、水素原子、又は１価の有機基である。）で表され、Ｒ^２は１価の有機基であり、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれＳｉ−Ｃ結合でケイ素原子と結合している。Ｒ^３はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示す。ａは１〜２の整数を、ｂは０〜１の整数を、ａ＋ｂは１〜２の整数を示す。〕で示される加水分解性シランであり、その加水分解物、又はその加水分解縮合物を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】高収率で高純度の有機無機ハイブリッド材料として有用なかご型有機基修飾金属酸化物を効率良く得る製造方法を提供する。また、上記のかご型有機基修飾金属酸化物を必要によりナノメートルサイズでしかも単分散な微粒子として連続的かつ短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】有機基修飾金属酸化物前駆体液と水性媒体とを流路に導入し、該流路中で加熱加圧下において前記両液を混合して、かご型有機基修飾金属酸化物を生成させる、かご型有機基修飾金属酸化物の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）水酸基又は加水分解性基を有するジオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ、Ｒ¹及びＲ²は一価炭化水素基で、ａは２又は３。）
で表されるシリルケテンアセタール型化合物、その部分加水分解縮合物又はそれらの混合物、
（Ｃ）微粉末シリカ、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、沈降シリカ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、カーボン、及びこれらの表面をシラン処理したものから選ばれる１種又は２種以上の充填剤、
（Ｄ）有機金属触媒
を含有してなる室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、特に耐湿性、耐水性、耐寒性に優れた硬化物を与え、更に例えば６ヶ月間の貯蔵後でも、空気中に曝すと速やかに硬化して、優れた上記物性を示す。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層の物性を損なう分子を系中に発生させず、構造制御されたポリオルガノシロキサンを簡便に得ることが可能なポリオルガノシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランを、該アルコキシシランの加水分解性基に対して１．０〜５．０モル倍の水を使用し、該アルコキシシラン及び水に不溶な塩基性固体触媒の存在下、加水分解縮合するポリオルガノシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

本発明は、ＭＱ（ＯＨ）型のヒドロキシル化シリコーン樹脂Ａと、ヒドロキシル化シリコーンゴムＢと、Ｄ^Vi及び／又はＭ^Vi単位を有する、ＭＱ型又はＭＱ（ＯＨ）型のビニル官能性シリコーン樹脂Ｅである第３成分と、を含むシリコーン組成物に関するものである。また、本発明は、当該シリコーン組成物の製造方法、当該架橋シリコーン組成物で少なくとも部分的に覆われた支持体を備える複合材、及び、当該シリコーン組成物の、支持体上に接着力を付与する目的で該支持体の表面を完全に又は部分的に被覆するための使用に関するものでもある。 （もっと読む）

【課題】本発明に係わるゴム組成物をタイヤのプライコーティングゴムに用いることで、耐亀裂成長性を損なうことなく、転がり抵抗を著しく改良したタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物との共重合体の分子内に、プロトン性アミノ基又は、脱離可能な官能基で保護されたアミノ基を有する変性共役ジエン系共重合体を含むゴム成分と、（Ｂ）補強用充填材とを含有したゴム組成物を、プライコーティングゴムに用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

ゾルゲル組成物、ゾルゲル組成物前駆体、および光パターン形成された構造を基板上で製作する方法を、本明細書中に記載する。本ゾルゲル組成物は、金属酸化物または金属アルコキシドを組み込まずして、高屈折率と低光損失の組み合わせを有する。本ゾルゲル組成物は、特に、１３００〜１６００ｎｍのテレコミュニケーション波長範囲における導波管製作への応用においてさらに有用である。さらに、本明細書中に記載するゾルゲル組成物を用いた、パターン形成された構造の製作は、例えば、シリコン・オン・シリカの基板およびモリブデン・オン・ガラスの基板をはじめとした種々の基板において達成することができる。
（もっと読む）

【課題】優れた防汚性、低汚染性、汚染の自己洗浄性、帯電防止性などを発揮できる塗膜や各種成形体を形成可能なポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンを提供する。
【解決手段】変性基として、式［Ｉ］で表される基を、分子内に1個以上含有するポリオルガノシロキサン：式［Ｉ］：


上記ポリオルガノシロキサンの用途は親水性付与剤、親油性付与剤、揆水性付与剤、揆油性付与剤のうちいずれか、あるいはそれらの組み合わせである。 （もっと読む）

【課題】
ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子に容易に反応性のハロゲノ基を導入することができる新たな製造方法及びそれによって得られたハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の提供。
【解決手段】
アルケニル基を有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子を、ハロゲン化スクシンイミド及び脂肪族アルコールと反応させることを特徴とするハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するアルコキシシランを水の存在下で加水分解縮合させることにより、アルコキシシラン縮合物と、水と、アルコキシ基に由来するアルコールとを含む溶液を得る工程と、溶液を加熱し、水とアルコールとを共沸させることにより、脱水し、薄膜形成用組成物を得る工程とを備え、得られた薄膜形成用組成物中に含まれているアルコキシシラン縮合物に対する残存アルコールのモル比が、アルコキシシラン縮合物の縮合速度Ｒに応じて図１の破線Ｘで囲まれている範囲内とされている、薄膜形成用組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】共有結合した末端ハロゲンを含まず、触媒として使用された遷移金属を好ましくは可能な限り容易かつ完全に除去することができるポリシロキサンブロックコポリマーを提供すること。
【解決手段】本発明は、式Ａ［ＬＢ（Ｓ）Ｑ］_ｍ（式中、Ａは、ポリシロキサンブロックであり、Ｌは、２価の有機結合基であり、Ｂは、ラジカル重合性モノマーから構成されるポリマーブロックであり、Ｓは、硫黄原子であり、Ｑは、１価の有機基であり、ｍは、１〜５０の整数である）のポリシロキサンブロックコポリマー、その製造方法、および化粧またはパーソナルケアにおけるその使用に関する。 （もっと読む）

金属、プラスチック、化学製品、セラミック材料、コンクリートおよびガラスの耐引掻性の疎水性および水性被覆のためのシランをベースとする組成物の製造 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】 下記式（１）


ここで、Ｚは波長２００〜４００ｎｍの光により架橋反応もしくは異性化反応を生じる感光基であり、Ｘは水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、あるいは他の繰り返し単位のＸと一緒になって−Ｏ−を介して架橋を形成していてもよい、
で表わされる繰り返し単位を有し且つ重量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲にあるポリオルガノシロキサン。 （もっと読む）

【課題】高硬度で、耐クラック性、耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン材料、光学素子等の光学デバイス用封止材料、その他の半導体素子等の電子デバイス用封止材料、電気絶縁性コーティング材料の原料として有用なケイ素原子に結合した水素原子を有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する有機ケイ素化合物と、(b)ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素化合物と、の付加反応生成物であって、かつ、ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物、および、上記(a)成分と上記(b)成分とをヒドロシリル化反応触媒の存在下で付加反応させることを含む上記多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物の製造方法。 （もっと読む）