【課題】抗菌性酸及びそれらの塩を提供すること。
【解決手段】本発明は、新規な酸性シロキサン誘導体、特に物品及び／又は材料の保護のための抗菌、防腐及び／又は抗付着効果をもたらすためのこの種のシロキサン誘導体の使用、使用の方法又は使用するプロセス、及び新規な化合物の製造プロセスに関する。
前記シロキサン酸（塩形態でもあり得る）は、式Ｉ
【化１】


式ＩＩ
【化２】


及び／又は式ＩＩＩ
【化３】


（式中、記号は明細書において与えられる意味を有する。）を有する。 （もっと読む）

【課題】表面滑り性が良く、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の被膜を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で示される含フッ素オルガノポリシロキサン（Ｚ^２Ｑ）_βＲｆ（ＱＺ^１Ａ_α）_２−β （１）［Ｒｆは２価のパーフロロエーテル残基を含む基、Ｑは２価の有機基、Ｚ^１はシルアルキレン結合を含んでいてよい、２〜９価のオルガノポリシロキサン残基、αは１〜８の整数、βは０より大きく２未満の数、Ｚ^２は下記式（２）で示される１価の基、
−（Ｓｉ（Ｒ^１）_２−Ｏ）_ｂ−Ｓｉ（Ｒ^１）_３ （２）
（ｂは１〜１０の整数、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基である）、及びＡは、下記式（３）で示される１価の基である
−Ｃ_ＣＨ_２Ｃ−Ｓｉ（Ｒ^２）_３−ａＸ_ａ （３）
（Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基であり、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｃは１〜６の整数である）］。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面への汚染物質の付着を抑制することができ、十分な遮熱機能を発揮することができる塗料組成物を提供する。
【解決手段】塗料用樹脂の固形分１００重量部に対し、赤外線透過性粉体及び／または赤外線反射性粉体を１〜２００重量部、シリケート化合物をＳｉＯ_２換算で０．１〜２０重量部含有し、前記シリケート化合物として、テトラアルコキシシラン縮合物（ａ）が、一分子中に水酸基を３個以上有し分子量が５００未満である多価アルコール（ｂ）によって変性された変性シリケート化合物を含む。 （もっと読む）

ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

本発明は、付着性及び着色性が改善されたシロキサン系コーティング組成物に係り、さらに具体的に、オルガノシランのゾル−ゲル反応を高温で行って生成された有機−無機ゾルに、水素結合及び縮合反応が可能なアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、メチロール基、アンハイドライド基、及びイソシアネート基からなる群より選択される１種以上の官能基を含む化合物を添加することによって製造されるシロキサン系コーティング組成物、その製造方法、及びこれから製造される光学レンズに関する。
前記コーティング組成物の着色性は高温でゾル−ゲル反応を行うことによって改善され、基板に対する付着性は水素結合及び縮合反応が可能な化合物を転化することによって改善される。従って、本発明のコーティング膜は、着色性及び基板に対する付着性が優れているので、眼鏡、産業安全ゴーグル、レジャー用ゴーグルなどのプラスチックレンズの表面のコーティング膜として好ましく適用される。 （もっと読む）

【課題】表面用保護剤としての、ピペリジニル官能基を１つ以上有するポリオルガノシロキサンを含む組成物の提供。
【解決手段】ピペリジニル官能基を１つ以上有するポリオルガノシロキサンを含む洗浄／保護組成物は、ＵＶ−又は酸化−誘発損傷等の環境曝露からのビニル、プラスチック及び他の硬質表面の保護において有用である。 （もっと読む）

防汚材料は、殺生物特徴および／または汚れ放出特徴を提供する多数の適当な共重合体（例えば、ブロック共重合体、グラフト共重合体等）のうちの一つ以上を含み得る。共重合体には、ポリシロキサン骨格にグラフトされた一つ以上の重合体を含むポリシロキサン骨格が含まれ得る。 （もっと読む）

【課題】反射率が極めて低く、良好な光線透過率、帯電防止性を有し、表面の耐擦傷性が特に優れる反射防止フィルム、およびそれを組み込んだ画像表示装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムの片面に、ハードコート層、アクリル系樹脂および導電性金属酸化物微粒子を主成分とする高屈折率層および、シリカ系微粒子と均質化されているシロキサンポリマーを主成分とする低屈折率層の少なくとも３層が、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の順で該基材フィルム上に積層されている反射防止フィルムであって、下記シロキサン化合物（１）と下記シロキサン化合物（２）からなる縮合体化合物が、該高屈折率層中に、該高屈折率層に対して０．００１〜２０質量％含まれている反射防止フィルム。 （もっと読む）

【解決手段】式(1)のフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又は式(1)の化合物と式(2)のシラン化合物との混合物を含フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応する被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法。


R⁴_dSｉ(OR⁵)_4-d (2)
【効果】ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等各種基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率的に形成できる。 （もっと読む）

【課題】長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、よってＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電および画像出力が可能な帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】支持体、該支持体上に形成された導電性弾性層、および、該導電性弾性層上に形成された表面層を有する帯電部材において、帯電部材の表面層が、フッ化アルキル基およびオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【課題】 優れた機械的強度を備え、かつ非常に低い誘電率を安定的に示し、各種の薬剤に対する耐薬品性を兼ね備えた多孔質シリカ質膜を簡便に製造することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質材料の製造法の提供。
【解決手段】 ポリアルキルシラザン化合物、アセトキシシラン化合物、有機溶媒、および必要に応じて多孔質化材、を含んでなるコーティング組成物、そのコーティング組成物を焼成することにより得られたシリカ質材料、ならびにその製造法。 （もっと読む）

