【課題】ハードコート特性と防錆機能を有する高分子組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
Ｒ_４−ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ’）_ｎ
（式中、Ｒはアミノ基含有の有機基を表わし、Ｒ’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、ｎは１〜３から選択される整数を表わす）；及び
（ｂ）Ｈ_３ＢＯ_３及びＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される少なくとも１種のホウ素化合物：
を、（ａ）成分１モルに対して（ｂ）成分０．０２モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
（ｃ）イミダゾール系窒素へテロ環化合物、トリアゾール系窒素へテロ環化合物、テトラゾール系窒素へテロ環化合物、及びピラゾール系窒素へテロ環化合物、並びにこれらの化合物の塩から成る群から選択される少なくとも一種の化合物と、
を含む、高分子組成物。 （もっと読む）

【課題】既存の基材に適応でき、常温での塗膜形成が可能で、高い日射遮蔽能と優れた膜強度を得ることができること。
【解決手段】バインダー成分、希釈溶媒、硬化触媒および近赤外線遮蔽成分とを含有する日射遮蔽膜形成用塗布液であって、前記バインダー成分の少なくとも１種がグリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランを混合反応させてなる反応物であり、かつ前記近赤外線光遮蔽成分が、平均粒径２００ｎｍ以下の複合タングステン酸化物に加え、さらに、平均粒径２００ｎｍ以下の六ホウ化物の中から選ばれた少なくとも１種、平均粒径２００ｎｍ以下のＡＴＯ、平均粒径２００ｎｍ以下のＩＴＯのうち少なくとも１種以上の微粒子を混合したものである。 （もっと読む）

【課題】溶剤への溶解性、及び、硬化膜の耐摩耗性の点で改良された表面処理剤を提供する。
【解決手段】少なくとも１のパーフロロポリエーテルブロックと、少なくとも１の、シルアルキレン基を含んでいてよいポリオルガノシロキサンブロックを含み、両末端に下記式（１）で示される基を１つずつ有し、数平均分子量（ポリスチレン換算）７０００〜２５０００である、パーフロロポリエーテル−ポリオルガノシロキサン共重合体


(Ｘは加水分解性基であり、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基であり、ｙは１〜５の整数であり、ａは２又は３である) （もっと読む）

【課題】 耐熱透明性が良好であり、かつ、平坦性が優れた耐熱透明性を有するカラーフィルター基板保護膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 グリシジル基含有ビニル単量体を必須構成単量体としてなるポリマー（Ａ）、多価カルボン酸無水物（Ｂ）及び２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン（Ｃ）を含有し、ポリシロキサン（Ｃ）が下記一般式（１）で表されるシラン化合物（ｃ１）を必須構成単量体とする縮合物である、カラーフィルター基板保護膜用熱硬化性樹脂組成物（Ｑ）。
【化４】


式中、Ｒ¹は（メタ）アクリロイロキシアルキル基、グリシドキシアルキル基、メルカプトアルキル基、及びアミノアルキル基からなる群から選ばれる１種以上の有機基、Ｒ²は炭素数１〜１２の脂肪族飽和炭化水素基または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０または１である。 （もっと読む）

【課題】親水性に優れ、且つ、良好な耐久性を有し、透明性、保存安定性にも優れた表面親水性層を与える親水性膜形成用組成物を提供すること。基材表面に親水性膜を備えてなる、表面親水性とその持続性に優れた親水性部材を提供すること。
【解決手段】 (Ａ)分子内に水酸基を2個以上含有するアルキレンオキシド化合物と、（Ｂ）Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される元素を含むアルコキシド化合物と、（Ｃ）ポリマー末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーを含有する親水性膜形成用組成物および該親水性膜形成用組成物を塗設してなる親水性部材。 （もっと読む）

【課題】防汚性、防曇性に優れ、良好な耐摩擦性を有する親水膜を形成するのに用いられる塗布組成物を提供すること。また、該塗布組成物により形成された親水膜を備えた、防汚性、防曇性及びその持続性に優れた表面を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定熱分解性ポリマー（１）又は特定熱分解性ポリマー（２）、及び、（Ｂ）Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される元素のアルコキシド化合物を含有する塗布組成物。 （もっと読む）

本発明は、新規ペルフルオロポリエーテルシラン類、該新規ペルフルオロポリエーテルシラン類を含有する組成物類、並びに基材、特に、セラミックス又はガラスなどの硬質表面を有する基材を処理して、それらに撥水性、撥油性、防染性、及び／又は防汚性を与える方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびに前記絶縁膜形成用組成物を用いたシリカ系絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）成分；下記一般式（３）で表される構造を有するカルボシランとを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・・・（１） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・・（２）


・・・・・（３） （もっと読む）

本発明は、付加重合可能、重縮合可能な、又は重合可能なシロキサン及び／又はシランの少なくとも１つの重合生成物と、少なくとも１つの粒状固体を含有する粒子を提供し、その際、前記粒状固体の平均粒度は、粒状固体なしのポリマー粒子の平均粒度よりも小さい。 （もっと読む）

