【課題】本発明は、種々の基材表面にガス透過性、生物適合性、低摩擦または絶縁の性質を付与するように設計した脂肪族ヒドロシクロシロキサン膜を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、所望によりコモノマーと共重合された重合脂肪族ヒドロシクロシロキサンモノマーを含有するプラズマ重合膜およびこれら膜の製造方法を開示する。これら方法を用いて基材を被覆して、疎水性、血栓抵抗性、ガス透過性および生物適合性などの性質を付与することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は滑り性の持続が可能なコーティング組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】下記平均組成式（１）
【化１】


（Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル-ポリシロキサン共重合体含有基、Ｑは２価連結基、Ｚは２価以上のシロキサン結合含有基、Ｒはアルキル基又はフェニル基、Ｘは加水分解性基、ａは２又は３、ｂは１〜１０、ｙは１〜５）で表されるパーフルオロポリエーテル-ポリシロキサン共重合体変性シランを含有することを特徴とする含フッ素コーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、
［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、ならびに
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系重合体の主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるシリコーン膜を提供する。
【解決手段】
シルセスキオキサンを主鎖に含む特定のケイ素化合物と、このケイ素化合物中の水酸基と縮合反応を生じる基又は原子を３以上有する架橋性ケイ素化合物とが縮合してなる架橋性シロキサンポリマーが含まれる架橋性組成物を、水存在雰囲気中で硬化させてシリコーン膜とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性、耐熱クラック性に優れ、耐熱着色安定性に優れる硬化物となりうる光半導体素子封止用組成物の提供。
【解決手段】１分子中に２個のシラノール基を有する直鎖状オルガノポリシロキサン化合物と、１分子中に３個以上のアルコキシ基またはシラノール基を有するシロキサン化合物と、縮合触媒とを含有する光半導体素子封止用組成物、当該光半導体素子封止用組成物を硬化させることによって得られる硬化物、およびＬＥＤチップが当該硬化物で封止されている光半導体素子封止体。 （もっと読む）

ジシリロキサン単位を含むシリコーン樹脂と、炭素ナノ材料と、有機溶媒とを含むナノ材料充填シリコーン組成物；及び、該シリコーン樹脂の硬化生成物と、硬化生成物中に分散される炭素ナノ材料とを含む強化シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を有し、内容物の保存適性に優れたガスバリア性積層フィルム、およびその製造方法等を提供する。
【解決手段】基材１上に無機酸化物の蒸着膜２を設け、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜３を設けてなるガスバリア性積層フィルムであって、前記塗布膜が、一般式Ｒ¹_nＭ（ＯＲ²）_m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であることを特徴とする前記ガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも１．４個のアルケニル基を有する有機ポリマー１００重量部；（Ｂ）組成物を硬化するのに十分な量の、１分子あたり平均して少なくとも１．４個のＳｉ−Ｈ基を有する架橋剤；（Ｃ）組成物の硬化を生じさせるのに十分な量の白金族金属含有触媒；（Ｄ）（Ａ）１００重量部あたり０．１〜２０重量部の、２００〜５，０００の数平均分子量を有し、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレンとのコポリマー、イソプレンとブタジエンとのコポリマー、イソプレンとスチレンとのコポリマー、ブタジエンとスチレンとのコポリマー、イソプレンとブタジエンとスチレンとのコポリマー、およびポリイソプレン、ポリブタジエン、イソプレンとスチレンとのコポリマー、ブタジエンとスチレンとのコポリマーまたはイソプレンとブタジエンとスチレンとのコポリマーを水素化して得られるポリオレフィンポリマーの群から選ばれるポリマー骨格を有するアルコキシシリル置換有機オリゴマー；ならびに任意でＴｉ−Ｏ−Ｃ結合を有するチタン化合物を含むヒドロシリル化硬化性組成物。この組成物は基材に対し改善された接着性を与える。 （もっと読む）

