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Fターム[4K022AA43]の内容

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Fターム[4K022AA43]に分類される特許

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【課題】元素周期律表のVIII族の少なくとも一種の貴金属(必要に応じてチタンおよび/またはジルコニウムをさらに含む)の金属酸化物の被膜を鋼または鉄からなる導電性基材上に形成する方法と、上記金属酸化物で被覆された導電性基材から得られる活性カソードと、アルカリ金属塩化物水溶液の電気分解でのその使用。
【解決手段】アセチルアセトナト金属を溶解する溶媒中に溶解させたアセチルアセトナト金属またはアセチルアセトナト金属の混合物の非水溶液からなる唯一の溶液を導電性基材上に塗布し、被覆基材を乾燥、焼成する。 (もっと読む)


【課題】 環境汚染となるクロム酸や過マンガン酸等を使用せずに、多数の微小突起を有する導電性無電解めっき粉体を製造し得る方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の導電性無電解めっき粉体の製造方法では、芯材粉体と半導体粒子とを液体に懸濁させた状態下に光を照射して、該粉体の表面を親水化させると共に該粉体の表面に該半導体粒子を付着させ、次いで親水化され且つ該半導体粒子が付着した状態の該粉体の表面に、無電解めっきにより金属皮膜を形成する。芯材粉体及び半導体粒子として、その粒径比(前者/後者)が10〜105のものを用いる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、透明性、緻密性、密着性等に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記スプレー装置が、上記金属酸化物膜形成用溶液を霧化するためにエアーを使用しない方式の装置であることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】電池性能(放電容量や高率放電特性等)を損なうことなく、特に高温下において電池としての耐久性(サイクル寿命特性)を発揮するニッケル−水素二次電池の実現を可能とする被覆水素吸蔵合金粒子を、簡便且つ温和な条件で安価に提供し得る新規な製造方法を提供する。
【解決手段】ニッケルイオン源を含む無電解めっき液(A)中にチタン系化合物(B)を分散させてなる分散液中で、触媒化処理した水素吸蔵合金粒子(C)を無電解複合めっき処理することにより、チタン系化合物(B)が分散したニッケル金属被覆層を該粒子(C)の表面に形成させる。 (もっと読む)


【課題】 基材上に炭素薄膜を形成する際の熱処理による膜厚の減少が抑制された複合材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が0.1分子/nm以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、従来のスプレー熱分解法による熱分解成膜と比較して、より低い基材加熱温度で金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基板とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が、酸化剤および還元剤の少なくとも一方を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】めっき形成された金属皮膜に微細なクラックが生じるのを回避することができるようにする。
【解決手段】Zn成分が含有されたセラミック素体6の表面に導電部7が形成され、無電解Niめっきにより前記導電部7上にNi−P皮膜8が形成されたセラミック多層基板において、無電解Niめっきを施す前に錯化剤溶液で被めっき物を処理してZn成分を溶出させ、これによりNi−P皮膜8中のZn元素の含有量を0.6重量%以下に制御する。このようにZnの溶出処理を行なうことにより、セラミック素体6の表面6″からの深さAが少なくとも5μm以下の表層部6′におけるZn定元素の含有量は、表層部6′以外の領域よりも少なく、かつ表層部6′におけるZn元素の含有量が、セラミック素体6の内部から表面6″側へ略傾斜状に減少するように形成されている。
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本発明は、触媒前駆体樹脂組成物及びこれを利用した透光性電磁波遮蔽材の製造方法に係り、より詳しくは、(a)反応性低重合体;(b)反応性単量体;(c)光重合開始剤;(d)非電着性メッキ用触媒前駆物質;及び(e)溶媒を含む触媒前駆体樹脂組成物及びこれを利用した透光性電磁波遮蔽材の製造方法に関するものである。
本発明の触媒前駆体樹脂組成物は基材との接着性に優れた紫外線硬化型樹脂を含んでいて、電磁波遮蔽材の製造時に別途の前処理作業が必要でなく、電磁波遮蔽材の製造が容易である。 (もっと読む)


【課題】 ITO膜と金属膜との密着性、かつ、直線性に優れ、更に高精細化が可能な積層型の電極や配線に適用しうる導電性パターン材料、及びその製造方法を提供すること。
また、断線や短絡のない積層型の電極を構成する導電性パターン材料を複合電極として備え、高精細化が可能なPDPを提供すること。
【解決手段】 基板上にパターン状に設けられたITO膜表面に、グラフトポリマーを直接結合させて、該グラフトポリマーに導電性材料を付着させてなることを特徴とする導電性パターン材料。
基板上にITO膜を設ける工程と、該ITO膜表面にグラフトポリマーを直接結合させる工程と、該グラフトポリマーに導電性材料を付着させる工程と、
を有し、前記グラフトポリマーを直接結合させる工程の前又は後に、前記ITO膜をパターニングする工程を有することを特徴とする導電性パターン材料の製造方法、該製造方法により得られた導電性パターン材料を適用したPDP。 (もっと読む)


