【課題】汎用な原料を使用し、簡便な製造方法でかつアクリルモノマーとの反応性に優れた、１つのＳｉ原子に複数のアクリル基を含んだ炭化水素基を変性させた新規な（メタ）アクリル基含オルガノポリシロキサンとその製造方法、及び該ポリシロキサンとラジカル重合性モノマーとの重合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される（メタ）アクリル基含オルガノポリシロキサン。
【化１】


［Ｒは（メタ）アクリル基を含まない１価炭化水素基又はアルコキシ基、ＱはＡ及び／又はＸで、Ｑの１つ以上はＡ。Ａは−Ｒ¹−ＣＯＮＨ−Ｃ（Ｒ²）［ＣＨ₂−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ₂］₂又は−Ｒ¹−ＣＯＮＨ−Ｃ（Ｒ²）［ＣＨ₂−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂］₂（Ｒ¹は２価有機基、Ｒ²は（メタ）アクリル基を含まない１価炭化水素基又はアルコキシ基。）、ＸはＲ又は（メタ）アクリル基を含まない活性水素含有１価有機基。０≦ａ≦１，０００、０≦ｂ≦１００。］ （もっと読む）

【課題】窒化ガリウムや窒化ケイ素などのＬＥＤ基板や配線金属などとの接着性が高く、着色のない封止剤硬化性組成物を提供。
【解決手段】下記式（１）に示されるような水酸基を２個含有する構造を有する基を少なくとも１つ有するポリシロキサン（Ａ）および架橋剤（Ｂ）を含有することを特徴とする硬化性組成物。


（（１）式中、Ｘは、脂環式炭化水素基を表わす。（１）中、−［ＣＨ₂］−ＯＨおよび−ＯＨは、前記脂環式炭化水素基を構成する異なる炭素原子に結合し、該２つの炭素原子は単結合で結合され、前記２つの炭素原子にはそれぞれ水素原子が結合している。ｎは０〜６の整数を示す。＊は結合手を示す。） （もっと読む）

【課題】ジベンゾイルメタン誘導体を紫外線に対して光安定化させるための方法の提供。
【解決手段】与えられた式を持つ二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有ｓ-トリアジンを使用する。また、該ｓ-トリアジンに関する。さらに、ジベンゾイルメタン型紫外線遮蔽剤と該ｓ-トリアジン化合物を含むことを特徴とする、生理学的に許容可能な担体中に少なくとも一の紫外線遮蔽系を含有する組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】粒状の多分枝有機／無機ハイブリッドポリマーをベースとする成分、材料、添加剤及び／又は材料組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】多分枝有機／無機ハイブリッドポリマーは有機ブランチを有する無機コアの形態である。コアは最初に、構造：Ｘ−Ｂ−Ｓｉ（−Ｙ）_３（式中、ＸはＮＲ_１Ｒ_２であり、Ｒ_１、Ｒ_２は水素、アルキル及びアリールから選ばれ、有機ブランチは、Ｘ−Ｂ基上のＮ−Ｈ水素原子を、第一級及び第二級アミンに典型的な反応によって置換させること、及び／又は、コア中のＸ−Ｂ基のＮ原子に付加することができる酸を添加することによって成長される。 （もっと読む）

【課題】温和な反応条件でアミノ酸変性オルガノポリシロキサンを製造することができ、化粧料に配合して良好な化粧持ちを与えるアミノ酸変性オルガノポリシロキサン及びその製造方法並びに化粧料を提供する。
【解決手段】主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも一つに、一般式（１）で表される有機基が結合してなるアミノ酸変性オルガノポリシロキサン。


［Ｘ及びＹはそれぞれ独立に、炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、ｍは０〜４の整数、Ｒ^aは水素原子又は炭素数１〜４の１価の炭化水素基。Ｚは一般式（２）


で表される有機基である。］ （もっと読む）

【課題】シロキサンブロック間に新たな官能基が導入された構造を有し、目的とする共重合体中に分散させると、前記共重合体の物性調節が可能となるビスヒドロキシアリールシロキサンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるビスヒドロキシアリールシロキサン。


（前記式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ａ、Ｚ、Ｙ、およびｎは明細書中で定義した通りである。） （もっと読む）

【課題】形成された絶縁膜の誘電率を小さくすることのできる絶縁膜形成用感光性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位（ａ１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ２）を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）とを含む絶縁膜形成用感光性組成物を使用する。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は炭素数１〜５のアルキレン基であり、ｎは１〜５の整数である。また、下記一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基である。
（もっと読む）

【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及び永久レジストの製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分として、特定の環状シロキサン化合物と特定のアルコキシシラン化合物とをシラノール基が残存するように加水分解・縮合反応させて得られるポリシロキサン化合物、（Ｂ）成分として、エポキシ基を少なくとも２つ有する化合物、（Ｃ）成分として、ジアゾナフトキノン類、及び（Ｄ）成分として有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】シアネート樹脂の優れた誘電特性を損なうことなく、硬化物の脆さを改善した樹脂組成物、およびこれを用いた多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】シアネートエステル化合物と、シアナト基と反応する官能基を分子内に少なくとも１個有する反応性ポリオルガノシロキサンとを反応させ、シアネート樹脂の優れた誘電特性を損なうことなく、硬化物の脆さを改善した樹脂組成物を得る。得られた樹脂組成物を内層板に積層して、その後回路形成することにより、多層プリント配線板を得る。 （もっと読む）

