【課題】光加工プロセスに用い、光硬化性と耐光性のある感光性重合体組成物の提供。
【解決手段】下記式の化合物を用いて得られるかご型ケイ素化合物、金属錯体、および有機溶媒を配合して、感光性重合体組成物を得る。
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【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

本発明は、その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び１個のシリル−配位子を有するルテニウム−錯体；その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合されているルテニウム−錯体及びその配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び少なくとも１個の他の配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合しているルテニウム−錯体を含む群から選択されるルテニウム−化合物、その製造及びヒドロシリル化での触媒としての使用に関する。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く機械的強度が高い多孔質の絶縁膜を有する半導体装置の製造方法、並びにこのような多孔質絶縁膜の形成に好適な絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】基板１０上に、多孔質の第１の絶縁膜３８を形成する工程と、第１の絶縁膜３８上にＳｉ−ＣＨ_３結合を３０〜９０％の割合で含有するシリコン化合物を含む第２の絶縁膜４０を形成する工程と、第１の絶縁膜３８上に第２の絶縁膜４０が形成された状態で紫外線を照射し、第１の絶縁膜３８を硬化させる工程とを有する。これにより、ＣＨ_３基を脱離する波長域を有する紫外線が第２の絶縁膜により十分に吸収され、第１の絶縁膜では紫外線キュアによる高強度化が優先的に進行するので、第２の絶縁膜の誘電率を増加することなく膜密度を向上することができる。 （もっと読む）

本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも１つの膜母材前駆体と、少なくとも１つの、Ｒが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式（I）の孔形成化合物か、または、少なくとも１つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率ｋの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも１つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-（1-メチルエチル）-7-オキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ［2,2,1］オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-（1-メチルエテニル）-7-オキサビシクロ［4,1,0］ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式（I）の化合物の基板上への低誘電ｋ膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化１】

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【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物（具体的例示：２，４，６−トリシクロプロピル−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン）を含有するＳｉ含有膜形成材料を用いてＰＥＣＶＤ法によりＳｉ含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 （もっと読む）

ヒドロシロキサンと式Ｉの構造単位を含むポリフルオレンとの反応から導かれるポリマー組成物を含んでなる光電子デバイス。式中、Ｒ¹及びＲ²は独立にアルキル、置換アルキル、アルケニル、アルキニル、置換アルケニル、置換アルキニル、アルキルオキシ、置換アルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、置換アルケノキシ、置換アルキノキシ又はこれらの組合せであり、Ａｒ¹及びＡｒ²は独立にアリール又は置換アリールであり、ｍ及びｎは独立に０又は１であり、Ｒ¹及びＲ²の少なくとも一方はアルケニル、アルキニル、置換アルケニル又は置換アルキニルである。
【化１】
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【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】液晶の層間絶縁膜材料にはポジ型の感光特性が要求されるが、材料の安定性、脱ガス、焼成後の透明性などを両立可能な材料の開発が課題とされていた。
【解決手段】アルキルアミノ基を介して、シリコーン化合物にジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）を直接結合させた感放射線性化合物を用いる。高感度で、透明性、耐熱性にすぐれた層間絶縁膜形成用感放射線組成物が提供できる。 （もっと読む）

【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位（ａ）と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び／又はスルフィド基を有する構造単位（ｂ）とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び／又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とする単量体混合物とシラン系単量体を共重合させて得られる水分散型粘着剤において、シリコーン系剥離剤を塗布した剥離ライナーや背面処理層に対する剥離力の上昇の少ない水分散型粘着剤組成物および粘着シート類を提供することにある。
【解決手段】水分散型の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とする単量体混合物とシラン系単量体とを共重合して得られた重合体１００重量部に、シラン系単量体と結合しうる有機化合物０．００５〜１重量部を添加することで、重剥離化現象を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での屈折率の変動を低減することが光学樹脂材料を得る。
【解決手段】分子中に少なくとも１つの水酸基を有する金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物と、揮発性の低分子成分と、有機重合体を含む光学樹脂材料であって、揮発性の低分子成分が、金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物の水酸基と、結合可能な極性基（例えば、カルボン酸基、カルボニル基、及び水酸基など）を有することを特徴としている。 （もっと読む）

防汚材料は、殺生物特徴および／または汚れ放出特徴を提供する多数の適当な共重合体（例えば、ブロック共重合体、グラフト共重合体等）のうちの一つ以上を含み得る。共重合体には、ポリシロキサン骨格にグラフトされた一つ以上の重合体を含むポリシロキサン骨格が含まれ得る。 （もっと読む）

【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

【課題】アスベスト又はアスベストを主成分とする屑又は物質を、無害にする処理組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分を含む組成物。
(a) 式：Si(OR)₄（Ｒはアルキル）のオルガノシラン、式：M(OR)_m（ＭはＢ、Ti、Fe、Al、Mg、Ｖ、Zr、Ｗ、Ｐ又はLa）の金属アルコキシド、又はシリカのコロイド状懸濁液、
(b) 式：[X-(CH₂)_n ] _x -Si(OR)_4-x（Ｘはスルフヒドリル、アミノ、イソシアナト、（メタ）アクリロイル、エチルアクリロイル、ビニル、フェニル、アニリノ、ウレイド、チオシアナト、ニトリロ又はエポキシ基、ｎは０〜３、ｘは１〜３）のオルガノ珪酸化合物、
(c) エチレングリコール、（メタ）アクリル酸、マレイン酸又はフタール酸、ビニル、アクリルアミド又はエチレンオキシド、を主成分とするモノマー、及び
(d)フリーラジカル開始剤。 （もっと読む）

【課題】 レーザー発光量が十分に高く且つ十分に長寿命の色素レーザーを提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｘは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Ｒ^１は低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Ｒ^２は低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する色素レーザー素子と、励起用光源と、共振機とを備えることを特徴とする色素レーザー。 （もっと読む）

【課題】低屈折率且つ高硬度なシリケート成分を含むコーティング層が形成され、下層となる層との密着力に優れ、良好な耐擦傷性を有する反射防止積層体を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基材フィルムの一面側に他の層を介して内部にナノポーラス構造を有する低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、前記ナノポーラス構造を有する低屈折率組成物が、少なくとも、（Ａ）１分子中に３個以上の電離放射線で硬化する官能基を有するモノマーと、（Ｂ）シリケート化合物とを含有するバインダー成分、および、（Ｃ）塗工液に調製するための液状媒体中に分散させることが可能で且つ平均粒子径５ｎｍ〜３００ｎｍの微粒子を含み、該他の層が、水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接接合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含むことを特徴とする反射防止積層体。 （もっと読む）

本発明は、（Ａ）少なくとも１種のホスホン酸ジエステルおよび／または少なくとも１種のジホスホン酸ジエステルと、（Ｂ）少なくとも２つの縮合性シラン基を有する少なくとも１種の化合物とを含むシラン基含有混合物中でのホスホン酸ジエステルおよびジホスホン酸ジエステル（Ａ）の使用に関する。また、本発明は、硬化材料、特に塗膜の製造のためのシラン基含有混合物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）