【課題】引張破断強度と引張弾性率が高く、線膨張係数が低い特定範囲であるポリイミドフィルムであって、表面特性の改良された多層ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】（ａ）層：ポリアミド酸（１）と、１分子中に１つの水酸基を持つエポキシ化合物（Ａ）とアルコキシシラン部分縮合物（Ｂ）との脱アルコール反応によって得られるエポキシ基含有アルコキシシラン部分縮合物（２）とを反応させてなるアルコキシ基含有シラン変性ポリアミド酸、および極性溶剤を含有することを特徴とするシラン変性ポリアミド酸樹脂組成物を乾燥、硬化して得られるシラン変性ポリイミドの層と（ｂ）層：少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてベンゾオキサゾール骨格を有するジアミン残基を有するポリイミドとが少なくとも積層されてなる構成の多層ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

本発明は、固体支持材料、特にクロマトグラフィー材料のシラン類を用いた表面改質のための方法であって、当該表面改質をイオン性液体の存在下で行う前記方法に関する。
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【課題】耐熱性、低誘電性に優れた新規な可溶性のポリヘドラルシルセスキオキサンを提供し、そのポリヘドラルシルセスキオキサンによって形成された膜により、所要の透明性、耐熱性、表面硬度、密着性を満たすとともに、リワーク性に優れ、また下地基板上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜を形成しうる硬化性樹脂組成物、該組成物から形成された保護膜、ならびに該保護膜の形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるポリヘドラルオルガノシルセスキオキサン、およびこれより得られる膜
【化１】


〔式（１）中、RPｈ基はRで置換されたフェニル基を表し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基、あるいは、オリゴジメチルシロキサニル基などのオリゴシロキサニル基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】耐汚染性と耐摩耗性に優れた架橋型ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂とその製造方法、ならびにこの共重合樹脂を用いた耐汚染性と耐久性に優れた電子写真感光体や導電性ゴムロール用コーティング材、導電性ゴムロール、フィルム、シートなどを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート単位とシロキサン単位を有する共重合体であって、該シロキサン単位の部位において、他の重合体鎖のシロキサン単位と結合してなる新規な架橋型ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂と、その製造方法、該共重合樹脂を含有する感光層を導電性基体上に設けてなる電子写真感光体ならびに該共重合樹脂を含有する導電性ロール用コーティング材。 （もっと読む）

低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 基板と金属微粒子（特に金属ナノ粒子）との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物（例えば、貴金属化合物）と、無機微粒子（シリカなど）とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び／又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 （もっと読む）

外部触媒不含であって、かつシラン縮合物を含有する、自触媒により熱硬化可能な組成物に関し、この場合、これらのシランは、加水分解可能な原子および／または加水分解可能な基および（ｉ）エポキシド基を含有し、かつイソシアネートアダクト基を含有しない非加水分解性の基ならびに（ａ）二価の結合−ＮＨ−Ｃ（Ｘ）−Ｘおよび／または−Ｘ−（Ｘ）Ｃ−ＮＨ−ウレタン基、（ｂ）二価の結合−ＨＮ−Ｃ（Ｘ）−ＮＨ−尿素基、および／または（ｃ）一価の、末端Ｙ−Ｃ（Ｘ）−ＮＨ−基［式中、可変の基Ｘが酸素原子または硫黄原子を示し、その一方でＹはイソシアネート基のためのブロッキング剤の基を示す］を有するエポキシド基不含の非加水分解性の基であるか、（ｉｉ）エポキシド基および基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する非加水分解性の基であるか、あるいは、（ｉｉｉ）イソシアネートアダクト基を含有することなく、エポキシド基を含有する非加水分解性の基、基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する、エポキシド基不含の非加水分解性の基、およびエポキシド基および基（ａ）、（ｂ）および／または（ｃ）を有する非加水分解性の基を含有する。さらに、本発明による、自触媒により熱硬化可能な組成物を製造するための方法および熱硬化材料を製造するためのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、任意の形状に賦形可能で、工業的に生産が容易な光、熱重合性のフラーレンを提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で示されることを特徴とする重合性フラーレン。Ｃｎ［（ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｏ）_ｍ（ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｏ）_ｊＳｉＲ^５Ｒ^６−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ^７＝ＣＨ_２］ｋ （１）（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素または炭素数１から１２のアルキル基、アリールアルキル基、アリール基を表し、Ｘは炭素数３から１２のアルキレン基を、Ｒ^７は水素または炭素数１から１２のアルキル基を表し、Ｃ_ｎは炭素数ｎのフラーレンを表す。また、ｎは６０以上の正数を、ｍ、ｊは重合度を表わし１から１００の正数を、ｋは１から１１の正数を表す。） （もっと読む）

【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜を提供できる膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）の化合物及び／又はその加水分解縮合物を含み、塩
基性である膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び、その製造方法。
Ｘ¹_(3-m)Ｒ¹_mＳｉＲ²ＳｉＲ³_nＸ²_(3-n) （Ｉ）
式中、Ｒ¹およびＲ³は水素原子または１価の置換基であり、Ｒ²はアルキレン基、アリーレン基またはこれらの組み合わせを表し、Ｘ¹およびＸ²は加水分解性基を表す。ｍおよびｎは０〜２の整数である。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が低いと共にリーク電流が少ない有機シリコン系膜を得易い有機シリコン系膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 原料ガスとして少なくとも１種の有機シリコン化合物を用いた化学的気相堆積法により有機シリコン系膜を成膜するにあたり、前記有機シリコン化合物として、少なくともケイ素、水素、炭素、及び窒素を構成元素として含有していると共に、ケイ素原子と窒素原子とが互いに結合していない化合物を用いることによって、上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】 良好な親水性を有し、水にさらされた場合の水接触角の増加が少なく、長期間の耐汚染性を有する塗膜を得ることができるシリケート組成物及びこれを含む水性塗料を提供する。
【解決手段】 アルキルシリケートを下記式（１）；
Ｒ−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_３−Ｈ （１）
（式中、Ｒは、炭素数４〜１８の炭化水素基を表す。Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表す。）で表される化合物で変性して得られるシリケート組成物。 （もっと読む）

【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第１段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第２段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつ耐熱性に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない伝導性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜を提供する。
【解決手段】
メルカプト基を有しないシラン化合物Ａおよびメルカプト基を有するシラン化合物Ｂを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、ならびに該導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜。 （もっと読む）

【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
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【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、その表面に微小な凹凸が設けられた基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、基材は、表面粗さＲａが０．１〜１．０μｍであり、かつ、表面粗さＲｚが１．０〜９．０μｍであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
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【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：下記一般式（８）；
ＳｉＸ_４ …（８）
（式中、Ｘは加水分解性基を示す。）
で表される化合物、一般式（８）で表される化合物の多量体、及び／又は一般式（８）で表される化合物の部分縮合物を必須成分として加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び
（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含むことを特徴とする反射防止膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）