【課題】半導体基板への不純物拡散成分の拡散の際に拡散保護のために形成するマスクに好適に採用可能なマスク材組成物、当該マスク材組成物を用いた不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。
【解決手段】マスク材組成物は、半導体基板への不純物拡散成分の拡散保護に用いられるマスク材組成物であって、下記式（ａ１）で表される構成単位を含むシロキサン樹脂（Ａ１）を含有する。
【化１】


式（ａ１）中、Ｒ_１は、単結合または炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ_２は、炭素数６〜２０のアリール基である。 （もっと読む）

【課題】高価な原料を用いることなく簡便な方法で、窒素雰囲気下、１，０００℃における加熱重量損失率が５％以下であり、極めて高い耐熱性を有する硬化物が得られる、新規なケイ素含有高分子化合物、そのヒドロシリル化重合体、その重合体を含有する耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜を提供することにある。
【解決手段】本発明のケイ素含有高分子化合物は、下記一般式（５）で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。
【化１】



〔式中、Ａ^２は炭素−炭素不飽和基を有する炭素数２〜１０の有機基、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０の２価の芳香族基もしくは炭素数３〜２０の２価の脂環式基、ｎは０又は１、Ｒ^４はＨ原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基（１分子中のＲ^４は同種でも２種以上の異種の組み合わせあってもよい。）、ｘ，ｙは正の数であり、ｗ，ｚは０又は正の数であって、０≦ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）≦２且つ０．０１≦ｙ／（ｗ＋ｘ）≦５である。〕 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。
【解決手段】式（１）で示される繰り返し単位を有するエポキシ基含有高分子化合物。


［ａ、ｂ、ｃ、ｄは０又は正数、０＜（ｃ＋ｄ）／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）≦１．０ （もっと読む）

【課題】反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有膜形成用組成物は、下式（１）で表される化合物由来の構造単位（ａ１）を含有するポリシロキサンと、有機溶媒と、を含有する。


〔式中、Ｒ^１は、ｂ価の置換されてもよい芳香族炭化水素基又は置換されてもよい複素環基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して１価の有機基を表す。ａは０〜１の数であり、ｂは２又は３である。Ｘ^１は、単結合、置換されてもよいメチレン基、炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又はフェニレン基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】上記事情から、本発明の目的は、光硬化性を有し、かつ耐熱透明性に優れた硬化物を与える硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 必須成分として（Ａ）アルケニル基を有する化合物、（Ｂ）ＳｉＨ基を有し、かつ、下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される各構造と、フェノール性水酸基と、カルボキシル基とからなる群から選ばれる少なくとも一種を同一分子内に有する変性ポリオルガノシロキサン化合物（Ｃ）光活性型白金錯体硬化触媒を含有する硬化性組成物。
【化１】
（もっと読む）

【課題】上記事情から、本発明の目的は、光硬化性を有し、かつ耐熱透明性に優れた硬化物を与える硬化性組成物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）光硬化性樹脂、（Ｂ）下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される各構造と、フェノール性水酸基と、カルボキシル基とからなる群から選ばれる少なくとも一種を同一分子内に有する変性ポリオルガノシロキサン化合物からなる硬化性組成物、あるいは、これらの特定構造を有する化合物、あるは化合物を用いることにより課題が解決されることを見出した。
【化１】
（もっと読む）

【課題】レジスト材料に好適な、透明性、耐熱耐光性に優れた塗膜を与えうる、感光性の、新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】Ａ）塩基性化合物、Ｂ）光酸発生剤およびＣ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する変性ポリオルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物およびその硬化物。 （もっと読む）

熱可塑性組成物はポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリシロキサンブロック共重合体を含む。該熱可塑性組成物は、一価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリシロキサンとを酸化共重合するステップを備える方法で調製される。該方法は、事前に製造したポリ（アリーレンエーテル）とポリシロキサンブロックを結合してポリ（アリーレンエーテル）−ポリシロキサンブロック共重合体を調製する従来方法より簡便である。また該方法では、一価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリシロキサンとを共重合する従来の方法より、ポリシロキサンのポリ（アリーレンエーテル）−ポリシロキサンブロック共重合体への組み込み量が多い。 （もっと読む）

【課題】 低温で絶縁層（例えば、トランジスタのゲート絶縁膜や保護層）を形成することが可能であり、しかも優れた絶縁耐圧を有する絶縁層を形成可能な絶縁層用組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明の絶縁層用組成物は、分子内に活性水素基を２個以上有する高分子化合物からなる第１の化合物と、分子内に電磁線又は熱により活性水素基と反応する官能基を生成する基を２個以上有する低分子化合物からなる第２の化合物とを含む。 （もっと読む）

【課題】フォトグラフィにおいて反射防止層として使用するための吸光性スピンオングラス材料、およびそのスピンオングラス材料の製造方法を提供。
【解決手段】スピンオングラス材料は、（ａ）強吸収性化合物；（ｂ）良好な離脱基を有する少なくとも１種のシラン；および（ｃ）（ｂ）とは異なる、良好な離脱基を有する少なくとも１種のシラン化合物を重合して得られたシロキサン重合体から成り、（ａ）対（ｂ）対（ｃ）の比およびシロキサン重合体の吸光係数ｋ値について凹形／凸形である関係を示すか、または凹形／凸形関係で囲まれた領域の中に位置せしめられる上記のシロキサン重合体族である。 （もっと読む）