【課題】経時で硬化遅延が起こりにくいという特徴を有する、アルコール脱離型シリコーン樹脂に基づく湿気硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルコール脱離型シリコーン樹脂、ジオクチル錫化合物と珪酸化合物を混合した触媒、シラザンを含有することを特徴とする湿気硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】深部まで短時間で硬化するとともに、硬化速度を自由に調整することができる２液混合硬化型組成物を提供することを目的としている。
【解決手段】Ａ剤とＢ剤とを備え、使用直前にＡ剤とＢ剤とを混合して反応硬化させるようになっている２液混合硬化型組成物であって、前記Ａ剤が、加水分解性シリル基を有する化合物（ａ）を含み、前記Ｂ剤が、リン酸および亜リン酸の少なくともいずれか一種である成分（ｂ）と、アルコール性水酸基を有する化合物（ｃ）および水の少なくともいずれか一種である成分（ｄ）とを含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【解決課題】 工業的に好ましい材料であるシロキサン重合体を用いて、従来のシロキサン重合体によるものよりも機械強度に優れる多孔質膜を形成し得る、新たな方法により合成されたシロキサン重合体、それを含有する膜形成用組成物、多孔質膜の形成方法及び形成された多孔質膜、並びに、この多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 加水分解性シラン化合物の加水分解縮合によるシロキサン重合体の製造方法において、一般式（１）
（ＳｉＯ_1.5−Ｏ）_n^n-Ｘ⁺_n （１）
（但し、ＸはＮＲ₄を表し、Ｒは炭素数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、各々独立して互いに同じでも異なってもよい。また、ｎは６から２４の整数を表す。）
で表されるシルセスキオキサンのケージ化合物塩を準備し、該シルセスキオキサンのケージ化合物塩に、加水分解性シランを加水分解して縮合したシロキサン重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】高集積化、多層化に好適な低比誘電率絶縁膜のに用いるシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】シリカ系膜は、（Ａ）成分；Ｓｉ（ＯＲ^１）_４および一般式Ｒ^２_ａ（Ｒ^３Ｏ）_３−ａＳｉ−（Ｒ^６）_ｃ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｂＲ^５_ｂで表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、原料比で全シラン化合物の５０モル％以上含む混合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物、ならびに有機溶媒と、を含む絶縁膜形成用組成物を紫外線または電子線により硬化して得られる。（式中、Ｒ^２〜Ｒ^５は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ａおよびｂは同一または異なり、０〜１の数を示し、Ｒ^６は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である。）を表し、ｃは０または１を示す。） （もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、安定かつ所望な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物により製造される膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、置換または無置換の炭化水素系溶媒を含む溶媒とを含有し、前記溶媒として、前記高次シラン化合物が溶解し得るように、屈折率が１．５３以上のものを選択する。また、炭化水素系溶媒は、比誘電率が１０以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、新しいブロックイソシアナートシリコーン樹脂に関する。それは、貯蔵安定な一部型硬化性コーティング組成物を製造するのに用いることができる。これらのコーティングは、加熱されるまでは、硬化しない。コーティングは、自動車の外装、革布地、電子部品、木の床、および表面を含む多くの基材に、耐候性保護を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の欠点が回避されたオルガノポリシロキサンの水性分散液並びにオルガノポリシロキサンの水性分散液の簡単な製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンの水性分散液を、（ａ）オルガノポリシロキサン（１）とシラン（２）とを水（３）及び乳化剤（４）の存在下で反応させ、水性シリカ分散液（５）を、場合により式（ＩＩ）のシラン（２）との混合物で、反応（ａ）に際して又は反応（ａ）後に添加し、（ｃ）場合により付着媒介剤（６）を反応（ａ）に際して又は反応（ａ）後に添加し、（ｄ）場合により反応（ａ）に関与しない更なる物質（７）を反応（ａ）に際して又は反応（ａ）後に添加することによるが、金属含有触媒を共用せず、オルガノポリシロキサン（１）とシラン（２）を、オルガノポリシロキサンが水（３）の除去後にトルエンに不溶性の弾性被膜を形成する量で使用して製造する。 （もっと読む）

