【課題】従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、微細構造体及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上２０１で高分子ブロック共重合体に熱アニールを行ってミクロ相分離させ、高分子ブロック共重合体の第１セグメントを成分とする連続相中２０４で、高分子ブロック共重合体の第２セグメントを成分とする複数のミクロドメイン２０３を規則的に配列させる高分子薄膜の製造方法において、前記高分子ブロック共重合体の第２セグメントは、前記高分子ブロック共重合体の主鎖に対して、次式−（ＣＨ_２）_ｎ−で示されるアルキル鎖（但し、前記式中、ｎは、５≦ｎ≦２４を満足する整数である）を含む有機基を介して結合されるシルセスキオキサン骨格を有している。 （もっと読む）

【課題】白濁や相分離が抑制され、硬化後に高誘電特性を有し、かつ、耐付着物性、低分子量成分のブリードアウト抑制が長期間維持されるポリシロキサン含有膜形成用の組成物を提供する。
【解決手段】所定の２種類の加水分解性シラン化合物に対して、所定の加水分解性チタン化合物を０．０１〜０．３モル％の割合で含む加水分解性化合物の混合物を、水及びアルコールの存在下で加水分解させて得た、該加水分解性シラン化合物と該加水分解性チタン化合物との縮合物と、エポキシ変性シリコーンオイルと、光重合開始剤とを含むことを特徴とするポリシロキサン含有膜形成用の組成物。 （もっと読む）

【課題】 成膜温度が１２０℃〜２００℃でリーク電流値が１０^−８Ａ／ｃｍ^２以下の塗布膜が形成できるとともに、高誘電体膜との積層により低リーク電流及び高比誘電率がシリコン窒化膜と同等以上の特性が得られる誘電体層形成用塗布液及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の誘電体層形成用塗布液は、一般式Ｓｉ（ＯＲ^１）_ａ、及びＲ^２_ｂＳｉ（ＯＲ^３）_ｃで表されるＳｉアルコキシド、これらの部分加水分解物及び縮合物から選ばれる一種以上のＳｉアルコキシド誘導体を主成分として有機溶剤に溶解してなる。ここで、Ｒ^１及びＲ^３はそれぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２以上の置換基である。ａはＳｉの価数であり、ｂ、ｃはそれぞれ１以上の整数でｂ＋ｃがＳｉの価数である。 （もっと読む）

【課題】大きな出力をだすことができる電池の提供。
【解決手段】電極活物質として、下記一般式（１）で表される部分構造を有するポリラジカル化合物を用いる。
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【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板１上に、アルキル基がＳｉに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒，シリカ粒子を混合したペースト材料２ａをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、６０〜１００℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、２００℃〜３００℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜２ｂを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で１５％含有するペースト材料３ａを、第一段階で形成した膜２ｂ表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜３ｂの膜厚が約０．５μｍとなるように塗布し、乾燥，熱硬化処理を行い、前記膜２ｂを酸化ケイ素を主体とした膜４とする。 （もっと読む）