【課題】 効果的に厚付けメッキのできる無電解スズメッキ浴を開発する。
【解決手段】 ベース酸として次亜リン酸を1.3モル/L以上含有し、次亜リン酸以外の無機酸又は有機酸を含有しないか、或は、ベース酸として次亜リン酸及び補助酸を含有し、次亜リン酸の含有量が1.3モル/L以上であり、補助酸の含有量が0.5モル/L以下である無電解スズメッキ浴である。有機スルホン酸などに代えて、ベース酸の主体を次亜リン酸に切り替えるため、メッキ速度が速く、効果的な厚付けメッキができる。また、スズ皮膜のレベリング性も充分に確保できる。 (もっと読む)


【課題】 密着性の高い無電解ニッケルメッキ層を形成する方法における各処理工程で使用する処理液の提供。また、前記方法による液晶ディスプレイ(LCD)用ガラス基板とLCDの提供。
【解決手段】アルカリ洗浄、テクスチャー処理、センシタイジング、アクチベーティング、及び、無電解ニッケルメッキからなる工程を経てガラス表面にニッケルメッキ層を形成する方法において、アルカリ洗浄液は、フッ化カリウム、酸性フッ化カリウム及び水酸化カリウム含有水溶液を、テクスチャー処理液は、酸性フッ化アンモニウム及び酸性フッ化カリウム含有水溶液を、センシタイジング処理液は、第一スズイオン及びパーフルオロアルキル基含有界面活性剤を含有する水溶液を、表面調整処理液は、フッ化カリウム含有水溶液を使用する。前記方法によりブラックマトリックスを形成したLCD用ガラス基板を製造し、このガラス基板を使用したLCDを製造する。 (もっと読む)


基板と、パターニングされた導電性金属相とを備えていて、その導電性金属相が、還元可能な可溶性金属塩と、還元触媒と、還元剤の組み合わせの逐次的インクジェット噴射または同時インクジェット噴射によって基板上に選択的に堆積された物品。層構造を有する基板上では、その選択的に堆積された導電性金属相が、基板の微細構造と絡み合う。このような物品の形成方法も提示する。この方法の特別な一実施態様では、基板表面への導電相の選択的堆積は、まず最初に、還元可能な可溶性金属塩と還元触媒を含む組成物を所定の領域にジェット噴射した後、還元可能な金属塩と還元剤を含む組成物をその同じ所定の領域にジェット噴射することを含む。 (もっと読む)


【課題】 安価で、且つ、長期間にわたり集電性が良好なアルカリ蓄電池用正極、及び安価で、且つ、長期間にわたり充放電効率が良好なアルカリ蓄電池を提供する。
【解決手段】 本発明のアルカリ蓄電池用正極は、樹脂からなり三次元網状構造を有する樹脂骨格と、ニッケルからなり樹脂骨格を被覆するニッケル被覆層とを備え、複数の孔が三次元に連結した空隙部を有する正極基板と、水酸化ニッケル粒子を含む正極活物質であって、正極基板の空隙部内に充填された正極活物質と、を備えている。このうち、ニッケル被覆層の平均厚みは、0.5μm以上5μm以下であり、正極基板に占めるニッケル被覆層の割合は、30重量%以上80重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】負極ゲルの活物質に水銀無添加の亜鉛を主成分とする合金を用いた筒形アルカリ電池の耐漏液性とくに過放電状態での耐漏液性を向上させる。
【解決手段】負極ゲル18の活物質に水銀無添加の亜鉛を主成分とする合金を用い、その負極集電子25として銅または銅を主成分とする合金を用いる筒形アルカリ電池10ににあって、上記負極集電子25の表面にSnを無電解メッキするとともに、その無電解メッキ(251)の厚さを0.05〜0.095μmとする。 (もっと読む)


【課題】 高いメッキ密着力を効率良く得るための、液晶性ポリマー成形品のメッキ前処理方法を提供する。
【解決手段】 シリカを20〜60重量%(組成物中)含有する液晶性ポリマー組成物より得られる成形品を、アルカリ性水溶液で処理し、次いでフッ化物水溶液で処理する液晶性ポリマー成形品のメッキ前処理方法。
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ペロブスカイト構造AMeOで、Aがランタンと、ランタンおよびストロンチウムの組み合わせとのうちのすくなくとも1つであり、Meが1つ以上の遷移金属であるペロブスカイト構造AMeOと、リチウム化されたNiO(LixNiO、ここでxは0.1から1である)と、XをドープしたLiNiO(XはMg、 CaおよびCoのうちの1つである)とのうちの1つを含む伝導性セラミックの薄膜コーティングを有する炭酸塩燃料電池のカソード側のハードウェアである。
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【課題】酸化イリジウムコーティングの製造方法を開示する。
【解決手段】上記製造方法は、Xが1または2の整数であるコロイド状のIrOXで表面をぬらす工程a)と、該コーティングした表面を乾燥させる工程b)と、該表面を300〜1000℃の温度で焼成する工程c)と、を含む。工程a)から工程c)を必要な層の厚さが得られるまで繰り返す。IrOXのコーティングを製造するための最初の成分にコロイド状のIrOXを使用することで、焼成工程において有毒ガスの発生を防ぐことができる。
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二酸化スズ含有触媒コーティングを有する電気化学的プロセスのための電極を、スズ(IV)ヒドロキシクロリドを含む前駆体溶液から出発して製造する。二酸化スズの堆積のプロセスは、高い収率及び改良された再現性を特徴とする。 (もっと読む)


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