シリコン含有の第４級アンモニウム基を含む抗菌性ポリマーであって、該ポリマーはその構造中、化学式II；Ｒ_３Ｎ^＋Ｒ^０_ｎＳｉＸ′_４−ｎＹ⁻（II）の繰り返し単位を含み、式中のＲおよびＲ^０はそれぞれ独立して、非加水分解性有機基であり；Ｘ′はそれぞれ、−ＯＲ′、−ＯＨまたは−Ｏ−Ｓｉ、そのＲ′は炭素数１から約２２のアルキル基または炭素数６のアリール基であり；ｎは０から３の整数であり；Ｙは化学式IIの繰り返し単位の塩を形成するのに適したアニオン性の部分であることを開示する。また、そのようなポリマーの製造方法や、前記ポリマーを使って基材に持続性の抗菌特性を付与する方法を開示する。 （もっと読む）

本発明は、アミノメチル末端のポリジメチルシロキサンと、ジイソシアナートと、場合により鎖長延長剤との反応から得られた一般式（１）
Ｂ−｛［ＮＲ^４−ＣＲ^２_２−ＳｉＲ_２−（Ｏ−ＳｉＲ_２）_ｎ−ＣＲ^２_２−ＮＲ^４−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−ＮＨ−ＣＯ］_ａ−［Ｚ−Ｄ−Ｚ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−ＮＨ−ＣＯ］_ｂ−［ＮＲ^４−ＣＲ^２_２−ＳｉＲ_２−（Ｏ−ＳｉＲ_２）_ｎ−ＣＲ^２_２−ＮＲ^４−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−ＮＨ−ＣＯ］_ｃ｝_ｄ−Ｂ
のオルガノポリシロキサン／ポリ尿素／ポリウレタン−ブロックコポリマー、その製造方法並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】新規な粉体分散安定剤を提供し、優れた分散安定性を有する粉体分散組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（ａ）で表される両末端シリコーン変性グリセリンからなる粉体分散安定剤及びこれを配合する粉体分散組成物である。
（ａ）


式中、Ｒ１は炭素数１〜１２の直鎖又は分岐アルキル基、もしくはフェニル基であり、Ｒ２は炭素数２〜１１のアルキレン基であり、ｍは１０〜１２０、ｎは１〜１１である。 （もっと読む）

【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式（１）又は（２）の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化１】


［Ｒ¹はアルキル基又はアリール基、Ｒ²はアルキル基、Ｒ³¹は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、Ｒ³²〜Ｒ³⁴は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、Ｒ³⁵はエステル結合含有二価有機基、Ｒ³⁶は二価炭化水素基、ａは０〜２、Ｚは式（３）
【化２】


の基、Ｒは水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ²はアルキル基、０＜ｍ≦１、０≦ｎ≦２、０≦ｐ＜３、０≦ｑ≦３、０＜ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＜４］ （もっと読む）

【課題】比較的低温での硬化が可能であり、酸素存在下の光硬化によっても良好な硬化性を示し、硬化物の硬度が高く、低屈折率で優れた反射防止性能を示す硬化性樹脂組成物並びにこれを用いた積層体、および反射防止材を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物が、成分（Ａ）：無機粒子存在下において合成することにより無機粒子が重合体内に分散しているフッ素含有重合体を少なくとも１成分とする。硬化性樹脂組成物には、成分（Ｂ）：重合開始剤、及び成分（Ｃ）重合性シリカも含有させることが好ましい。 （もっと読む）

電子デバイス上に反射防止膜を形成する方法であって、（Ａ）電子デバイスに、（ｉ）式（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（式中、Ｐｈはフェニル基であり、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｍ＋ｎ≒１である）を有するシルセスキオキサン樹脂と、（ｉｉ）溶媒とを含むＡＲＣ組成物を塗布すること、及び（Ｂ）溶媒を除去すると共に、シルセスキオキサン樹脂を硬化させて、電子デバイス上に反射防止膜を形成することを含む反射防止膜の形成方法。 （もっと読む）

式：
（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂ（ＳｉＯ_４／２）_ｃ
式中、Ｒが、Ｚ、Ｚ（ＣＨ_２）_ｎ、もしくはＺＯ（ＣＨ_２）_ｎであり、ここで、Ｚが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、ｎが、値１〜６を持ち、ａが、値０．０１〜０．７を持ち、ｂが、値０．０５〜０．７を持ち、ｃが、値０．１〜０．９を持ち、ａ＋ｂ＋ｃ≒１
を持っているシロキサン樹脂。本シロキサン樹脂は、抗反射コーティング組成物において、有用である。 （もっと読む）

本発明は、新規なポリマー被覆金属酸化物を提供することを目的とする。本発明のポリマー被覆金属酸化物は、ポリマーがシロキサン骨格を有する。本発明のポリマー被覆金属酸化物の製造方法は、シロキサン骨格を有するポリマーの溶液に、金属酸化物を接触させる方法である。これにより、ポリマーを金属酸化物の表面に結合させることができる。ここで、ポリマーは分岐構造を有することが好ましい。また、その分岐構造を有するポリマーがデンドリティックポリマーであることが好ましい。また、金属酸化物が、ガラス、シリカゲル、酸化チタン、チタン酸バリウム、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化ニッケル、酸化鉄などであることが好ましい。 （もっと読む）