本発明は、中屈折及び高屈折シロキサン系コーティング組成物、その製造方法、及びこれから製造される光学レンズに関し、より詳細には、オルガノシラン、屈折率が１．７乃至３．０である無機酸、アルミニウムアセチルアセトン、Ｃ_１−Ｃ_５のアルキルセロソルブ、及び溶媒を含むシロキサン系コーティング組成物、その製造方法、及びこれから製造される光学レンズに関する。
前記シロキサン系コーティング組成物は、透明でべたつきがなく、長期間の保存安定性が優れていて、光学レンズ、産業安全ゴーグル、またはレジャー用ゴーグルなどのプラスチックレンズの表面のコーティング膜として適用可能である。 （もっと読む）

本発明は、付着性及び着色性が改善されたシロキサン系コーティング組成物に係り、さらに具体的に、オルガノシランのゾル−ゲル反応を高温で行って生成された有機−無機ゾルに、水素結合及び縮合反応が可能なアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、メチロール基、アンハイドライド基、及びイソシアネート基からなる群より選択される１種以上の官能基を含む化合物を添加することによって製造されるシロキサン系コーティング組成物、その製造方法、及びこれから製造される光学レンズに関する。
前記コーティング組成物の着色性は高温でゾル−ゲル反応を行うことによって改善され、基板に対する付着性は水素結合及び縮合反応が可能な化合物を転化することによって改善される。従って、本発明のコーティング膜は、着色性及び基板に対する付着性が優れているので、眼鏡、産業安全ゴーグル、レジャー用ゴーグルなどのプラスチックレンズの表面のコーティング膜として好ましく適用される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種類のフルオロシランと、少なくとも１種類のアミノシランとを含む組成物、前記フルオロシランと前記アミノシランとの縮合生成物、及びそれによって調製された表面保護剤に関するものである。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有すると共に、耐薬品性、防汚性に優れたコーティング材組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｂ）の加水分解性オルガノシランとシリカ系金属酸化物微粒子とを混合した状態で、（Ａ）及び（Ｂ）の加水分解性オルガノシランを加水分解した第一の加水分解物と、（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｃ）の加水分解性オルガノシランとを共重合した、一方の末端にフッ素置換アルキル基を有する第二の加水分解物と、を含有する。
（Ａ）一般式がＳｉＸ_４（Ｘは加水分解基）
で表わされる加水分解性オルガノシラン、
（Ｂ）撥水基を直鎖部に備えると共にアルコキシ基が結合したシリカ原子を分子内に２個以上有する加水分解性オルガノシラン、
（Ｃ）フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシラン （もっと読む）

本発明は、（Ａ）少なくとも１種のホスホン酸ジエステルおよび／または少なくとも１種のジホスホン酸ジエステルと、（Ｂ）少なくとも２つの縮合性シラン基を有する少なくとも１種の化合物とを含むシラン基含有混合物中でのホスホン酸ジエステルおよびジホスホン酸ジエステル（Ａ）の使用に関する。また、本発明は、硬化材料、特に塗膜の製造のためのシラン基含有混合物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜形成用組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物が，粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】
プラスチック成形体表面に対し、シランカップリング剤によるカップリング処理を行った後、前記プラスチック成形体表面に金属被膜を形成している。
しかしながら、シランカップリング剤の塗布方法を用いると、前記プラスチック成形体基材表面に余分なシランカップリング剤が残り、残った前記シランカップリング剤が前記密着性の向上を邪魔し、適切に前記密着性を向上させることが出来ないという課題があった。

【解決手段】
プラスチック成形体基材と金属被膜間の密着性を向上させたプラスチック成形体ならびに前記プラスチック成形体を用いた物品を提供するために、プラスチック成形体基材の表面に単分子膜を形成する工程と、（ｂ）前記単分子膜上に、金属被膜をメッキ形成する工程を用いて、プラスチック基材の表面が基材表面に共有結合した単分子膜を介して金属被膜で被われているプラスチック成形体を提供する。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などに用いられる層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能であり、かつ誘電率特性、膜強度に優れた膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法
【化１】


一般式（I）中、
Ｒ¹およびＲ²は各々独立に水素原子または置換基を表し、複数個存在するＲ¹およびＲ²のうち少なくとも１つは一般式（II）で表される基を表す。
ｍは４〜３０の整数を表す。
（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ− (II)
一般式（II）中、Ｒ³は水素原子または置換基を表す。
複数個存在するＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも１つは重合性基を表す。
ただし、Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、均一な厚さに形成可能で、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】式（I）で表される化合物、および、ビニル基またはエチニル基を分子内に計２個以上有する化合物、または、それらの重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法。


式（I）中、Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ独立にＨまたは置換基、複数個のＲ¹，Ｒ²両者の置換基のうち１つは（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ−で表される基。ｍは４〜３０を表す。Ｒ³はＨまたは置換基。複数個のＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも２つはＨを表す。Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基が有する特性を固体表面に効率的に付与することのできる新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される、含フッ素有機基とアルコキシシリル基とを同時に持つシルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはアルコキシシリルを有する基であり、Ｒ¹は炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから独立して選択される基であって、いずれも、任意の少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）

【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基の有する特徴を種々の固体に対して効果的に付与することのできる、複数個の含フッ素有機基を有し、且つ反応活性の高い新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 以下の式（I）で表される含フッ素有機基を有する完全縮合型構造シルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはハロゲン化シリル基を有する基であり、Ｒ¹は独立して炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから選ばれる基であって、いずれも、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）