レジスト下層膜加工用ハードマスク組成物が提供される。前記ハードマスク組成物は、オルガノシラン重合体および溶媒または溶媒の混合物を含み、前記オルガノシラン重合体は、酸触媒の存在下で、式１、２、および３で表される化合物の加水分解物の重縮合によって調製される：


式中、Ｘは、少なくとも１つの置換または非置換の芳香環を含むＣ_６−Ｃ_３０の官能基であり、Ｒ^１はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基である；


式中、Ｒ^２はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｒ^３はＣ_１−Ｃ_１２のアルキル基である；


式中、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ独立してＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｙは、芳香環、置換または非置換の、直鎖または分岐のＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、骨格中に芳香環、複素環、ウレア基またはイソシアヌレート基を含むＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、および少なくとも１つの多重結合を含むＣ_２−Ｃ_２０の炭化水素基からなる群から選択される連結基である。
本発明のハードマスク組成物は、優れた膜特性および良好な保存安定性を示し、その満足できるハードマスク特性によって材料層に良好なパターンを転写することを可能にする。加えて、本発明のハードマスク組成物は、後続のパターンのエッチングの際にＯ_２プラズマガスに対して改善されたエッチング耐性を有する。前記ハードマスク組成物は、高い親水性の薄膜の形成に使用することができ、したがって薄膜の上部の反射防止コーティングとの界面の相溶性の改善に効果的である。さらに、前記ハードマスク組成物を用いた半導体集積回路デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】既存の基材に適応でき、常温での塗膜形成が可能で、高い日射遮蔽能と優れた膜強度を得ることができること。
【解決手段】バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒および近赤外線遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗布液であって、前記バインダー成分の少なくとも１種がグリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる反応物であり、かつ前記近赤外線光遮蔽成分が、平均粒径２００ｎｍ以下の複合タングステン酸化物に加え、さらに、平均粒径２００ｎｍ以下の六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも１種、平均粒径２００ｎｍ以下のＡＴＯ、平均粒径２００ｎｍ以下のＩＴＯのうち少なくとも１種以上の微粒子を混合したものである。 （もっと読む）

【課題】親水性に優れ、且つ、良好な耐久性を有し、透明性、保存安定性にも優れた表面親水性層を与える親水性膜形成用組成物を提供すること。基材表面に親水性膜を備えてなる、表面親水性とその持続性に優れた親水性部材を提供すること。
【解決手段】 (Ａ)分子内に水酸基を2個以上含有するアルキレンオキシド化合物と、（Ｂ）Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される元素を含むアルコキシド化合物と、（Ｃ）ポリマー末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーを含有する親水性膜形成用組成物および該親水性膜形成用組成物を塗設してなる親水性部材。 （もっと読む）

【課題】外観、硬度、耐擦傷性及び基材との密着性に優れた無機系の被膜を短時間に形成できる活性エネルギー線硬化性組成物、及びこの組成物を用いて硬化被膜を基材の表面に形成した積層体を提供する。
【解決手段】個数平均粒子径５〜２００ｎｍのコロイド状シリカと特定のエポキシ基含有シランとの加水分解・縮合物（Ａ）、特定のアルキルシリケートと特定のシランとの加水分解・縮合物（Ｂ）及び酸発生剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物並びにその硬化被膜を有する積層体。 （もっと読む）

【課題】高耐久で、現像効率が安定し、かつ、カブリ及び弾性層が含有する低分子量染み出しの発生を抑制する表面層を有する現像ローラであって、耐圧縮永久歪性にも優れた現像ローラの提供。
【解決手段】現像ローラの表面層が、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を含有するポリシロキサンを含有し、かつ、ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニット及びＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する。該ポリシロキサン中の前記第１のユニットのモル数をｘ［ｍｏｌ］とし、前記第２のユニットのモル数をｙ［ｍｏｌ］とし、前記第３のユニットのモル数をｚ［ｍｏｌ］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である。 （もっと読む）