【課題】無機部分の割合が大きく、製造時の安定性および保存安定性が良好であり、オキセタニル基を有する、縮合されたケイ素化合物を含有するカチオン硬化性組成物を提供する。
【解決手段】オキセタニル基を有する特定のケイ素化合物（Ａ）と１個のケイ素原子および４個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物（Ｂ）とを、ケイ素化合物（Ａ）１モルに対してケイ素化合物（Ｂ）０．３〜２．８モルの割合で、アルカリ性条件において加水分解・縮合反応させて得られるケイ素化合物（Ｃ）、およびカチオン重合開始剤を含有するカチオン硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高温処理を行なう必要なく、低誘電率で且つ高い機械的強度を有する被膜を形成することができる低誘電率被膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】低誘電率粒子とマトリクス形成材料とを含有する低誘電率被膜形成用樹脂組成物に関する。低誘電率粒子が、テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、２つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させた後、酸溶液中で４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を抽出することによって調製されたメソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決課題】 工業的に好ましい材料であるシロキサン重合体を用いて、従来のシロキサン重合体によるものよりも機械強度に優れる多孔質膜を形成し得る、新たな方法により合成されたシロキサン重合体、それを含有する膜形成用組成物、多孔質膜の形成方法及び形成された多孔質膜、並びに、この多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 加水分解性シラン化合物の加水分解縮合によるシロキサン重合体の製造方法において、一般式（１）
（ＳｉＯ_1.5−Ｏ）_n^n-Ｘ⁺_n （１）
（但し、ＸはＮＲ₄を表し、Ｒは炭素数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、各々独立して互いに同じでも異なってもよい。また、ｎは６から２４の整数を表す。）
で表されるシルセスキオキサンのケージ化合物塩を準備し、該シルセスキオキサンのケージ化合物塩に、加水分解性シランを加水分解して縮合したシロキサン重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】改良された機械的かつ熱的特性を有する自立性シリコーン樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】式 Ｏ_(3-a)/2Ｒ¹_aＳｉ−ＳｉＲ¹_bＯ_(3-b)/2 （Ｉ）を有するジシリロキサン単位および粒子形状のシロキサン単位を含むシリコーン樹脂；シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物；硬化生成物またはシリコーン樹脂の酸化生成物を含む被覆基材；および補強シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】成膜性が良好であり、感光性を有し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】かご状シルセスキオキサン構造が平均１箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均１個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体と、感光剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤などの酸を使用することなく、十分なコントラストで感光性を発現し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる感光性かご状シルセスキオキサン化合物を提供すること。
【解決手段】本発明は、キノンジアジド構造を有することを特徴とするかご状シルセスキオキサン化合物である。これにより、光酸発生剤などの酸を使用することなく、十分なコントラストで感光性を発現し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】重合体が有機溶媒可溶性及び良好な成膜性を有し、かつ成膜後に焼成した膜が有機溶媒に不溶であり、かつ耐クラック性を満たすようなかご状シルセスキオキサン重合体を提供すること。
【解決手段】本発明のかご状シルセスキオキサン重合体は、かご状シルセスキオキサン構造が少なくとも２箇所で他のかご状シルセスキオキサン構造と結合しているシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造は、環状構造を含む官能基を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、低誘電性に優れた新規な可溶性のポリヘドラルシルセスキオキサンを提供し、そのポリヘドラルシルセスキオキサンによって形成された膜により、所要の透明性、耐熱性、表面硬度、密着性を満たすとともに、リワーク性に優れ、また下地基板上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜を形成しうる硬化性樹脂組成物、該組成物から形成された保護膜、ならびに該保護膜の形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるポリヘドラルオルガノシルセスキオキサン、およびこれより得られる膜
【化１】


〔式（１）中、RPｈ基はRで置換されたフェニル基を表し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基、あるいは、オリゴジメチルシロキサニル基などのオリゴシロキサニル基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 優れた機械的強度を備え、かつ非常に低い誘電率を安定的に示し、各種の薬剤に対する耐薬品性を兼ね備えた多孔質シリカ質膜を簡便に製造することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質材料の製造法の提供。
【解決手段】 ポリアルキルシラザン化合物、アセトキシシラン化合物、有機溶媒、および必要に応じて多孔質化材、を含んでなるコーティング組成物、そのコーティング組成物を焼成することにより得られたシリカ質材料、ならびにその製造法。 （もっと読む）

低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

2種の異なるジハロシランおよび1種のトリハロシランの混合物を、有機液体媒体中でアルカリ金属カップリング剤と反応させることによって、分岐状ポリシランコポリマーがウルツ型カップリング反応経由で調製される。この分岐状ポリシランコポリマーは、反応混合物から回収される。キャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、この反応混合物へのキャッピング剤の添加によって、同じウルツ型カップリング反応経由で調製される。キャッピング剤は、モノハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、またはトリアルコキシシランである。分岐状ポリシランコポリマーおよびキャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、有機液体媒体に可溶性である。 （もっと読む）

【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第１段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第２段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。 （もっと読む）

本発明は有機シロキサン樹脂及びこれを用いた絶縁膜に関するものであって、１種以上のハイドロシラン化合物を含むシラン化合物の縮重合体である有機シロキサン樹脂を有機溶媒に溶解した溶液を基体に塗布し形成した絶縁膜を乾燥及び硬化し製造した絶縁膜は機械的物性及び低誘電性が優秀であるため、高集積化半導体素子として適合に使用ことができるという効果がある。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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【課題】溶媒に可溶であり、成膜性が良好であり、耐熱性が高く、かつ膜厚が厚くても高温下でクラックが発生しにくい膜が得られる含シルセスキオキサン化合物を提供すること。
【解決手段】本発明の含シルセスキオキサン化合物は、カゴ状シルセスキオキサン構造と、部分開裂型カゴ状シルセスキオキサン構造とを有する含シルセスキオキサン化合物であって、含シルセスキオキサン化合物中におけるカゴ状シルセスキオキサン構造と部分開裂型カゴ状シルセスキオキサン構造との間の比率がモル比で（カゴ状シルセスキオキサン構造）：（部分開裂型カゴ状シルセスキオキサン構造）＝１：９９〜９５：５であることを特徴とする。 （もっと読む）